JP4412910B2 - 低りん脱酸銅の鋳造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、低りん脱酸銅の鋳造方法及びその方法によって製作した低りん脱酸銅鋳塊、並びに低りん脱酸銅製品に関し、特に、低りん脱酸銅のりん濃度規格を満足し、品質の良い低りん脱酸銅鋳塊を提供することができる低りん脱酸銅の鋳造方法及びその方法によって製作した低りん脱酸銅鋳塊、並びに低りん脱酸銅製品に関する。
【０００２】
【従来の技術】
銅系製品はその組成により純銅系と銅合金系に大別されており、純銅系はＪＩＳ規格により酸素濃度が低い無酸素銅（酸素濃度１０ｐｐｍ以下）、溶湯に酸素を含有させて不純物を酸化させて除去したタフピッチ銅（酸素濃度１００〜６００ｐｐｍ程度）、及び銅溶湯をりんにより脱酸した低りん及び高りんの２種類のりん脱酸銅（りん濃度０．００４〜０．０１５％未満及び０．０１５〜０．０４％）の３種に分類される。
【０００３】
このうち無酸素銅は最も高純度であり、熱伝導度や電気伝導度において最良のものであるが、真空溶解や雰囲気溶解をする必要があり、製造にあたり特殊な設備が必要になるため製造コストが高くなる。りん脱酸銅はりんが残存するため、無酸素銅に比べて電気伝導率が低下するが依然高いレベルであり、製造には無酸素銅のような特別な設備が不要であることから比較的安価に生産でき、また機械的な性質は無酸素銅と同等であるため熱交換器や電気・電子部品用として管や板に加工されて広く使用されている。銅溶湯に添加されたりんは溶湯中の酸素と化合することにより溶湯を脱酸し、脱酸により消費されなかったりんは溶湯中に残存し、鋳塊となる。銅中に残存するりんは少量でも銅の電気及び熱の伝導率を低下させるため、電気伝導率が無酸素銅の８０〜８５％程度に低下する。なお、りんの濃度が多いと、応力腐食割れの感受性が高くなるため、特に応力腐食割れを起こしたくない用途には低りん脱酸銅が、それ以外には高りん脱酸銅が通常用いられる。低りん脱酸銅はりんの濃度が高りん脱酸銅より少ないため、酸化によりりんが失われやすく、溶解鋳造の難易度は高りん脱酸銅より高いといえる。
【０００４】
公知技術として知られている低りん脱酸銅の鋳造方法として、シャフト炉で溶解した電気銅の溶湯を保持炉に移送した後、保持炉にてＣｕ−Ｐなどの中間合金によりりんを添加して、低りん脱酸銅のりん濃度規格である０．００４質量％以上０．０１５質量％未満にしてから鋳型へ連続的に鋳造する方法がある。この方法によれば、りん濃度の規格値を満足する低りん脱酸銅の製造は可能であるが、以下に示す問題点が挙げられる。
【０００５】
先ず、製造時における安全性の観点から、保持炉の扉を開けてりんを添加して攪拌するので高温作業となり作業員への負担が大きく危険である。
【０００６】
次に、品質上の観点から、保持炉の扉を開けたときに大気が侵入し、溶湯の酸化や水素吸収が発生するおそれがある。
【０００７】
更に、製造効率の観点から、添加されたＣｕ−Ｐ中間合金は、Ｃｕより密度が小さく溶湯上部に留まりやすく、保持炉溶湯のりん濃度を均一にするためには時間がかかる等の問題があり、特にりん濃度の低い低りん脱酸胴をこの方法で安定して作製することは難しい。
【０００８】
従って、以上のように、鋳造工程において保持炉の扉を開け閉めすることなく、また、溶湯に添加したりん濃度を、比較的短時間の内に攪拌して脱酸する鋳造方法として、以下の鋳造方法が挙げられる。電気銅地金のみ、もしくは前記電気銅地金と純銅系屑を原料として、これらをシャフト炉にて還元性雰囲気で溶解した後、一旦保持炉へ送り、前記保持炉から、移湯樋を通して連続的に鋳型へ供給する際に、前記移湯樋で、りん濃度を調整しながら、前記溶湯中に不活性ガスを吹込んで前記溶湯を攪拌しながら脱酸することにより、前記溶湯中の酸素量を１０ｐｐｍレベル以下まで低減させるりん含有低酸素銅鋳塊の連続鋳造法がある。（例えば、特許文献１参照）
【０００９】
このようなりん含有低酸素銅鋳塊の連続鋳造方法は、シャフト炉で得た溶湯を保持炉で酸化処理（精錬）し、水素をはじめとする酸化性不純元素を除去してから移湯樋へ送り、前記移湯樋にて、りん濃度の調整および脱酸処理を行うことで、一層高品質のりん含有低酸素銅を得ることができる。また前記においては、最終的に得られるりん含有低酸素銅中のりん濃度を調整することによって、りん含有による障害を殆ど生じることなくその添加効果（特に高強度化）を有効に発揮させることができる。
【００１０】
次に、このようなりん含有低酸素銅鋳塊の製造装置１０１は、図２に示すように、不純物含量の少ない電気銅地金もしくはこれと純銅系屑を原料１０２とし、これをシャフト炉１０３により還元性雰囲気で溶解した後、この溶湯を一旦保持炉１０４へ送り、前記保持炉１０４から移湯樋１０５を通じて連続的に鋳造装置１０６へ供給して鋳造を行う際に、移湯樋１０５上でりん濃度を調整すると共に、無酸素銅の酸素量レベルまでの脱酸を連続的に行ってりん含有低酸素銅が得られる様にしたものである。これにより、製造装置１０１は、前記シャフト炉１０３を用いたりん脱酸銅製造設備をうまく活用してりん含有低酸素銅を効率良く製造することを可能にしたものであり、移湯樋１０５上で無酸素銅の酸素レベルまで脱酸を行うことを最大の特徴とするものである。
【００１１】
前記シャフト炉１０３を用いたりん脱酸銅製造工程では、脱酸剤１０７としてりんを添加することにより溶湯中の酸素はＰ2Ｏ5として除去される。このとき溶湯中にはりんの一部が混入するので、りんは脱酸剤として作用するだけではなく、強度向上のためのりん源としても有効に活用されるが、このりん脱酸法で達成することのできる酸素濃度はせいぜい２０〜４０ｐｐｍまでであり、無酸素銅に求められる１０ｐｐｍ以下の酸素量を達成することはできない。
【００１２】
そこで、銅溶湯中内に不活性ガス１０８を吹き込み、この不活性ガス１０８の気泡内に溶湯中のＣＯ2を拡散移行させてから該ガス気泡と共に溶湯表面に浮上させる方法を採用すれば、銅溶湯が移湯樋を移送する比較的短時間の内に酸素量を１０ｐｐｍ以下に低減し得ることが可能であり、又、この不活性ガス１０８の吹込み時には、回転ノズル１０９を用いて行い、その回転によって溶湯を攪拌して不活性ガス１０８を鋳湯樋１０５内の銅溶湯全体に均一に行き渡らせると共に、その回転によってノズル先端部で吹込みガス気泡を剪断して該気泡を微細化することによって、不活性ガス気泡の表面積拡大によってＣＯ2捕捉効果が高められ、脱酸を一層効率よく進められることが可能であることが知られている。
【００１３】
以上が、りん濃度を調整しながら、銅溶湯中に不活性ガスを吹込んで溶湯を攪拌しながら脱酸するりん含有低酸素銅鋳塊の連続鋳造法であるが、鋳造工程において保持炉の扉を開け閉めすることなく、また、溶湯に添加したりん濃度を、比較的短時間の内に攪拌して脱酸するその他の鋳造方法として、ガス燃焼方法による脱酸銅の連続鋳造方法がある（例えば、特許文献２参照）。
【００１４】
このようなガス燃焼方法による脱酸銅の連続鋳造法は、シャフト炉又は保持炉から連続鋳造装置までの溶銅を移送し、移送中の溶銅中に脱酸剤を添加する工程において、溶銅移送過程の前半部の保温又は加熱をガス燃焼式とし、後半部の保温又は加熱を電気加熱式とし、前半部に溶銅中の酸素量を連続測定しうる酸素測定用プローブを溶銅移送方向に複数個設置し、これらの間で溶銅移送方向に対し、酸素量が増加又は無変化の傾向を有するようにガス燃焼を調整し、電気加熱式移送過程の溶銅中に連続して脱酸剤を添加することを特徴とするものである。
【００１５】
次に、このような脱酸銅鋳塊の製造装置２０１としては、図３に示すように、電気銅地金を原料２０２とし、これをシャフト炉２０３でブタンガス燃焼により溶解し、得られた溶銅はブタンガス燃焼による前半部移湯樋２０４を通じて電気加熱式保持炉２０５に移送される。又、前記前半部移湯樋２０４には、空気調整弁２０７を有するバーナー２０６が設けられ、前記バーナー２０６は前記空気調整弁２０７の開度を調整することにより、前記シャフト炉２０３から出る溶銅の酸素量を常に増加又は無変化の傾向を有するように、溶銅移送方向に配置された複数個の酸素測定用プローブ２０８により制御している。
【００１６】
前半部移湯樋２０４を通じて電気加熱式保持炉２０５に移送された前記溶銅は、前記保持炉２０５で溶銅の温度、成分組成の調整を行い、電気加熱式の後半部移湯樋２０９を通じて鋳造装置２１１の直前に設けた鋳造樋２１０に移送し、連続鋳造が行われる。又、電気加熱式の後半移湯樋２０９内の溶銅中に、脱酸剤又は／及び合金成分元素を連続的に添加することにより、酸化物の析出やガス気泡の発生の少ない比重の高い脱酸銅鋳塊が連続的に鋳造することが可能であることが知られている。
【００１７】
【特許文献１】
特開平６−２１２３００号公報（段落番号〔００１０〕、〔００１１〕、〔００１４〕、〔００１５〕、及び図１）
【特許文献２】
特開昭５９−１３５４６号公報（５頁左下欄の８〜２０行目、右下欄の１〜２０行目、６頁右上の１〜７行目、９頁右上欄の５〜２９、右下欄の１〜６行目、及び図３）
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】
先ず、特開平６−２１２３００号公報に開示された、りん含有低酸素銅鋳塊の連続鋳造法によれば、酸素濃度の低い脱酸銅の製造は可能であるが、以下に示す問題点が挙げられる。
【００１９】
製造効率の観点から、シャフト炉で溶解した溶湯を、保持炉から移湯樋を通じて鋳型へ供給し連続鋳造を行う際に、前記移湯樋でりん濃度を調整した後、銅溶湯中の酸素量を１０ｐｐｍレベル以下まで低減させるために、前記銅溶湯への不活性ガス吹込み作業が必要になる。また、この際には、回転ノズルを用いて、ノズルの回転により前記銅溶湯を攪拌して不活性ガスを樋内の銅溶湯全体に行き渡らせることにより脱酸処理を行うため、前記攪拌により銅溶湯中が酸化することで酸素量が増加し、酸素濃度にばらつきが生じる。従って、りんをその都度その都度添加する作業が新たな工程として必要になる。
【００２０】
製造時における安全性の観点から、生産設備の構成上、移湯樋を流れる溶湯の深さは必然的に浅くなるため、不活性ガスの吹き込み及び溶湯の攪拌によっては、銅溶湯が飛散することで、作業員が火傷をする等、作業環境が悪化する。
【００２１】
鋳塊の品質面の観点から、前記攪拌作業に伴ない溶湯が酸化され、水素ガスの吸収が起こりやすく、鋳造後のりん含有低酸素銅鋳塊の内部にピンホール欠陥や表面にブローホール欠陥が生じ、品質的に安定したものが得られない。
【００２２】
２番目に、特開昭５９−１３５４６号公報に開示された、脱酸銅鋳塊の連続鋳造法によれば、酸素濃度の低い脱酸銅の製造は可能であるが、以下に示す問題点が挙げられる。
【００２３】
製造費の観点から、原料として酸素量濃度の低い電気銅地金を使用するため、原料費が上がると共に、前半移湯樋内の酸素量を連続測定するために設けられた酸素測定プローブが高価で、且つ寿命が短いため、製造コストが高くなる。
【００２４】
鋳塊の品質上の観点から、溶解鋳造作業中に酸素測定プローブが破損した場合は、交換するまではプローブ無しで、装置を稼働させるため、前半移湯樋内の銅溶湯の酸素量が変化し所定量から外れた場合、鋳造した鋳塊中にガス気泡が多く発生することに伴ない鋳塊の比重が低下し、品質的に安定した脱酸銅鋳塊が得られない。
【００２５】
本発明は、前記の問題点に鑑み創案されたものであり、回転ノズル等の器具を用いた不活性ガスの吹き込みや攪拌、また、酸素測定用プローブを用いて銅溶湯中の酸素量の連続測定を必要とせずに、従来よりも、品質の良い低りん脱酸銅を提供することができる低りん脱酸銅の鋳造方法及びその方法によって製作した低りん脱酸銅鋳塊、並びに低りん脱酸銅製品を提供することを目的とする。
【００２６】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る低りん脱酸銅鋳塊の鋳造方法は、りん濃度０．０１５質量％以上０．０４質量％以下のりん脱酸銅のスクラップからなる第１原料に、電気銅地金、無酸素銅のスクラップ、及びりん濃度０．００４質量％以上０．０１５質量％未満のりん脱酸銅スクラップからなる群より選択された少なくとも１種からなる第２原料を、前記第１原料の配合量が２５〜８０質量％になるように配合してなる配合原料を、シャフト炉で溶解し、その溶湯を吹き込み及び攪拌装置による攪拌を行わずに誘導電流により生じる電磁力により攪拌して鋳型に鋳造することにより、りん濃度０．００４質量％以上０．０１５質量％未満の鋳塊を製造することを特徴とする低りん脱酸銅の鋳造方法とした（請求項１）。
【００２７】
前記の構成によれば、第１原料と第２原料とを用いることにより、溶湯を吹き込み及び攪拌装置による攪拌をせずに誘導電流により生じる電磁力により攪拌し、鋳型に鋳造して、０．００４質量％以上０．０１５質量％未満の鋳塊を製造することができる。
【００２８】
本発明に係る低りん脱酸銅鋳塊の鋳造方法は、りん濃度０．０１５質量％以上０．０４質量％以下のりん脱酸銅のスクラップからなる第１原料に、電気銅地金、無酸素銅のスクラップ、及びりん濃度０．００４質量％以上０．０１５質量％未満のりん脱酸銅スクラップからなる群より選択された少なくとも１種からなる第２原料を、前記第１原料の配合量が２５〜８０質量％になるように配合してなる配合原料をシャフト炉で溶解し溶湯とする第１工程と、前記第１工程の溶湯を移湯樋により前記シャフト炉から保持炉に移す第２工程と、前記第２工程の溶湯を前記保持炉に溜める第３工程と、前記第３工程の溶湯を前記保持炉から鋳型に分配樋を通じて注湯し、前記鋳型でりん濃度０．００４質量％以上０．０１５質量％未満の鋳塊とする第４工程とを含み、前記第１工程乃至第４工程を還元性または不活性雰囲気で行い、かつ、前記第２工程乃至前記第４工程において吹き込み及び攪拌装置による攪拌を行わずに誘導電流により生じる電磁力により攪拌することを特徴とする低りん脱酸銅の鋳造方法とした（請求項２）。
【００２９】
前記の構成によれば、第１原料と第２原料とを用いることにより、溶湯を吹き込み及び攪拌装置による攪拌をせずに誘導電流により生じる電磁力により攪拌し、鋳型に鋳造して、０．００４質量％以上０．０１５質量％未満の鋳塊を製造することができる。さらに、シャフト炉、移湯樋、保持炉、及び保持炉より下流側の全てが、還元性または不活性雰囲気下であるため、銅溶湯は酸化されにくい。
【００３０】
本発明に係る低りん脱酸銅鋳塊の鋳造方法は、前記第４工程において、前記鋳型に注湯する直前の溶湯温度が１１００〜１２００℃である鋳造方法とした（請求項３）。
【００３１】
前記の構成によれば、銅溶湯の分配樋への注湯温度が、銅の融点である１０８３°Ｃ以上であるため、銅溶湯が分配樋からノズルを通じて鋳型に注湯される際に、銅溶湯が凝固せず前記ノズルがつまることはない。また、前記注湯温度が、１２００℃以下であるため、溶湯の酸化あるいは水素ガス吸収が生じにくい。
【００３６】
本発明に係る低りん脱酸銅鋳塊の鋳造方法は、前記還元性または不活性雰囲気を、不活性ガス、還元性ガス、赤熱木炭カバー、及びフラックスカバーの少なくとも１つにより形成されることを特徴とする低りん脱酸銅の鋳造方法とした（請求項４）。
【００３７】
前記の構成によれば、低りん脱酸銅鋳塊の鋳造工程は、全て還元性または不活性雰囲気下となるため、銅溶湯は酸化されにくい。
【００３８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について添付の図面を参照して具体的に説明する。図１は本発明の実施形態に係る低りん脱酸銅鋳塊の鋳造工程を示す図である。本発明の低りん脱酸銅鋳塊は、シャフト炉３、移湯樋６、保持炉７、及び連続鋳造装置９から構成される鋳造設備１により鋳造される。先ず、配合原料２を構成要素とする低りん脱酸銅、及び鋳造設備１における各部位について説明する。
【００３９】
一般に、低りん脱酸銅は、押広性、曲げ性、絞り加工性、溶接性、耐食性、耐候性、及び電気及び熱の伝導性がよいため、用途としては、熱交換器用、電気・電子部品用、化学工業用、ガス用等に使用可能である。また、りん濃度が、０．００４質量％以上０．０１５質量％未満であり、組成としては、銅及びりんの濃度の合計値が９９．９５質量％以上であること、即ち、不純物の濃度が合計で０．０５質量％以下であることが望ましい。なお、不純物とは、Ｆｅ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ａｇ、Ｐｂ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｓ等の元素であり、電気銅地金、スクラップなどにより不可避的に混入される元素である。
【００４０】
銅にりんが添加されると電気抵抗が大きくなる分、電気伝導度が下がり、又、応力腐食割れが発生しやすくなる。特に、管、板、棒等を用途とする材料には、応力腐食割れが発生しにくい材質であることが要求されるため、りん濃度は低いことが望ましい。
【００４１】
高周波炉であるシャフト炉３は、炉大径上が円筒竪型の溶解炉で、炉の底部にガスバーナー４が放射状に取付けられ、原料装入口５から投入された配合原料２は、下方に進むにしたがって加熱され、炉の底部より溶銅（以下、溶湯と称する。）が取り出される。前記ガスバーナー４の燃料としては、天然ガス、ブタン、プロパンなどが用いられ、これらのガスと空気との混合比を特定の値に制御することにより、溶湯を酸化させないように、且つ、溶湯に水素が吸収されないように、生成する燃焼ガスを還元性に保っている。
【００４２】
移湯樋６は、シャフト炉３で溶解された前記配合原料２の溶湯を保持炉７に移すための樋であり、前記シャフト炉３で溶解された溶湯が移送の際に、酸化されないように、前記シャフト炉３と同様な還元性の燃焼炎、不活性ガス（Ａｒ、Ｎ2）等により被覆可能な構造を有するものである。また、前記構造による被覆にくわえ、あるいは代えて、移湯樋６を流れる溶湯を赤熱木炭や炭素粒子で覆った構造とすることも可能である。
【００４３】
低周波炉である保持炉７は、前記シャフト炉３より供給された溶湯のりん濃度の均一化、及び溶湯の昇温を行うための炉である。前記シャフト炉３により前記移湯樋６を通じて保持炉７に供給される溶湯は、りん濃度が場所により異なるため、保時炉７で均一化することが必要である。また、保持炉７は、炉体の下部に設けられたインダクタ８の誘導電流により保持炉７内の溶湯を加熱し、また、前記誘導電流により生じる電磁力により保持炉７内の溶湯を攪拌して、溶湯中のりん濃度を均一にするための炉である。
【００４４】
連続鋳造装置９は、鋳造用樋１０、分配炉１１、ノズル１２、鋳型１３から構成され、溶湯を、連続鋳造により鋳塊１４に成形する装置である。鋳造用樋１０は前記保持炉７内の溶湯を受けるための樋、分配炉１１は前記鋳造樋１０中の溶湯を分配するための樋、また、ノズル１２は前記分配炉１１で分配された溶湯を鋳型１３に注湯するための黒鉛製のノズル、更にまた、鋳型１３は前記ノズル１２から注湯される溶湯を鋳塊に成形する型である。なお、鋳造用樋１０、分配炉１１には、前記保持炉７から移送される溶湯が酸化されないように前記移湯樋６と同様な酸化防止策が、また、溶湯が水素を吸収しないように加熱乾燥及び木炭の赤熱が、それぞれ施されている。
【００４５】
次に、本発明の低りん脱酸銅鋳塊の鋳造方法について図１を用いて説明する。
本発明の低りん脱酸銅鋳塊は、りん濃度０．００４質量％以上〜０．０１５質量％未満を有する低りん脱酸銅Ｃ１２０１の鋳塊であり、りん濃度０．０１５質量％以上〜０．０４質量％以下を有する高りん脱酸銅Ｃ１２２０のりん濃度を、その他の原料で薄めることにより製造される。
【００４６】
製造における第１工程として、先ず、りん濃度０．０１５質量％以上０．０４質量％以下のりん脱酸銅スクラップからなる第１原料と、電気銅地金、無酸素銅のスクラップ、及びりん濃度０．００４質量％以上０．０１５質量％未満のりん脱酸銅のスクラップから選択された少なくとも１種からなる第２原料を配合して、低りん脱酸銅鋳塊の配合原料２とした後、シャフト炉３で溶解し溶湯とする。
【００４７】
また、原料の配合割合は、Ｃ１２２０のスクラップを２５〜８０質量％とし、残りを電気銅地金、無酸素銅スクラップ、及びＣ１２０１のスクラップの少なくとも１種または２種以上とし、目標配合りん濃度となるように配合比率を決定すれば良い。また、本発明の溶解鋳造法においても、前記原料を溶解後、若干のりんが酸化により失われるため、原料の配合時において目標とするりん濃度に対して、りんを最大で３０質量％多めにしておくことが望ましい。
【００４８】
例えば、りん濃度が０．０１質量％になるように配合した原料を溶解鋳造し、製作された鋳塊のりん濃度が０．００９０質量％になる場合は、原料のりんが１０質量％減少していることから、原料においては目標組成より１０質量％程度大目にりんを配合する。なお、原料から鋳塊までのりんの減少率は溶解鋳造工程の雰囲気管理により影響を受け、溶湯が空気に触れる機会が少ないほどりんの減少率が小さくなることも考慮にいれる。
【００４９】
なお、高りん脱酸銅Ｃ１２２０、低りん脱酸銅Ｃ１２０１、及び無酸素銅のそれぞれのスクラップとは、前記おのおのの鋳塊、熱間加工材、冷間加工材などより発生する製品にならなかった部分、鋳塊、熱間加工材、冷間加工材の製作工程で発生する切り落とし材や事故品（疵などによりその後の工程に進めないもの）などの材料である。
【００５０】
前記スクラップの組成はＪＩＳに規定されている通りであるが、電気及び熱伝導性、加工性（曲げ加工など）、加工熱処理条件の安全性を確保するために、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｓ、Ｓｂ、及びＡｓなどの不純物元素は合計で０．０５質量％以下であることが望ましい。なお、原料として用いる前にスクラップより採取した試料を何チャージか分析して不純物の濃度を確認しておけばよい。また、スクラップの形状は、鋳塊切断材のような円柱状あるいは角柱状、または板状、棒状、管状、線状など特に制限は無い。
【００５１】
電気銅地金は、ＪＩＳＨ２１２１に規定されている成分のものを用いると良い。電気銅はＣｕイオンの溶解した電解液よりＣｕを陰極に析出させることにより製作されるため、その形状は通常厚さ５〜２０ｍｍの矩形状（一辺１〜２ｍ程度）であるが、シャフト炉に装入する場合は、そのままの形状あるいは切断して入れることも可能である。
【００５２】
本発明において、シャフト炉内を還元性に保持した場合には、溶湯は酸化されず、また、溶湯に水素が吸収されないため、品質に優れた低りん脱酸銅を提供することができる。
【００５３】
配合原料２がシャフト炉３に装入されると、シャフト炉３の底部では溶湯となるが、この状態では溶銅中におけるりんの濃度は、濃い部分と薄い部分が存在し、りんの濃度は均一ではない。従って、前記溶湯を鋳造する前に、他の炉に一旦移送して、前記溶湯を攪拌することにより、溶湯中のりんの濃度を均一にすることが必要となる。
【００５４】
そこで、前記シャフト炉３から出湯された配合原料２すなわち溶湯は、移湯樋６を通じて保持炉７へ移送される。前記シャフト炉３で溶解された溶湯が移湯樋６で酸化されないように、移湯樋６には前記シャフト炉３と同様にガスバーナー４を溶湯の流れ方向に沿って複数設け、還元性の燃焼保炎、不活性ガス（Ａｒ、Ｎ2）などにより被覆可能な構造としておく。また、このようなガスによる被覆に加え、あるいは代替として、移湯樋６を流れる溶湯を赤熱木炭や炭素粒子で覆うことも可能である。以上のような被覆において、溶湯が水素を吸収しないように、還元炎の雰囲気管理、不活性ガスの露点管理、木炭の十分な赤熱、移湯樋６そのものの十分な加熱などの処置が施される。
【００５５】
このように本発明において、移湯樋６を還元性雰囲気とすることで、溶湯は酸化されず、また、溶湯に水素が吸収されないため、品質に優れた低りん脱酸銅を提供することができる。
【００５６】
次に、前記移湯樋６から移送された溶湯は、保持炉７に移送される。保持炉７内の溶湯は、低周波誘導加熱により攪拌され、前記溶湯中の脱酸及びりんの希釈が行われる。保持炉７内の溶湯は、保持炉７の下部に設けられたインダクタ８の誘導電流により、鋳造温度より２０〜５０°C程度高い温度に昇温され加熱される。また、インダクタ８の誘導電流により生じる電磁力により攪拌されて溶湯中のりん濃度が均一化される。なお、この時、必要に応じて保持炉７内の溶湯より試料を採取して、りん、酸素、及び水素などの濃度の調査を行うことも可能である。尚、保持炉７においても、溶湯の酸化、すなわちりん濃度の減少を防止する必要があることより、保持炉７中における溶湯の加熱及び攪拌は、溶湯表面が赤熱木炭のカバーで覆われた還元性雰囲気で行われるものとする。
【００５７】
このように本発明において、保持炉７は誘導電流により加熱される誘導炉であることから、攪拌装置を使用せずに溶湯は攪拌されるため、低りん脱酸銅の製造コストが安くなる。また、攪拌は密閉された保持炉内にて行われるため、溶湯が外部に飛散することがなく、鋳造作業が安全であり環境改善につながる。更にまた、保持炉７は赤熱木炭を被覆しているため、溶湯からの熱放射が押さえられ、炉の操業効率の向上にもつながる。
【００５８】
次に、保持炉７から出湯された溶湯は、最終的に連続鋳造装置９に供給される。なお、連続鋳造鋳造装置９は、鋳造用樋１０、分配樋１１、ノズル１２、鋳型１３から構成され、前記溶湯を、連続鋳造により鋳塊１４に成形する装置である。鋳塊１４の成形にあたっては、前記保持炉７から供給される溶湯は、長さ１〜３ｍ程度の鋳造用樋１０を介して分配樋１１に移送され、前記分配樋１０から黒鉛などのノズル１２を介して、鋳造温度１１００〜１２００°Ｃの範囲で、鋳型１３に注湯される。尚、本発明における鋳造温度とは、鋳型１３上に設けられた分配樋１１で測定した鋳造温度である。
【００５９】
このように本発明において、鋳造温度を１１００〜１２００°Ｃとすることで、溶湯が凝固することがないため、鋳造中に溶湯がノズルにつまる等の不具合がなく鋳造後の低りん脱酸銅は品質の良いものが得られる。また、溶湯の酸化あるいは水素ガス吸収が生じ難いため、鋳塊の割れ、熱間加工割れ、水素脆性などの問題は生じ難くい品質的に優れた低りん脱酸銅鋳塊を提供することができる。
【００６０】
また、前記保持炉７の溶湯を鋳型１３に注湯する際には、鋳造用樋１０及び分配樋１１において、溶湯が酸化されないように、前記シャフト炉３と前記保持炉７を繋ぐ前記移湯樋６と同様な酸化防止対策を行った状態で注湯する。また同時に、前記鋳造用樋１０及び前記分配樋１１において、溶湯が水素を吸収しないように、前記鋳造用樋１０及び前記分配樋１１を、加熱乾燥、木炭の赤熱でカバーした状態で注湯する。さらにまた、溶湯の温度低下を押さえるために、耐火物のカバーを鋳造用樋１０及び分配樋１１にそれぞれ設けることも可能である。
【００６１】
このように本発明において、鋳造用樋１０及び分配樋１１を還元性または不活性の状態にすることで、品質に優れた低りん脱酸銅を提供することができる。
【００６２】
【実施例】
以下、本発明について、具体的に説明する。
【００６３】
（第１の実施例）
Ｃ１２２０のスクラップ（りん濃度０．０２質量％）からなる第１原料に、電気銅地金（りん濃度０質量％）、無酸素銅のスクラップ（りん濃度０質量％）、及びＣ１２０１のスクラップ（りん濃度０．０１質量％）からなる第２原料を配合した配合原料をシャフト炉で溶解後、保持炉（誘導炉）に１５ｔｏｎの溶湯を受け、前記保持炉で昇温後溶解鋳造を行う本発明の特許請求範囲である鋳造法（実施例１〜７）と、これに対し、電気銅地金（りん濃度０質量％）のみを原料とし、シャフト炉で溶解後、保持炉で昇温後、鋳造用樋においてＣｕ−１５質量％Ｐ中間合金（粒状）を所定量添加しながら鋳造を行う本発明の請求範囲外である鋳造法（比較例１〜２）により鋳塊をそれぞれ鋳造した。そして、各鋳塊について、鋳塊上下部におけるりん濃度が所定値内にあるか否かの評価を行った結果を表１に示す。なお、表１において、りん濃度と記載されているのは、実施例１〜７については、配合原料のりん濃度より算出した原料全体におけるりん濃度であり、比較例１，２については、原料である電気銅地金の量と前記したＣｕ−１５質量％Ｐ中間合金の添加量から算出したりん濃度である。
【００６４】
さらにまた、実施例１〜７と、比較例１〜２のそれぞれの鋳塊上下部における水素濃度と酸素濃度の確認、及び鋳造後の鋳塊における欠陥の有無の確認を行った結果を表２に示す。
【００６５】
尚、りん濃度の目標値は、０．００７〜０．０１２質量％とし、鋳塊の鋳造にあたっては、実施例及び比較例共に、溶湯の酸化防止策として、保持炉内の溶湯表面は溶湯表面が露出しない程度の厚さの赤熱木炭で被覆し、更に乾燥窒素ガスを流通させている。溶湯は、１１４０〜１１８０°Ｃの鋳造温度で鋳型に注湯され、直径３００ｍｍ、長さ５０００ｍｍの寸法を有する鋳塊が、１回当たりの連続鋳造工程にて５本鋳造され、分析にあたっては、前記５本のうち中央の鋳塊を試料として使用した。
【００６６】
表１における、鋳塊中のりん濃度分析値は、それぞれ左側が鋳塊の上部（鋳造後期に対応）、右側が鋳塊の下部（鋳造初期に対応）における分析結果である。また、りん濃度評価の欄における「○」とは、鋳塊上下部が共にりん濃度の目標値である０．００７〜０．０１２質量％内であったことを示し、「×」とは、鋳造上下部のいずれか一方がりん濃度の目標値である０．００７〜０．０１２質量％の範囲外であったことを示す。次に、表２における、水素及び酸素濃度の測定値は、それぞれ左側が鋳塊の上部、右側が鋳塊の下部における測定結果であり、また、評価の欄の「○」とは鋳塊に欠損無がなく良品であったことを示し、評価の欄の「×」とは鋳塊に欠損が有り不良品であったことを示す。
【００６７】
【表１】
【００６８】
【表２】
【００６９】
表１の結果より、本発明の実施例１〜７のいずれもが、りん濃度の規定値である０．００４質量％以上０．０１５質量％未満にあり、且つ、目標とするりん濃度０．００８〜０．０１２質量％にほぼ近い組成の鋳塊が得られる結果となった。また、鋳塊上下部におけるりん濃度のばらつきが、最大でも０．００２質量％程度であり、鋳塊においては、りん濃度に対する鋳造後の鋳塊中のりん濃度、すなわちりんの歩留まりは、実施例１が７１〜８６％、実施例２が８０〜９１％、実施例３が８０〜９０％、実施例４が８０〜９０％、実施例５が８０〜９０％、実施例６が７８〜８９％、実施例７が８０〜９０％と高い結果となった。なお、実施例１〜７のいずれの鋳塊においても、鋳塊の上部が下部よりりんの濃度が少ないが、これは鋳造時間（約１時間）の間に、保持炉内の溶湯がわずかに酸化されていくことによる影響と推察される。
【００７０】
比較例１より、配合原料が本発明の請求範囲と異なる場合は、鋳造後の鋳塊上部におけるりん濃度は０．００３質量％となり、りん濃度の規定値である０．００４質量％以上０．０１５質量％未満を満足しない。また、鋳塊上下部におけるりん濃度の差は０．００７質量％（上部０．００３質量％、下部０．０１０質量％）であり、部位に応じてりん濃度の差が大きな鋳塊となることから、所定のりん濃度を有する鋳塊を、目的の寸法で得ることは難しい。更にまた、鋳塊におけるりん濃度の歩留まりは、２０〜６７％となり、実施例１〜７に比べて小さい鋳塊となる。
【００７１】
比較例２より、配合原料が本発明の請求範囲と異なる場合は、鋳造後の鋳塊下部におけるりん濃度は０．０１７質量％となり、りん濃度の規定値である０．００４質量％以上０．０１５質量％を満足しない。また、鋳塊上下部におけるりん濃度の差は０．００９質量％（上部０．００８質量％、下部０．０１７質量％）であり、部位に応じてりん濃度の差が大きな鋳塊となることから、所定のりん濃度を有する鋳塊を、目的の寸法で得ることは難しい。更にまた、鋳塊におけるりん濃度の歩留まりは、４０〜８５％となり、実施例１〜７に比べて小さい鋳塊となる。
【００７２】
表２の結果より、本発明の実施例１〜７のいずれもが、鋳塊上部と下部では、水素濃度及び酸素濃度が安定しており、また、鋳塊にはピンホールやブローホール等の欠陥は見られない。
【００７３】
比較例１より、鋳塊上下部における水素濃度及び酸素濃度の差は、それぞれ０．６質量ｐｐｍ（上部０．６質量ｐｐｍ、下部１．２質量ｐｐｍ）、１０６質量ｐｐｍ（上部１５６質量ｐｐｍ、下部５０質量ｐｐｍ）でありばらつきが大きい。比較例２より、鋳塊上下部における水素及び酸素濃度の差は、それぞれ１．６質量ｐｐｍ（上部１．０質量ｐｐｍ、下部２．６質量ｐｐｍ）、５５質量ｐｐｍ（上部６４質量ｐｐｍ、下部９質量ｐｐｍ）でありばらつきが大きい。また、鋳塊底部において水素によるブローホールが発生し鋳塊欠陥となる。
【００７４】
鋳造方法が、本発明の請求範囲と異なる場合は、鋳造後の鋳塊中のりん濃度がが規定値である０．００４〜０．０１５質量％を満足せず、鋳造後の鋳塊上下部におけるりん濃度、水素濃度、及び酸素濃度に大きな差が生じ、また、鋳塊底部に水素によるブローホールが発生し鋳塊欠陥となる。
【００７５】
（第２の実施例）
次に、第１の実施例における実施例１〜７、及び比較例１、２の鋳塊より長さ５００ｍｍのビレットを切断し、これらのビレットの、熱管押出による割れの有無、焼鈍による膨れの有無、水素脆性化の有無を確認した。なお、比較例１の鋳塊については、りん濃度の規格値を外れた上側を除く鋳塊下側を、比較例２の鋳塊については、ブローホール発生部を除く鋳塊上側を、それぞれ使用した。
【００７６】
切断後のビレットを、８５０℃に加熱後熱間押出した。押出し後、圧延、抽伸し、誘導過熱により連続焼鈍し、その後、更に抽伸して外径９ｍｍ、肉厚０．５ｍｍの平滑管レベルワウンドコイルとした。このレベルワウンドコイルをローラーハース炉で連続的に焼鈍した。焼鈍されたレベルワウンドコイルより１００ｍ毎に長さ０．３ｍの管を１０本採取して膨れの有無を目視観察した。さらに、膨れの無いものは水素気流中で０．５時間加熱した後冷却し、断面を光学顕微鏡により観察し、水素脆化の有無を確認した。確認結果を表３に示す。
【００７７】
【表３】
【００７８】
表３の結果より、本発明の実施例１〜７のいずれもが、水素濃度及び酸素濃度が規定値内を満足するため、熱間押出による割れの問題は発生せず、また、押出材より製作した平滑管においても焼鈍による膨れ及び水素脆性とも発生しなかった。
【００７９】
比較例１の鋳塊より製作した平滑管は酸素の濃度が多いため、水素気流中で加熱すると、粒界に水素と酸素との化合により連続したポアが形成され、水素脆性が発生した。比較例２の鋳塊は、水素濃度が多いため、熱管押出により一部に割れが発生した。また、熱管押出材の割れのない部分を選んでレベルワウンドコイルを製作し、焼鈍を行ったところ膨れが発生した。膨れ部をはがして観察したところ、酸化されていないことからこの膨れは水素が析出してできた膨れと推測される。
【００８０】
【発明の効果】
本発明に係る低りん脱酸銅の鋳造方法は、りん濃度０．０１５質量％以上０．０４質量％以下のりん脱酸銅のスクラップからなる第１原料に、電気銅地金、無酸素銅のスクラップ、及びりん濃度０．００４質量％以上０．０１５質量％未満のりん脱酸銅のスクラップからなる少なくとも１種からなる第２原料を配合するため、鋳造後の低りん脱酸銅鋳塊のりん濃度は、規定値である０．００４質量％以上０．０１５質量％未満になり、りん濃度の規定値を満足する低りん脱酸銅鋳塊を得ることができた。
【００８１】
本発明に係る低りん脱酸銅鋳塊の鋳造方法は、前記配合原料をシャフト炉で溶解し溶湯とする第１工程と、前記第１工程の溶湯を移湯樋により前記シャフト炉から保持炉に移す第２工程と、前記第２工程の溶湯を前記保持炉に溜める第３工程と、前記第３工程の溶湯を前記保持炉から鋳型に分配樋を通じて注湯し、前記鋳型でりん濃度０．００４質量％以上０．０１５質量％未満の鋳塊とする第４工程とを含み、前記第１工程乃至第４工程を還元性または不活性雰囲気で行うため、シャフト炉、移湯樋、保持炉、及び保持炉より下流側の全てが、還元性または不活性雰囲気下となり、銅溶湯は酸化されず、また、溶湯に水素が吸収されないため、品質に優れた低りん脱酸銅を提供することができた。
【００８２】
本発明に係る低りん脱酸銅鋳塊の製造方法は、溶湯の注湯温度を１１００〜１２００℃とすることにより、溶湯の凝固により前記ノズルがつまることがなく、また、溶湯の酸化あるいは水素ガス吸収が生じ難いため、鋳塊の割れ、熱間加工割れ、水素脆性などの問題は生じ難くい品質的に優れた低りん脱酸銅鋳塊を提供することができた。
【００８３】
本発明に係る低りん脱酸銅鋳塊の水素濃度は２質量ｐｐｍ以下であるため、ブローホール、ボアなどの表面欠陥や、ピンホールなどの内部欠陥が生じ難い品質的に優れた低りん脱酸銅鋳塊を提供することができた。また、酸素濃度が６０ｐｐｍ以下であるため、熱間加工においても加工性が低下することなく、ろう付け時の水素脆性が発生しにくい品質的に優れた低りん脱酸銅鋳塊を提供することができた。
【００８４】
本発明に係る低りん脱酸銅製品の水素濃度は、２質量ｐｐｍ以下であるため、熱間加工時における粒界割れ、熱処理工程の焼鈍時の膨れなどが発生しにくい品質的に優れた低りん脱酸銅製品を提供することができた。また、酸素濃度が６０ｐｐｍ以下であるため、熱間加工性が低下することなく、ろう付け時の水素脆性が発生しにくい品質的に優れた低りん脱酸銅製品を提供することができた。
【００８５】
本発明に係る低りん脱酸銅鋳塊の製造方法は、前記還元性または不活性雰囲気が、不活性ガス、還元性ガス、赤熱木炭カバー、及びフラックスカバーの少なくとも１つにより形成されるため、溶湯は酸化されず、また、溶湯に水素が吸収されないため、品質に優れた低りん脱酸銅を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施形態に係る低りん脱酸銅鋳塊の鋳造工程を示す図面である。
【図２】従来の低りん脱酸銅鋳塊の鋳造工程を示す図面である。
【図３】従来の低りん脱酸銅鋳塊の鋳造工程を示す図面である。
【符号の説明】
１．鋳造設備
２．配合原料
３．シャフト炉
４．ガスバーナー
５．原料装入口
６．移湯樋
７．保持炉
８．インダクタ
９．連続鋳造装置
１０．鋳造用樋
１１．分配樋
１２．ノズル
１３．鋳型
１４．鋳塊
【発明の属する技術分野】
本発明は、低りん脱酸銅の鋳造方法及びその方法によって製作した低りん脱酸銅鋳塊、並びに低りん脱酸銅製品に関し、特に、低りん脱酸銅のりん濃度規格を満足し、品質の良い低りん脱酸銅鋳塊を提供することができる低りん脱酸銅の鋳造方法及びその方法によって製作した低りん脱酸銅鋳塊、並びに低りん脱酸銅製品に関する。
【０００２】
【従来の技術】
銅系製品はその組成により純銅系と銅合金系に大別されており、純銅系はＪＩＳ規格により酸素濃度が低い無酸素銅（酸素濃度１０ｐｐｍ以下）、溶湯に酸素を含有させて不純物を酸化させて除去したタフピッチ銅（酸素濃度１００〜６００ｐｐｍ程度）、及び銅溶湯をりんにより脱酸した低りん及び高りんの２種類のりん脱酸銅（りん濃度０．００４〜０．０１５％未満及び０．０１５〜０．０４％）の３種に分類される。
【０００３】
このうち無酸素銅は最も高純度であり、熱伝導度や電気伝導度において最良のものであるが、真空溶解や雰囲気溶解をする必要があり、製造にあたり特殊な設備が必要になるため製造コストが高くなる。りん脱酸銅はりんが残存するため、無酸素銅に比べて電気伝導率が低下するが依然高いレベルであり、製造には無酸素銅のような特別な設備が不要であることから比較的安価に生産でき、また機械的な性質は無酸素銅と同等であるため熱交換器や電気・電子部品用として管や板に加工されて広く使用されている。銅溶湯に添加されたりんは溶湯中の酸素と化合することにより溶湯を脱酸し、脱酸により消費されなかったりんは溶湯中に残存し、鋳塊となる。銅中に残存するりんは少量でも銅の電気及び熱の伝導率を低下させるため、電気伝導率が無酸素銅の８０〜８５％程度に低下する。なお、りんの濃度が多いと、応力腐食割れの感受性が高くなるため、特に応力腐食割れを起こしたくない用途には低りん脱酸銅が、それ以外には高りん脱酸銅が通常用いられる。低りん脱酸銅はりんの濃度が高りん脱酸銅より少ないため、酸化によりりんが失われやすく、溶解鋳造の難易度は高りん脱酸銅より高いといえる。
【０００４】
公知技術として知られている低りん脱酸銅の鋳造方法として、シャフト炉で溶解した電気銅の溶湯を保持炉に移送した後、保持炉にてＣｕ−Ｐなどの中間合金によりりんを添加して、低りん脱酸銅のりん濃度規格である０．００４質量％以上０．０１５質量％未満にしてから鋳型へ連続的に鋳造する方法がある。この方法によれば、りん濃度の規格値を満足する低りん脱酸銅の製造は可能であるが、以下に示す問題点が挙げられる。
【０００５】
先ず、製造時における安全性の観点から、保持炉の扉を開けてりんを添加して攪拌するので高温作業となり作業員への負担が大きく危険である。
【０００６】
次に、品質上の観点から、保持炉の扉を開けたときに大気が侵入し、溶湯の酸化や水素吸収が発生するおそれがある。
【０００７】
更に、製造効率の観点から、添加されたＣｕ−Ｐ中間合金は、Ｃｕより密度が小さく溶湯上部に留まりやすく、保持炉溶湯のりん濃度を均一にするためには時間がかかる等の問題があり、特にりん濃度の低い低りん脱酸胴をこの方法で安定して作製することは難しい。
【０００８】
従って、以上のように、鋳造工程において保持炉の扉を開け閉めすることなく、また、溶湯に添加したりん濃度を、比較的短時間の内に攪拌して脱酸する鋳造方法として、以下の鋳造方法が挙げられる。電気銅地金のみ、もしくは前記電気銅地金と純銅系屑を原料として、これらをシャフト炉にて還元性雰囲気で溶解した後、一旦保持炉へ送り、前記保持炉から、移湯樋を通して連続的に鋳型へ供給する際に、前記移湯樋で、りん濃度を調整しながら、前記溶湯中に不活性ガスを吹込んで前記溶湯を攪拌しながら脱酸することにより、前記溶湯中の酸素量を１０ｐｐｍレベル以下まで低減させるりん含有低酸素銅鋳塊の連続鋳造法がある。（例えば、特許文献１参照）
【０００９】
このようなりん含有低酸素銅鋳塊の連続鋳造方法は、シャフト炉で得た溶湯を保持炉で酸化処理（精錬）し、水素をはじめとする酸化性不純元素を除去してから移湯樋へ送り、前記移湯樋にて、りん濃度の調整および脱酸処理を行うことで、一層高品質のりん含有低酸素銅を得ることができる。また前記においては、最終的に得られるりん含有低酸素銅中のりん濃度を調整することによって、りん含有による障害を殆ど生じることなくその添加効果（特に高強度化）を有効に発揮させることができる。
【００１０】
次に、このようなりん含有低酸素銅鋳塊の製造装置１０１は、図２に示すように、不純物含量の少ない電気銅地金もしくはこれと純銅系屑を原料１０２とし、これをシャフト炉１０３により還元性雰囲気で溶解した後、この溶湯を一旦保持炉１０４へ送り、前記保持炉１０４から移湯樋１０５を通じて連続的に鋳造装置１０６へ供給して鋳造を行う際に、移湯樋１０５上でりん濃度を調整すると共に、無酸素銅の酸素量レベルまでの脱酸を連続的に行ってりん含有低酸素銅が得られる様にしたものである。これにより、製造装置１０１は、前記シャフト炉１０３を用いたりん脱酸銅製造設備をうまく活用してりん含有低酸素銅を効率良く製造することを可能にしたものであり、移湯樋１０５上で無酸素銅の酸素レベルまで脱酸を行うことを最大の特徴とするものである。
【００１１】
前記シャフト炉１０３を用いたりん脱酸銅製造工程では、脱酸剤１０７としてりんを添加することにより溶湯中の酸素はＰ2Ｏ5として除去される。このとき溶湯中にはりんの一部が混入するので、りんは脱酸剤として作用するだけではなく、強度向上のためのりん源としても有効に活用されるが、このりん脱酸法で達成することのできる酸素濃度はせいぜい２０〜４０ｐｐｍまでであり、無酸素銅に求められる１０ｐｐｍ以下の酸素量を達成することはできない。
【００１２】
そこで、銅溶湯中内に不活性ガス１０８を吹き込み、この不活性ガス１０８の気泡内に溶湯中のＣＯ2を拡散移行させてから該ガス気泡と共に溶湯表面に浮上させる方法を採用すれば、銅溶湯が移湯樋を移送する比較的短時間の内に酸素量を１０ｐｐｍ以下に低減し得ることが可能であり、又、この不活性ガス１０８の吹込み時には、回転ノズル１０９を用いて行い、その回転によって溶湯を攪拌して不活性ガス１０８を鋳湯樋１０５内の銅溶湯全体に均一に行き渡らせると共に、その回転によってノズル先端部で吹込みガス気泡を剪断して該気泡を微細化することによって、不活性ガス気泡の表面積拡大によってＣＯ2捕捉効果が高められ、脱酸を一層効率よく進められることが可能であることが知られている。
【００１３】
以上が、りん濃度を調整しながら、銅溶湯中に不活性ガスを吹込んで溶湯を攪拌しながら脱酸するりん含有低酸素銅鋳塊の連続鋳造法であるが、鋳造工程において保持炉の扉を開け閉めすることなく、また、溶湯に添加したりん濃度を、比較的短時間の内に攪拌して脱酸するその他の鋳造方法として、ガス燃焼方法による脱酸銅の連続鋳造方法がある（例えば、特許文献２参照）。
【００１４】
このようなガス燃焼方法による脱酸銅の連続鋳造法は、シャフト炉又は保持炉から連続鋳造装置までの溶銅を移送し、移送中の溶銅中に脱酸剤を添加する工程において、溶銅移送過程の前半部の保温又は加熱をガス燃焼式とし、後半部の保温又は加熱を電気加熱式とし、前半部に溶銅中の酸素量を連続測定しうる酸素測定用プローブを溶銅移送方向に複数個設置し、これらの間で溶銅移送方向に対し、酸素量が増加又は無変化の傾向を有するようにガス燃焼を調整し、電気加熱式移送過程の溶銅中に連続して脱酸剤を添加することを特徴とするものである。
【００１５】
次に、このような脱酸銅鋳塊の製造装置２０１としては、図３に示すように、電気銅地金を原料２０２とし、これをシャフト炉２０３でブタンガス燃焼により溶解し、得られた溶銅はブタンガス燃焼による前半部移湯樋２０４を通じて電気加熱式保持炉２０５に移送される。又、前記前半部移湯樋２０４には、空気調整弁２０７を有するバーナー２０６が設けられ、前記バーナー２０６は前記空気調整弁２０７の開度を調整することにより、前記シャフト炉２０３から出る溶銅の酸素量を常に増加又は無変化の傾向を有するように、溶銅移送方向に配置された複数個の酸素測定用プローブ２０８により制御している。
【００１６】
前半部移湯樋２０４を通じて電気加熱式保持炉２０５に移送された前記溶銅は、前記保持炉２０５で溶銅の温度、成分組成の調整を行い、電気加熱式の後半部移湯樋２０９を通じて鋳造装置２１１の直前に設けた鋳造樋２１０に移送し、連続鋳造が行われる。又、電気加熱式の後半移湯樋２０９内の溶銅中に、脱酸剤又は／及び合金成分元素を連続的に添加することにより、酸化物の析出やガス気泡の発生の少ない比重の高い脱酸銅鋳塊が連続的に鋳造することが可能であることが知られている。
【００１７】
【特許文献１】
特開平６−２１２３００号公報（段落番号〔００１０〕、〔００１１〕、〔００１４〕、〔００１５〕、及び図１）
【特許文献２】
特開昭５９−１３５４６号公報（５頁左下欄の８〜２０行目、右下欄の１〜２０行目、６頁右上の１〜７行目、９頁右上欄の５〜２９、右下欄の１〜６行目、及び図３）
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】
先ず、特開平６−２１２３００号公報に開示された、りん含有低酸素銅鋳塊の連続鋳造法によれば、酸素濃度の低い脱酸銅の製造は可能であるが、以下に示す問題点が挙げられる。
【００１９】
製造効率の観点から、シャフト炉で溶解した溶湯を、保持炉から移湯樋を通じて鋳型へ供給し連続鋳造を行う際に、前記移湯樋でりん濃度を調整した後、銅溶湯中の酸素量を１０ｐｐｍレベル以下まで低減させるために、前記銅溶湯への不活性ガス吹込み作業が必要になる。また、この際には、回転ノズルを用いて、ノズルの回転により前記銅溶湯を攪拌して不活性ガスを樋内の銅溶湯全体に行き渡らせることにより脱酸処理を行うため、前記攪拌により銅溶湯中が酸化することで酸素量が増加し、酸素濃度にばらつきが生じる。従って、りんをその都度その都度添加する作業が新たな工程として必要になる。
【００２０】
製造時における安全性の観点から、生産設備の構成上、移湯樋を流れる溶湯の深さは必然的に浅くなるため、不活性ガスの吹き込み及び溶湯の攪拌によっては、銅溶湯が飛散することで、作業員が火傷をする等、作業環境が悪化する。
【００２１】
鋳塊の品質面の観点から、前記攪拌作業に伴ない溶湯が酸化され、水素ガスの吸収が起こりやすく、鋳造後のりん含有低酸素銅鋳塊の内部にピンホール欠陥や表面にブローホール欠陥が生じ、品質的に安定したものが得られない。
【００２２】
２番目に、特開昭５９−１３５４６号公報に開示された、脱酸銅鋳塊の連続鋳造法によれば、酸素濃度の低い脱酸銅の製造は可能であるが、以下に示す問題点が挙げられる。
【００２３】
製造費の観点から、原料として酸素量濃度の低い電気銅地金を使用するため、原料費が上がると共に、前半移湯樋内の酸素量を連続測定するために設けられた酸素測定プローブが高価で、且つ寿命が短いため、製造コストが高くなる。
【００２４】
鋳塊の品質上の観点から、溶解鋳造作業中に酸素測定プローブが破損した場合は、交換するまではプローブ無しで、装置を稼働させるため、前半移湯樋内の銅溶湯の酸素量が変化し所定量から外れた場合、鋳造した鋳塊中にガス気泡が多く発生することに伴ない鋳塊の比重が低下し、品質的に安定した脱酸銅鋳塊が得られない。
【００２５】
本発明は、前記の問題点に鑑み創案されたものであり、回転ノズル等の器具を用いた不活性ガスの吹き込みや攪拌、また、酸素測定用プローブを用いて銅溶湯中の酸素量の連続測定を必要とせずに、従来よりも、品質の良い低りん脱酸銅を提供することができる低りん脱酸銅の鋳造方法及びその方法によって製作した低りん脱酸銅鋳塊、並びに低りん脱酸銅製品を提供することを目的とする。
【００２６】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る低りん脱酸銅鋳塊の鋳造方法は、りん濃度０．０１５質量％以上０．０４質量％以下のりん脱酸銅のスクラップからなる第１原料に、電気銅地金、無酸素銅のスクラップ、及びりん濃度０．００４質量％以上０．０１５質量％未満のりん脱酸銅スクラップからなる群より選択された少なくとも１種からなる第２原料を、前記第１原料の配合量が２５〜８０質量％になるように配合してなる配合原料を、シャフト炉で溶解し、その溶湯を吹き込み及び攪拌装置による攪拌を行わずに誘導電流により生じる電磁力により攪拌して鋳型に鋳造することにより、りん濃度０．００４質量％以上０．０１５質量％未満の鋳塊を製造することを特徴とする低りん脱酸銅の鋳造方法とした（請求項１）。
【００２７】
前記の構成によれば、第１原料と第２原料とを用いることにより、溶湯を吹き込み及び攪拌装置による攪拌をせずに誘導電流により生じる電磁力により攪拌し、鋳型に鋳造して、０．００４質量％以上０．０１５質量％未満の鋳塊を製造することができる。
【００２８】
本発明に係る低りん脱酸銅鋳塊の鋳造方法は、りん濃度０．０１５質量％以上０．０４質量％以下のりん脱酸銅のスクラップからなる第１原料に、電気銅地金、無酸素銅のスクラップ、及びりん濃度０．００４質量％以上０．０１５質量％未満のりん脱酸銅スクラップからなる群より選択された少なくとも１種からなる第２原料を、前記第１原料の配合量が２５〜８０質量％になるように配合してなる配合原料をシャフト炉で溶解し溶湯とする第１工程と、前記第１工程の溶湯を移湯樋により前記シャフト炉から保持炉に移す第２工程と、前記第２工程の溶湯を前記保持炉に溜める第３工程と、前記第３工程の溶湯を前記保持炉から鋳型に分配樋を通じて注湯し、前記鋳型でりん濃度０．００４質量％以上０．０１５質量％未満の鋳塊とする第４工程とを含み、前記第１工程乃至第４工程を還元性または不活性雰囲気で行い、かつ、前記第２工程乃至前記第４工程において吹き込み及び攪拌装置による攪拌を行わずに誘導電流により生じる電磁力により攪拌することを特徴とする低りん脱酸銅の鋳造方法とした（請求項２）。
【００２９】
前記の構成によれば、第１原料と第２原料とを用いることにより、溶湯を吹き込み及び攪拌装置による攪拌をせずに誘導電流により生じる電磁力により攪拌し、鋳型に鋳造して、０．００４質量％以上０．０１５質量％未満の鋳塊を製造することができる。さらに、シャフト炉、移湯樋、保持炉、及び保持炉より下流側の全てが、還元性または不活性雰囲気下であるため、銅溶湯は酸化されにくい。
【００３０】
本発明に係る低りん脱酸銅鋳塊の鋳造方法は、前記第４工程において、前記鋳型に注湯する直前の溶湯温度が１１００〜１２００℃である鋳造方法とした（請求項３）。
【００３１】
前記の構成によれば、銅溶湯の分配樋への注湯温度が、銅の融点である１０８３°Ｃ以上であるため、銅溶湯が分配樋からノズルを通じて鋳型に注湯される際に、銅溶湯が凝固せず前記ノズルがつまることはない。また、前記注湯温度が、１２００℃以下であるため、溶湯の酸化あるいは水素ガス吸収が生じにくい。
【００３６】
本発明に係る低りん脱酸銅鋳塊の鋳造方法は、前記還元性または不活性雰囲気を、不活性ガス、還元性ガス、赤熱木炭カバー、及びフラックスカバーの少なくとも１つにより形成されることを特徴とする低りん脱酸銅の鋳造方法とした（請求項４）。
【００３７】
前記の構成によれば、低りん脱酸銅鋳塊の鋳造工程は、全て還元性または不活性雰囲気下となるため、銅溶湯は酸化されにくい。
【００３８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について添付の図面を参照して具体的に説明する。図１は本発明の実施形態に係る低りん脱酸銅鋳塊の鋳造工程を示す図である。本発明の低りん脱酸銅鋳塊は、シャフト炉３、移湯樋６、保持炉７、及び連続鋳造装置９から構成される鋳造設備１により鋳造される。先ず、配合原料２を構成要素とする低りん脱酸銅、及び鋳造設備１における各部位について説明する。
【００３９】
一般に、低りん脱酸銅は、押広性、曲げ性、絞り加工性、溶接性、耐食性、耐候性、及び電気及び熱の伝導性がよいため、用途としては、熱交換器用、電気・電子部品用、化学工業用、ガス用等に使用可能である。また、りん濃度が、０．００４質量％以上０．０１５質量％未満であり、組成としては、銅及びりんの濃度の合計値が９９．９５質量％以上であること、即ち、不純物の濃度が合計で０．０５質量％以下であることが望ましい。なお、不純物とは、Ｆｅ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ａｇ、Ｐｂ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｓ等の元素であり、電気銅地金、スクラップなどにより不可避的に混入される元素である。
【００４０】
銅にりんが添加されると電気抵抗が大きくなる分、電気伝導度が下がり、又、応力腐食割れが発生しやすくなる。特に、管、板、棒等を用途とする材料には、応力腐食割れが発生しにくい材質であることが要求されるため、りん濃度は低いことが望ましい。
【００４１】
高周波炉であるシャフト炉３は、炉大径上が円筒竪型の溶解炉で、炉の底部にガスバーナー４が放射状に取付けられ、原料装入口５から投入された配合原料２は、下方に進むにしたがって加熱され、炉の底部より溶銅（以下、溶湯と称する。）が取り出される。前記ガスバーナー４の燃料としては、天然ガス、ブタン、プロパンなどが用いられ、これらのガスと空気との混合比を特定の値に制御することにより、溶湯を酸化させないように、且つ、溶湯に水素が吸収されないように、生成する燃焼ガスを還元性に保っている。
【００４２】
移湯樋６は、シャフト炉３で溶解された前記配合原料２の溶湯を保持炉７に移すための樋であり、前記シャフト炉３で溶解された溶湯が移送の際に、酸化されないように、前記シャフト炉３と同様な還元性の燃焼炎、不活性ガス（Ａｒ、Ｎ2）等により被覆可能な構造を有するものである。また、前記構造による被覆にくわえ、あるいは代えて、移湯樋６を流れる溶湯を赤熱木炭や炭素粒子で覆った構造とすることも可能である。
【００４３】
低周波炉である保持炉７は、前記シャフト炉３より供給された溶湯のりん濃度の均一化、及び溶湯の昇温を行うための炉である。前記シャフト炉３により前記移湯樋６を通じて保持炉７に供給される溶湯は、りん濃度が場所により異なるため、保時炉７で均一化することが必要である。また、保持炉７は、炉体の下部に設けられたインダクタ８の誘導電流により保持炉７内の溶湯を加熱し、また、前記誘導電流により生じる電磁力により保持炉７内の溶湯を攪拌して、溶湯中のりん濃度を均一にするための炉である。
【００４４】
連続鋳造装置９は、鋳造用樋１０、分配炉１１、ノズル１２、鋳型１３から構成され、溶湯を、連続鋳造により鋳塊１４に成形する装置である。鋳造用樋１０は前記保持炉７内の溶湯を受けるための樋、分配炉１１は前記鋳造樋１０中の溶湯を分配するための樋、また、ノズル１２は前記分配炉１１で分配された溶湯を鋳型１３に注湯するための黒鉛製のノズル、更にまた、鋳型１３は前記ノズル１２から注湯される溶湯を鋳塊に成形する型である。なお、鋳造用樋１０、分配炉１１には、前記保持炉７から移送される溶湯が酸化されないように前記移湯樋６と同様な酸化防止策が、また、溶湯が水素を吸収しないように加熱乾燥及び木炭の赤熱が、それぞれ施されている。
【００４５】
次に、本発明の低りん脱酸銅鋳塊の鋳造方法について図１を用いて説明する。
本発明の低りん脱酸銅鋳塊は、りん濃度０．００４質量％以上〜０．０１５質量％未満を有する低りん脱酸銅Ｃ１２０１の鋳塊であり、りん濃度０．０１５質量％以上〜０．０４質量％以下を有する高りん脱酸銅Ｃ１２２０のりん濃度を、その他の原料で薄めることにより製造される。
【００４６】
製造における第１工程として、先ず、りん濃度０．０１５質量％以上０．０４質量％以下のりん脱酸銅スクラップからなる第１原料と、電気銅地金、無酸素銅のスクラップ、及びりん濃度０．００４質量％以上０．０１５質量％未満のりん脱酸銅のスクラップから選択された少なくとも１種からなる第２原料を配合して、低りん脱酸銅鋳塊の配合原料２とした後、シャフト炉３で溶解し溶湯とする。
【００４７】
また、原料の配合割合は、Ｃ１２２０のスクラップを２５〜８０質量％とし、残りを電気銅地金、無酸素銅スクラップ、及びＣ１２０１のスクラップの少なくとも１種または２種以上とし、目標配合りん濃度となるように配合比率を決定すれば良い。また、本発明の溶解鋳造法においても、前記原料を溶解後、若干のりんが酸化により失われるため、原料の配合時において目標とするりん濃度に対して、りんを最大で３０質量％多めにしておくことが望ましい。
【００４８】
例えば、りん濃度が０．０１質量％になるように配合した原料を溶解鋳造し、製作された鋳塊のりん濃度が０．００９０質量％になる場合は、原料のりんが１０質量％減少していることから、原料においては目標組成より１０質量％程度大目にりんを配合する。なお、原料から鋳塊までのりんの減少率は溶解鋳造工程の雰囲気管理により影響を受け、溶湯が空気に触れる機会が少ないほどりんの減少率が小さくなることも考慮にいれる。
【００４９】
なお、高りん脱酸銅Ｃ１２２０、低りん脱酸銅Ｃ１２０１、及び無酸素銅のそれぞれのスクラップとは、前記おのおのの鋳塊、熱間加工材、冷間加工材などより発生する製品にならなかった部分、鋳塊、熱間加工材、冷間加工材の製作工程で発生する切り落とし材や事故品（疵などによりその後の工程に進めないもの）などの材料である。
【００５０】
前記スクラップの組成はＪＩＳに規定されている通りであるが、電気及び熱伝導性、加工性（曲げ加工など）、加工熱処理条件の安全性を確保するために、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｓ、Ｓｂ、及びＡｓなどの不純物元素は合計で０．０５質量％以下であることが望ましい。なお、原料として用いる前にスクラップより採取した試料を何チャージか分析して不純物の濃度を確認しておけばよい。また、スクラップの形状は、鋳塊切断材のような円柱状あるいは角柱状、または板状、棒状、管状、線状など特に制限は無い。
【００５１】
電気銅地金は、ＪＩＳＨ２１２１に規定されている成分のものを用いると良い。電気銅はＣｕイオンの溶解した電解液よりＣｕを陰極に析出させることにより製作されるため、その形状は通常厚さ５〜２０ｍｍの矩形状（一辺１〜２ｍ程度）であるが、シャフト炉に装入する場合は、そのままの形状あるいは切断して入れることも可能である。
【００５２】
本発明において、シャフト炉内を還元性に保持した場合には、溶湯は酸化されず、また、溶湯に水素が吸収されないため、品質に優れた低りん脱酸銅を提供することができる。
【００５３】
配合原料２がシャフト炉３に装入されると、シャフト炉３の底部では溶湯となるが、この状態では溶銅中におけるりんの濃度は、濃い部分と薄い部分が存在し、りんの濃度は均一ではない。従って、前記溶湯を鋳造する前に、他の炉に一旦移送して、前記溶湯を攪拌することにより、溶湯中のりんの濃度を均一にすることが必要となる。
【００５４】
そこで、前記シャフト炉３から出湯された配合原料２すなわち溶湯は、移湯樋６を通じて保持炉７へ移送される。前記シャフト炉３で溶解された溶湯が移湯樋６で酸化されないように、移湯樋６には前記シャフト炉３と同様にガスバーナー４を溶湯の流れ方向に沿って複数設け、還元性の燃焼保炎、不活性ガス（Ａｒ、Ｎ2）などにより被覆可能な構造としておく。また、このようなガスによる被覆に加え、あるいは代替として、移湯樋６を流れる溶湯を赤熱木炭や炭素粒子で覆うことも可能である。以上のような被覆において、溶湯が水素を吸収しないように、還元炎の雰囲気管理、不活性ガスの露点管理、木炭の十分な赤熱、移湯樋６そのものの十分な加熱などの処置が施される。
【００５５】
このように本発明において、移湯樋６を還元性雰囲気とすることで、溶湯は酸化されず、また、溶湯に水素が吸収されないため、品質に優れた低りん脱酸銅を提供することができる。
【００５６】
次に、前記移湯樋６から移送された溶湯は、保持炉７に移送される。保持炉７内の溶湯は、低周波誘導加熱により攪拌され、前記溶湯中の脱酸及びりんの希釈が行われる。保持炉７内の溶湯は、保持炉７の下部に設けられたインダクタ８の誘導電流により、鋳造温度より２０〜５０°C程度高い温度に昇温され加熱される。また、インダクタ８の誘導電流により生じる電磁力により攪拌されて溶湯中のりん濃度が均一化される。なお、この時、必要に応じて保持炉７内の溶湯より試料を採取して、りん、酸素、及び水素などの濃度の調査を行うことも可能である。尚、保持炉７においても、溶湯の酸化、すなわちりん濃度の減少を防止する必要があることより、保持炉７中における溶湯の加熱及び攪拌は、溶湯表面が赤熱木炭のカバーで覆われた還元性雰囲気で行われるものとする。
【００５７】
このように本発明において、保持炉７は誘導電流により加熱される誘導炉であることから、攪拌装置を使用せずに溶湯は攪拌されるため、低りん脱酸銅の製造コストが安くなる。また、攪拌は密閉された保持炉内にて行われるため、溶湯が外部に飛散することがなく、鋳造作業が安全であり環境改善につながる。更にまた、保持炉７は赤熱木炭を被覆しているため、溶湯からの熱放射が押さえられ、炉の操業効率の向上にもつながる。
【００５８】
次に、保持炉７から出湯された溶湯は、最終的に連続鋳造装置９に供給される。なお、連続鋳造鋳造装置９は、鋳造用樋１０、分配樋１１、ノズル１２、鋳型１３から構成され、前記溶湯を、連続鋳造により鋳塊１４に成形する装置である。鋳塊１４の成形にあたっては、前記保持炉７から供給される溶湯は、長さ１〜３ｍ程度の鋳造用樋１０を介して分配樋１１に移送され、前記分配樋１０から黒鉛などのノズル１２を介して、鋳造温度１１００〜１２００°Ｃの範囲で、鋳型１３に注湯される。尚、本発明における鋳造温度とは、鋳型１３上に設けられた分配樋１１で測定した鋳造温度である。
【００５９】
このように本発明において、鋳造温度を１１００〜１２００°Ｃとすることで、溶湯が凝固することがないため、鋳造中に溶湯がノズルにつまる等の不具合がなく鋳造後の低りん脱酸銅は品質の良いものが得られる。また、溶湯の酸化あるいは水素ガス吸収が生じ難いため、鋳塊の割れ、熱間加工割れ、水素脆性などの問題は生じ難くい品質的に優れた低りん脱酸銅鋳塊を提供することができる。
【００６０】
また、前記保持炉７の溶湯を鋳型１３に注湯する際には、鋳造用樋１０及び分配樋１１において、溶湯が酸化されないように、前記シャフト炉３と前記保持炉７を繋ぐ前記移湯樋６と同様な酸化防止対策を行った状態で注湯する。また同時に、前記鋳造用樋１０及び前記分配樋１１において、溶湯が水素を吸収しないように、前記鋳造用樋１０及び前記分配樋１１を、加熱乾燥、木炭の赤熱でカバーした状態で注湯する。さらにまた、溶湯の温度低下を押さえるために、耐火物のカバーを鋳造用樋１０及び分配樋１１にそれぞれ設けることも可能である。
【００６１】
このように本発明において、鋳造用樋１０及び分配樋１１を還元性または不活性の状態にすることで、品質に優れた低りん脱酸銅を提供することができる。
【００６２】
【実施例】
以下、本発明について、具体的に説明する。
【００６３】
（第１の実施例）
Ｃ１２２０のスクラップ（りん濃度０．０２質量％）からなる第１原料に、電気銅地金（りん濃度０質量％）、無酸素銅のスクラップ（りん濃度０質量％）、及びＣ１２０１のスクラップ（りん濃度０．０１質量％）からなる第２原料を配合した配合原料をシャフト炉で溶解後、保持炉（誘導炉）に１５ｔｏｎの溶湯を受け、前記保持炉で昇温後溶解鋳造を行う本発明の特許請求範囲である鋳造法（実施例１〜７）と、これに対し、電気銅地金（りん濃度０質量％）のみを原料とし、シャフト炉で溶解後、保持炉で昇温後、鋳造用樋においてＣｕ−１５質量％Ｐ中間合金（粒状）を所定量添加しながら鋳造を行う本発明の請求範囲外である鋳造法（比較例１〜２）により鋳塊をそれぞれ鋳造した。そして、各鋳塊について、鋳塊上下部におけるりん濃度が所定値内にあるか否かの評価を行った結果を表１に示す。なお、表１において、りん濃度と記載されているのは、実施例１〜７については、配合原料のりん濃度より算出した原料全体におけるりん濃度であり、比較例１，２については、原料である電気銅地金の量と前記したＣｕ−１５質量％Ｐ中間合金の添加量から算出したりん濃度である。
【００６４】
さらにまた、実施例１〜７と、比較例１〜２のそれぞれの鋳塊上下部における水素濃度と酸素濃度の確認、及び鋳造後の鋳塊における欠陥の有無の確認を行った結果を表２に示す。
【００６５】
尚、りん濃度の目標値は、０．００７〜０．０１２質量％とし、鋳塊の鋳造にあたっては、実施例及び比較例共に、溶湯の酸化防止策として、保持炉内の溶湯表面は溶湯表面が露出しない程度の厚さの赤熱木炭で被覆し、更に乾燥窒素ガスを流通させている。溶湯は、１１４０〜１１８０°Ｃの鋳造温度で鋳型に注湯され、直径３００ｍｍ、長さ５０００ｍｍの寸法を有する鋳塊が、１回当たりの連続鋳造工程にて５本鋳造され、分析にあたっては、前記５本のうち中央の鋳塊を試料として使用した。
【００６６】
表１における、鋳塊中のりん濃度分析値は、それぞれ左側が鋳塊の上部（鋳造後期に対応）、右側が鋳塊の下部（鋳造初期に対応）における分析結果である。また、りん濃度評価の欄における「○」とは、鋳塊上下部が共にりん濃度の目標値である０．００７〜０．０１２質量％内であったことを示し、「×」とは、鋳造上下部のいずれか一方がりん濃度の目標値である０．００７〜０．０１２質量％の範囲外であったことを示す。次に、表２における、水素及び酸素濃度の測定値は、それぞれ左側が鋳塊の上部、右側が鋳塊の下部における測定結果であり、また、評価の欄の「○」とは鋳塊に欠損無がなく良品であったことを示し、評価の欄の「×」とは鋳塊に欠損が有り不良品であったことを示す。
【００６７】
【表１】
【表２】
表１の結果より、本発明の実施例１〜７のいずれもが、りん濃度の規定値である０．００４質量％以上０．０１５質量％未満にあり、且つ、目標とするりん濃度０．００８〜０．０１２質量％にほぼ近い組成の鋳塊が得られる結果となった。また、鋳塊上下部におけるりん濃度のばらつきが、最大でも０．００２質量％程度であり、鋳塊においては、りん濃度に対する鋳造後の鋳塊中のりん濃度、すなわちりんの歩留まりは、実施例１が７１〜８６％、実施例２が８０〜９１％、実施例３が８０〜９０％、実施例４が８０〜９０％、実施例５が８０〜９０％、実施例６が７８〜８９％、実施例７が８０〜９０％と高い結果となった。なお、実施例１〜７のいずれの鋳塊においても、鋳塊の上部が下部よりりんの濃度が少ないが、これは鋳造時間（約１時間）の間に、保持炉内の溶湯がわずかに酸化されていくことによる影響と推察される。
【００７０】
比較例１より、配合原料が本発明の請求範囲と異なる場合は、鋳造後の鋳塊上部におけるりん濃度は０．００３質量％となり、りん濃度の規定値である０．００４質量％以上０．０１５質量％未満を満足しない。また、鋳塊上下部におけるりん濃度の差は０．００７質量％（上部０．００３質量％、下部０．０１０質量％）であり、部位に応じてりん濃度の差が大きな鋳塊となることから、所定のりん濃度を有する鋳塊を、目的の寸法で得ることは難しい。更にまた、鋳塊におけるりん濃度の歩留まりは、２０〜６７％となり、実施例１〜７に比べて小さい鋳塊となる。
【００７１】
比較例２より、配合原料が本発明の請求範囲と異なる場合は、鋳造後の鋳塊下部におけるりん濃度は０．０１７質量％となり、りん濃度の規定値である０．００４質量％以上０．０１５質量％を満足しない。また、鋳塊上下部におけるりん濃度の差は０．００９質量％（上部０．００８質量％、下部０．０１７質量％）であり、部位に応じてりん濃度の差が大きな鋳塊となることから、所定のりん濃度を有する鋳塊を、目的の寸法で得ることは難しい。更にまた、鋳塊におけるりん濃度の歩留まりは、４０〜８５％となり、実施例１〜７に比べて小さい鋳塊となる。
【００７２】
表２の結果より、本発明の実施例１〜７のいずれもが、鋳塊上部と下部では、水素濃度及び酸素濃度が安定しており、また、鋳塊にはピンホールやブローホール等の欠陥は見られない。
【００７３】
比較例１より、鋳塊上下部における水素濃度及び酸素濃度の差は、それぞれ０．６質量ｐｐｍ（上部０．６質量ｐｐｍ、下部１．２質量ｐｐｍ）、１０６質量ｐｐｍ（上部１５６質量ｐｐｍ、下部５０質量ｐｐｍ）でありばらつきが大きい。比較例２より、鋳塊上下部における水素及び酸素濃度の差は、それぞれ１．６質量ｐｐｍ（上部１．０質量ｐｐｍ、下部２．６質量ｐｐｍ）、５５質量ｐｐｍ（上部６４質量ｐｐｍ、下部９質量ｐｐｍ）でありばらつきが大きい。また、鋳塊底部において水素によるブローホールが発生し鋳塊欠陥となる。
【００７４】
鋳造方法が、本発明の請求範囲と異なる場合は、鋳造後の鋳塊中のりん濃度がが規定値である０．００４〜０．０１５質量％を満足せず、鋳造後の鋳塊上下部におけるりん濃度、水素濃度、及び酸素濃度に大きな差が生じ、また、鋳塊底部に水素によるブローホールが発生し鋳塊欠陥となる。
【００７５】
（第２の実施例）
次に、第１の実施例における実施例１〜７、及び比較例１、２の鋳塊より長さ５００ｍｍのビレットを切断し、これらのビレットの、熱管押出による割れの有無、焼鈍による膨れの有無、水素脆性化の有無を確認した。なお、比較例１の鋳塊については、りん濃度の規格値を外れた上側を除く鋳塊下側を、比較例２の鋳塊については、ブローホール発生部を除く鋳塊上側を、それぞれ使用した。
【００７６】
切断後のビレットを、８５０℃に加熱後熱間押出した。押出し後、圧延、抽伸し、誘導過熱により連続焼鈍し、その後、更に抽伸して外径９ｍｍ、肉厚０．５ｍｍの平滑管レベルワウンドコイルとした。このレベルワウンドコイルをローラーハース炉で連続的に焼鈍した。焼鈍されたレベルワウンドコイルより１００ｍ毎に長さ０．３ｍの管を１０本採取して膨れの有無を目視観察した。さらに、膨れの無いものは水素気流中で０．５時間加熱した後冷却し、断面を光学顕微鏡により観察し、水素脆化の有無を確認した。確認結果を表３に示す。
【００７７】
【表３】
表３の結果より、本発明の実施例１〜７のいずれもが、水素濃度及び酸素濃度が規定値内を満足するため、熱間押出による割れの問題は発生せず、また、押出材より製作した平滑管においても焼鈍による膨れ及び水素脆性とも発生しなかった。
【００７９】
比較例１の鋳塊より製作した平滑管は酸素の濃度が多いため、水素気流中で加熱すると、粒界に水素と酸素との化合により連続したポアが形成され、水素脆性が発生した。比較例２の鋳塊は、水素濃度が多いため、熱管押出により一部に割れが発生した。また、熱管押出材の割れのない部分を選んでレベルワウンドコイルを製作し、焼鈍を行ったところ膨れが発生した。膨れ部をはがして観察したところ、酸化されていないことからこの膨れは水素が析出してできた膨れと推測される。
【００８０】
【発明の効果】
本発明に係る低りん脱酸銅の鋳造方法は、りん濃度０．０１５質量％以上０．０４質量％以下のりん脱酸銅のスクラップからなる第１原料に、電気銅地金、無酸素銅のスクラップ、及びりん濃度０．００４質量％以上０．０１５質量％未満のりん脱酸銅のスクラップからなる少なくとも１種からなる第２原料を配合するため、鋳造後の低りん脱酸銅鋳塊のりん濃度は、規定値である０．００４質量％以上０．０１５質量％未満になり、りん濃度の規定値を満足する低りん脱酸銅鋳塊を得ることができた。
【００８１】
本発明に係る低りん脱酸銅鋳塊の鋳造方法は、前記配合原料をシャフト炉で溶解し溶湯とする第１工程と、前記第１工程の溶湯を移湯樋により前記シャフト炉から保持炉に移す第２工程と、前記第２工程の溶湯を前記保持炉に溜める第３工程と、前記第３工程の溶湯を前記保持炉から鋳型に分配樋を通じて注湯し、前記鋳型でりん濃度０．００４質量％以上０．０１５質量％未満の鋳塊とする第４工程とを含み、前記第１工程乃至第４工程を還元性または不活性雰囲気で行うため、シャフト炉、移湯樋、保持炉、及び保持炉より下流側の全てが、還元性または不活性雰囲気下となり、銅溶湯は酸化されず、また、溶湯に水素が吸収されないため、品質に優れた低りん脱酸銅を提供することができた。
【００８２】
本発明に係る低りん脱酸銅鋳塊の製造方法は、溶湯の注湯温度を１１００〜１２００℃とすることにより、溶湯の凝固により前記ノズルがつまることがなく、また、溶湯の酸化あるいは水素ガス吸収が生じ難いため、鋳塊の割れ、熱間加工割れ、水素脆性などの問題は生じ難くい品質的に優れた低りん脱酸銅鋳塊を提供することができた。
【００８３】
本発明に係る低りん脱酸銅鋳塊の水素濃度は２質量ｐｐｍ以下であるため、ブローホール、ボアなどの表面欠陥や、ピンホールなどの内部欠陥が生じ難い品質的に優れた低りん脱酸銅鋳塊を提供することができた。また、酸素濃度が６０ｐｐｍ以下であるため、熱間加工においても加工性が低下することなく、ろう付け時の水素脆性が発生しにくい品質的に優れた低りん脱酸銅鋳塊を提供することができた。
【００８４】
本発明に係る低りん脱酸銅製品の水素濃度は、２質量ｐｐｍ以下であるため、熱間加工時における粒界割れ、熱処理工程の焼鈍時の膨れなどが発生しにくい品質的に優れた低りん脱酸銅製品を提供することができた。また、酸素濃度が６０ｐｐｍ以下であるため、熱間加工性が低下することなく、ろう付け時の水素脆性が発生しにくい品質的に優れた低りん脱酸銅製品を提供することができた。
【００８５】
本発明に係る低りん脱酸銅鋳塊の製造方法は、前記還元性または不活性雰囲気が、不活性ガス、還元性ガス、赤熱木炭カバー、及びフラックスカバーの少なくとも１つにより形成されるため、溶湯は酸化されず、また、溶湯に水素が吸収されないため、品質に優れた低りん脱酸銅を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施形態に係る低りん脱酸銅鋳塊の鋳造工程を示す図面である。
【図２】従来の低りん脱酸銅鋳塊の鋳造工程を示す図面である。
【図３】従来の低りん脱酸銅鋳塊の鋳造工程を示す図面である。
【符号の説明】
１．鋳造設備
２．配合原料
３．シャフト炉
４．ガスバーナー
５．原料装入口
６．移湯樋
７．保持炉
８．インダクタ
９．連続鋳造装置
１０．鋳造用樋
１１．分配樋
１２．ノズル
１３．鋳型
１４．鋳塊
Claims (4)
- りん濃度０．０１５質量％以上０．０４質量％以下のりん脱酸銅のスクラップからなる第１原料に、電気銅地金、無酸素銅のスクラップ、及びりん濃度０．００４質量％以上０．０１５質量％未満のりん脱酸銅スクラップからなる群より選択された少なくとも１種からなる第２原料を、前記第１原料の配合量が２５〜８０質量％になるように配合してなる配合原料を、シャフト炉で溶解し、その溶湯を吹き込み及び攪拌装置による攪拌を行わずに誘導電流により生じる電磁力により攪拌して鋳型に鋳造することにより、りん濃度０．００４質量％以上０．０１５質量％未満の鋳塊を製造することを特徴とする低りん脱酸銅の鋳造方法。
- りん濃度０．０１５質量％以上０．０４質量％以下のりん脱酸銅のスクラップからなる第１原料に、電気銅地金、無酸素銅のスクラップ、及びりん濃度０．００４質量％以上０．０１５質量％未満のりん脱酸銅スクラップからなる群より選択された少なくとも１種からなる第２原料を、前記第１原料の配合量が２５〜８０質量％になるように配合してなる配合原料をシャフト炉で溶解し溶湯とする第１工程と、
前記第１工程の溶湯を移湯樋により前記シャフト炉から保持炉に移す第２工程と、
前記第２工程の溶湯を前記保持炉に溜める第３工程と、
前記第３工程の溶湯を前記保持炉から鋳型に分配樋を通じて注湯し、前記鋳型でりん濃度０．００４質量％以上０．０１５質量％未満の鋳塊とする第４工程とを含み、
前記第１工程乃至第４工程を還元性または不活性雰囲気で行い、かつ、前記第２工程乃至前記第４工程において吹き込み及び攪拌装置による攪拌を行わずに誘導電流により生じる電磁力により攪拌することを特徴とする低りん脱酸銅の鋳造方法。 - 前記第４工程において、前記鋳型に注湯する直前の溶湯温度が１１００〜１２００℃であることを特徴とする請求項２に記載の低りん脱酸銅の鋳造方法。
- 前記還元性または不活性雰囲気は、還元性ガス、不活性ガス、赤熱木炭カバー、及びフラックスカバーの少なくとも１つにより形成されることを特徴とする請求項２または請求項３に記載の低りん脱酸銅の鋳造方法。
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