JP4408903B2 - トランジスタ、トランジスタ回路、電気光学装置および電子機器 - Google Patents
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Description
このような薄膜トランジスタとしては、基板上に、ソース電極およびドレイン電極と、有機半導体層が形成され、これら各部の上にゲート絶縁層、ゲート電極がこの順に積層されたトップゲート構造と、基板上に、ゲート電極、ゲート絶縁層がこの順に積層され、これら各部の上に、ソース電極およびドレイン電極と、有機半導体層が形成されたボトムゲート構造のものが提案されている。
そこで、特許文献1には、有機半導体層に対して、2つのゲート電極を備えてなる有機薄膜トランジスタが提案されている。この特許文献1に記載の有機薄膜トランジスタでは、2つのゲート電極を設けたことにより2つのチャネル部が生成されるため、1つのゲート電極を設けた場合に比べて、より大きな電流を制御することができる。
また、有機半導体では、アモルファスまたは多結晶のシリコンを用いたトランジスタの製造において行われているような、不純物のドーピングによるしきい値電圧の制御やチャネルの極性の制御が困難であり、上記のような問題を解決することは容易ではない。
本発明のトランジスタは、第1のゲート電極と、
第2のゲート電極と、
前記第1のゲート電極と前記第2のゲート電極との間に位置する第1のゲート絶縁層と、
前記第1のゲート絶縁層と前記第2のゲート電極との間に位置し、第1の有機材料を含む第1の中間層と、
前記第1の中間層と前記第2のゲート電極との間に位置する有機半導体層と、
前記有機半導体層と前記第2のゲート電極との間に位置し、第2の有機材料を含み、前記第1の中間層と条件が異なる第2の中間層と、
前記第2の中間層と前記第2のゲート電極との間に位置する第2のゲート絶縁層と、
前記第1の中間層と前記第2の中間層との間に位置し、前記有機半導体層にキャリアを注入するソース電極およびドレイン電極と、を有し、
前記第1および第2の中間層の作用により、前記有機半導体層の前記第1および第2の中間層に接する部分にアンバイポーラ特性が付与されるものであることを特徴とする。
これにより、キャリアの極性が異なる2つのチャネル部を備えた有機半導体層を有し、回路設計における自由度を高め得るトランジスタが得られる。
第2のゲート電極と、
前記第1のゲート電極と前記第2のゲート電極との間に位置する第1のゲート絶縁層と、
前記第1のゲート絶縁層と前記第2のゲート電極との間に位置し、第1の有機材料を含む第1の中間層と、
前記第1の中間層と前記第2のゲート電極との間に位置する有機半導体層と、
前記有機半導体層と前記第2のゲート電極との間に位置し、前記第1の有機材料と異なる第2の有機材料を含む第2の中間層と、
前記第2の中間層と前記第2のゲート電極との間に位置する第2のゲート絶縁層と、
前記第1の中間層と前記第2の中間層との間に位置し、前記有機半導体層にキャリアを注入するソース電極およびドレイン電極と、を有し、
前記第1および第2の中間層の作用により、前記有機半導体層の前記第1および第2の中間層に接する部分にアンバイポーラ特性が付与されるものであることを特徴とする。
これにより、キャリアの極性が異なる2つのチャネル部を備えた有機半導体層を有し、回路設計における自由度を高め得るトランジスタが得られる。
これにより、第1の中間層による前記作用を確実に発揮させつつ、第1のゲート電極が発生させる電界を、有機半導体層に対して確実に付与することができる。その結果、有機半導体層に対して、アンバイポーラ特性を確実に付与することができる。
これにより、有機半導体層に対して、イオン拡散等の悪影響を及ぼすのを特に確実に防止するとともに、特に顕著なアンバイポーラ特性を付与することができる。
これにより、当該トランジスタを組み合わせた回路の設計において、自由度を高めることができる。また、比較的多くの種類が知られているp型の有機半導体材料を用いることにより、有機半導体層の一部にn型半導体の特性を発現させることができる。n型半導体では、p型半導体に比べ、キャリアの移動度が高いことから、より高速での駆動が可能なトランジスタや回路を得ることができる。
これにより、前記各電極が有機半導体層に注入するキャリアの極性に応じて、前記積層体の各層の構成材料としてキャリアの注入効率の高い材料を適宜選択することが可能となる。その結果、前記各電極によるキャリアの注入効率が向上し、トランジスタ特性の向上を図ることができる。
これにより、前記有機半導体層のキャリアの極性が正である部分に対して、効率よくホールを注入することができる。
これにより、前記有機半導体層のキャリアの極性が負である部分に対して、効率よく電子を注入することができる。
本発明のトランジスタでは、前記有機半導体層は、共役系高分子材料で構成されていることが好ましい。
共役系高分子材料は、その特有な電子雲の広がりにより、キャリアの移動能が特に高い。
これにより、設計の自由度が高く、高性能かつ小型のトランジスタ回路が得られる。
本発明に係る電気光学装置は、本発明のトランジスタ回路を備えることを特徴とする。
これにより、高性能な電気光学装置が得られる。
本発明に係る電子機器は、本発明の電気光学装置を備えることを特徴とする。
これにより、高性能な電子機器が得られる。
<トランジスタ>
<第1実施形態>
まず、本発明のトランジスタの第1実施形態について説明する。
図1は、本発明のトランジスタの第1実施形態を示す概略図(図1中(a)は縦断面図、(b)は(a)の部分拡大図)、図2および図3は、それぞれ、図1に示すトランジスタの製造方法を説明するための図(縦断面図)である。
このトランジスタ1は、第1のゲート電極を兼ねる基板10と、基板10上に設けられた第1のゲート絶縁層20および第1の中間層30と、第1の中間層30上に設けられた有機半導体層40と、有機半導体層40上に、互いに分離して設けられたソース電極50およびドレイン電極60と、各電極50、60上および有機半導体層40上にわたって設けられた第2のゲート絶縁層80と、第2のゲート絶縁層80上に設けられた第2のゲート電極90とを有する。以下、トランジスタ1の各部の構成について、順次説明する。
基板10には、例えば、n型またはp型のシリコン基板、ガリウム砒素基板のような化合物半導体基板、金属基板等が挙げられる。
なお、本実施形態では、基板10が、トランジスタ1を構成する各部を支持する基板の機能と、第1のゲート電極としての機能とを併せ持っているが、これらの機能は、個々の部材により実現されてもよい。
この場合、絶縁性基板としては、例えば、ガラス基板、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルスルホン(PES)、芳香族ポリエステル(液晶ポリマー)、ポリイミド(PI)等で構成されるプラスチック基板(樹脂基板)等を用いることができる。
なお、基板10の平均厚さは、特に限定されないが、0.5〜500μm程度であるのが好ましく、10〜300μm程度であるのがより好ましい。
第1のゲート絶縁層20は、後述するソース電極50およびドレイン電極60に対して、第1のゲート電極(基板10)を絶縁するものである。
第1のゲート絶縁層20の構成材料としては、公知の絶縁体材料であれば、種類は特に限定されるものではなく、有機材料、無機材料のいずれも使用可能である。
一方、無機材料としては、シリカ、窒化珪素、酸化アルミ、酸化タンタル等の金属酸化物、チタン酸バリウムストロンチウム、ジルコニウムチタン酸鉛等の金属複合酸化物が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
なお、第1のゲート絶縁層20は、単層構成のものに限定されず、複数層の積層構成のものであってもよい。
この第1の中間層30は、有機材料で構成されている。第1の中間層30が有機材料で構成されていることにより、有機半導体層40に対して、イオン拡散等の悪影響を及ぼすのを防止するとともに、前記アンバイポーラ特性を確実に付与することができる。
また、この有機材料は、特に限定されないが、ベンゾシクロブテン(BCB)、オクタデシルトリクロロシラン(OTS)またはヘキサメチルジシラザン(HMDS)を含むものが好ましい。これらの有機材料は、有機半導体層40に対して、有機半導体層40に対して、イオン拡散等の悪影響を及ぼすのを特に確実に防止するとともに、特に顕著なアンバイポーラ特性を付与することができる。
なお、第1の中間層30については、後に詳述する。
有機半導体層40は、有機半導体材料(半導体的な電気伝導を示す有機材料)を主材料として構成されている。
有機半導体材料としては、例えば、ナフタレン、アントラセン、テトラセン、ペンタセン、ヘキサセン、ペリレン、ヒドラゾン、トリフェニルメタン、ジフェニルメタン、スチルベン、アリールビニル、ピラゾリン、トリフェニルアミン、トリアリールアミン、オリゴチオフェン、フタロシアニンまたはこれらの誘導体のような低分子の有機半導体材料や、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリチオフェン、ポリアルキルチオフェン、ポリヘキシルチオフェン、ポリ(p−フェニレンビニレン)、ポリチニレンビニレン、ポリアリールアミン、ピレンホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂、フルオレン−ビチオフェン共重合体、フルオレン−アリールアミン共重合体またはこれらの誘導体のような高分子の有機半導体材料(共役系高分子材料)、フタロシアニンのような各種金属錯体、C60、C82、ディスプロシウム(Dy)を内包したC82のような各種フラーレン類、各種カーボンナノチューブ類等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができるが、特に、高分子の有機半導体材料(共役系高分子材料)を主とするものを用いるのが好ましい。共役系高分子材料は、その特有な電子雲の広がりにより、キャリアの移動能が特に高い。
また、高分子の有機半導体材料を主材料として構成される有機半導体層40は、薄型化・軽量化が可能であり、可撓性にも優れるため、フレキシブルディスプレイのスイッチング素子等として用いられる薄膜トランジスタへの適用に適している。
なお、有機半導体層40は、2種類以上の有機半導体材料で構成されていてもよいが、単一の有機半導体材料で構成されているのが好ましい。これにより、有機半導体層40の製造工程が簡素化され、トランジスタ1を、容易に、かつ低コストで製造することができる。
これらのソース電極50およびドレイン電極60の構成材料としては、例えば、Pd、Pt、Au、W、Ta、Mo、Al、Cr、Ti、Cuまたはこれらを含む合金等の金属材料が挙げられ、チャネル領域を移動するキャリアに応じて適宜選択するのが好ましい。
例えば、チャネル領域をホールが移動するpチャネル薄膜トランジスタの場合には、仕事関数が比較的大きいPd、Pt、Au、Ni、Cuまたはこれら金属を含む合金を使用するのが好ましい。
なお、前記導電性高分子材料は、通常、塩化鉄、ヨウ素、無機酸、有機酸、ポリスチレンサルフォニック酸のようなポリマー等がドープされ、導電性を付与された状態で用いられる。
ソース電極50とドレイン電極60との間の距離(離間距離)、すなわち、チャネル長Lは、2〜30μm程度であるのが好ましく、5〜20μm程度であるのがより好ましい。チャネル長Lを前記下限値より小さくすると、得られたトランジスタ1同士でチャネル長に誤差が生じ、特性(トランジスタ特性)がばらつくおそれがある。一方、チャネル長Lを前記上限値より大きくすると、しきい値電圧の絶対値が大きくなるとともに、ドレイン電流の値が小さくなり、トランジスタ1の特性が不十分となるおそれがある。
この第2のゲート絶縁層80は、ソース電極50およびドレイン電極60に対して第2のゲート電極90を絶縁するものである。
第2のゲート絶縁層80の平均厚さは、特に限定されないが、10〜5000nm程度であるのが好ましく、100〜2000nm程度であるのがより好ましい。第2のゲート絶縁層80の厚さを前記範囲とすることにより、ソース電極50およびドレイン電極60と第2のゲート電極90とを確実に絶縁しつつ、トランジスタ1の動作電圧を低くすることができる。
なお、第2のゲート絶縁層80は、単層構成のものに限定されず、複数層の積層構成のものであってもよい。
第2のゲート電極90の構成材料としては、前記ソース電極50および前記ドレイン電極60で挙げたものと同様のものを用いることができる。
第2のゲート電極90の平均厚さは、特に限定されないが、0.1〜5000nm程度であるのが好ましく、1〜5000nm程度であるのがより好ましく、10〜5000nm程度であるのがさらに好ましい。
すなわち、第1のゲート電極および第2のゲート電極90に電圧が印加されていないOFF状態では、ソース電極50とドレイン電極60との間に電圧を印加しても、有機半導体層40中にほとんどキャリアが存在しないため、微少な電流しか流れない。一方、第1のゲート電極または第2のゲート電極90に電圧が印加されているON状態では、有機半導体層40の第1のゲート絶縁層20に面した部分、または、第2のゲート絶縁層80に面した部分に可動電荷(キャリア)が誘起され、チャネル領域が形成される。この状態でソース電極50とドレイン電極60との間に電圧を印加すると、チャネル領域を通って電流が流れる。
この第1の中間層30は、有機半導体層40のうち、第1の中間層30に接する部分、すなわち、図1に示す有機半導体層40の下側部分40aに、アンバイポーラ(ambipolar)特性を付与するものである。
なお、本発明においては、例えば、有機半導体層40が、本来、アンバイポーラ特性を有しているものの、通常の使用形態ではこのアンバイポーラ特性を発現しない場合に、第1の中間層30を設けることで、この有機半導体層40が通常の使用形態であってもアンバイポーラ特性を発現する場合にも、アンバイポーラ特性が付与されたものと規定する。
なお、第1の中間層30が奏する上記のような作用は、いかなるメカニズムで発現するのか不明であるが、第1の中間層30の電気的な特性が、有機半導体層40中のキャリアの移動性に影響を及ぼしていることが推察される。
かかる有機半導体層40を備えたトランジスタ1は、キャリアの極性が異なる2つのチャネル領域を有していることから、このトランジスタ1を組み合わせた回路において、設計の自由度を高めることができる。
具体的には、動作性能の異なる複数の擬似的なトランジスタのうち、メモリー等の速いスイッチング速度を必要とする回路を制御する際には、動作速度の速いチャネル領域を使用し、速いスイッチング速度を必要としない回路を制御する際には、動作速度の遅いチャネル領域を使用すればよい。
また、図1に示すトランジスタ1では、第1のゲート電極(基板10)と第2のゲート電極90とが、有機半導体層40を介して対向配置されているので、有機半導体層40に生成される2つのチャネル領域を、独立して制御し易くなるという利点も有する。
図1に示すトランジスタ1の製造方法は、基板10上に第1のゲート絶縁層20を形成する工程と、第1のゲート絶縁層20上に第1の中間層30を形成する工程と、第1の中間層30上に有機半導体層40と、有機半導体層40上にソース電極50およびドレイン電極60を形成する工程と、有機半導体層40上のソース電極50とドレイン電極60との間、およびこれらの電極50、60の一部を覆うように、第2のゲート絶縁層80を形成する工程と、第2のゲート絶縁層80上に第2のゲート電極90を形成する工程とを有する。以下、各工程について順次説明する。
例えば、基板10がシリコン基板で構成されている場合、熱酸化法により、基板10上にシリカ(SiO2)で構成された第1のゲート絶縁層20を形成することができる。
また、第1のゲート絶縁層20を無機材料で構成する場合、第1のゲート絶縁層20は、例えば、CVD法、SOG法により形成することができる。また、原材料にポリシラザンを用いることにより、第1のゲート絶縁層20として、シリカ膜、窒化珪素膜を湿式プロセスで成膜することが可能となる。
有機高分子材料またはその前駆体を含む溶液を、基板10上へ塗布(供給)する方法としては、例えば、スピンコート法やディップコート法のような塗布法、インクジェット印刷法(液滴吐出法)やスクリーン印刷法のような印刷法等が挙げられる。
第1の中間層30は、例えば、プラズマCVD、熱CVD、レーザーCVDのような化学蒸着法(CVD)、真空蒸着法のような気相成膜法、第1の中間層30の構成材料またはその前駆体を含む溶液を、第1のゲート絶縁層20上に供給した後、必要に応じて、この塗膜に対して前述の後処理を施す液相成膜法等により形成することができる。また、第1の中間層30を形成すべき領域に開口したマスクを介して、蒸着法等による成膜を行うこと(マスク蒸着法)により、第1の中間層30の成膜とパターニングとを同時に行うようにしてもよい。
この第1の中間層30は、前述したように、有機半導体層40の第1の中間層30に接する部分に、アンバイポーラ特性を付与することができるので、単一の有機半導体材料で構成された有機半導体層40において、キャリアの極性が異なる2つのチャネル部を形成することができる。
例えば、有機半導体層40を有機高分子材料で構成する場合、有機半導体層40は、有機高分子材料またはその前駆体を含有する液状材料を、第1の中間層30上に供給した後、必要に応じて、この塗膜に対して前述の後処理を施す液相成膜法等により形成することができる。
また、有機半導体層40を有機低分子材料で構成する場合、有機半導体層40は、真空蒸着法、分子線蒸着法(MBE法)のような気相成膜法等により形成することができる。
[4]次に、図2(d)に示すように、有機半導体層40上に、ソース電極50およびドレイン電極60を形成する。
ソース電極50およびドレイン電極60は、それぞれ、前述したマスク蒸着法により形成することができる。
本実施形態では、第2のゲート電極90上(図3(e)では、第2のゲート電極90の下面側)に、第2のゲート絶縁層80を形成する。
この第2のゲート絶縁層80は、前述の第1のゲート絶縁層20と同様にして形成することができる。
この貼り付けの方法は、特に限定されず、例えば、界面に接着剤等を介して貼り付けるようにしてもよく、有機半導体層40、ソース電極50およびドレイン電極60に対して、第2のゲート絶縁層80を圧着するようにしてもよい。
以上のような工程を経て、図1に示すトランジスタ1が得られる。
次に、本発明のトランジスタの第2実施形態について説明する。
図4は、本発明のトランジスタの第2実施形態を示す概略図である。
以下、第2実施形態にかかるトランジスタについて説明するが、前記第1実施形態にかかるトランジスタとの相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
すなわち、図4に示すトランジスタ1は、有機半導体層40と第2のゲート絶縁層80との間に、第2の中間層70を有する。
この第2の中間層70も、第1の中間層30と同様に、有機半導体層40のうち、第2の中間層70に接する部分、すなわち、図4に示す有機半導体層40の上側部分に、アンバイポーラ特性を付与するものである。
したがって、図4に示す有機半導体層40には、その上側部分と下側部分の双方において、アンバイポーラ特性が発現することとなる。このような有機半導体層40を備えたトランジスタ1は、より汎用性の高いものとなる。
このような各中間層30、70の条件には、例えば、構成材料、膜厚、表面状態等が挙げられるが、特に構成材料が有効に作用する。各中間層30、70の間で構成材料を異ならせることにより、前記各部分のアンバイポーラ特性をより確実に調整することができる。
具体的には、有機半導体層40を構成する有機半導体材料として、例えば、p型半導体であるフルオレン−ビチオフェン共重合体(F8T2)を用い、第1の中間層30の構成材料としてベンゾシクロブテンを用い、第2の中間層70の構成材料として、オクタデシルトリクロロシランまたはヘキサメチルジシランを用いた場合、図4に示す有機半導体層40の下側部分にn型半導体の特性が発現し、上側部分にはp型半導体の特性が得られる。
このような第2実施形態にかかるトランジスタ1においても、前記第1実施形態と同様の作用・効果が得られる。
次に、本発明のトランジスタの第3実施形態について説明する。
図5は、本発明のトランジスタの第3実施形態を示す概略図である。
以下、第3実施形態にかかるトランジスタについて説明するが、前記第1実施形態にかかるトランジスタとの相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
本実施形態にかかるトランジスタ1は、ソース電極50およびドレイン電極60の構成がそれぞれ異なる以外は、前記第1実施形態と同様である。
ソース電極50は、図5の下方から順に積層された第1の層51、第2の層52および第3の層53の積層体で構成されている。
また、ドレイン電極60は、図5の下方から順に積層された第1の層61、第2の層62および第3の層63の積層体で構成されている。
このようなトランジスタ1は、有機半導体層40に対するキャリアの注入効率が特に高くなり、トランジスタ特性のさらなる向上を図ることができる。
なお、以上のような各実施形態にかかるトランジスタは、例えば、有機発光トランジスタ(有機発光FET)に応用することが可能である。
すなわち、上記の各実施形態のように、アンバイポーラ特性を示す有機半導体層に、ホールと電子とを注入した後、これらのホールと電子とを結合させることにより、これらが再結合を起こして発光する。かかる機構により、発光素子として機能する有機発光トランジスタが得られる。
次に、前述したようなトランジスタ1を備えるアクティブマトリクス装置(本発明のトランジスタ回路)が組み込まれた本発明の電気光学装置について、電気泳動表示装置を一例に説明する。
図6は、電気泳動表示装置の実施形態を示す縦断面図、図7は、図6に示す電気泳動表示装置が備えるアクティブマトリクス装置の構成を示すブロック図である。
図7に示すように、アクティブマトリクス装置300は、互いに直交する複数のデータ線301と、複数の走査線302と、これらのデータ線301と走査線302との各交点付近に設けられた薄膜トランジスタ1とを有している。
そして、薄膜トランジスタ1が有するゲート電極は走査線302に、ソース電極はデータ線301に、ドレイン電極は後述する画素電極(個別電極)401に、それぞれ接続されている。
そして、マイクロカプセル402がバインダ材405により、画素電極401と透明電極403との間に固定されている。
各カプセル402内には、それぞれ、特性の異なる複数種の電気泳動粒子、本実施形態では、電荷および色(色相)の異なる2種の電気泳動粒子421、422を含む電気泳動分散液420が封入されている。
このような電気泳動表示装置200では、1本あるいは複数本の走査線302に選択信号(選択電圧)を供給すると、この選択信号(選択電圧)が供給された走査線302に接続されている薄膜トランジスタ1がONとなる。
これにより、画素電極401と透明電極403との間に電界が生じ、この電界の方向、強さ、電気泳動粒子421、422の特性等に応じて、電気泳動粒子421、422は、いずれかの電極に向かって電気泳動する。
したがって、走査線302への選択信号の供給および停止、あるいは、データ線301へのデータの供給および停止を適宜組み合わせて行うことにより、電気泳動表示装置200の表示面側(透明基板404側)に、所望の画像(情報)を表示させることができる。
特に、本実施形態にかかる電気泳動表示装置200では、電気泳動粒子421、422の色を異ならせていることにより、多階調の画像を表示することが可能となっている。
また、本実施形態にかかる電気泳動表示装置200は、低い駆動電圧で作動するため、省電力化が可能である。
また、前記各実施形態では、それぞれ、2つのゲート電極を備えたトランジスタについて説明したが、本発明のトランジスタは、3つ以上のゲート電極を備えていてもよい。
このような電気泳動表示装置200は、各種電子機器に組み込むことができる。以下、電気泳動表示装置200を備える本発明の電子機器について説明する。
<<電子ペーパー>>
まず、本発明の電子機器を電子ペーパーに適用した場合の実施形態について説明する。
図8は、本発明の電子機器を電子ペーパーに適用した場合の実施形態を示す斜視図である。
この図に示す電子ペーパー600は、紙と同様の質感および柔軟性を有するリライタブルシートで構成される本体601と、表示ユニット602とを備えている。
このような電子ペーパー600では、表示ユニット602が、前述したような電気泳動表示装置200で構成されている。
次に、本発明の電子機器をディスプレイに適用した場合の実施形態について説明する。
図9は、本発明の電子機器をディスプレイに適用した場合の実施形態を示す図であり、(a)は断面図、(b)は平面図である。
この図に示すディスプレイ800は、本体部801と、この本体部801に対して着脱自在に設けられた電子ペーパー600とを備えている。なお、この電子ペーパー600は、前述したような構成、すなわち、図8に示す構成と同様のものである。
このようなディスプレイ800では、電子ペーパー600は、本体部801に着脱自在に設置されており、本体部801から取り外した状態で携帯して使用することもできる。
また、このようなディスプレイ800では、電子ペーパー600が、前述したような電気泳動表示装置200で構成されている。
例えば、本発明のトランジスタ、トランジスタ回路、電気光学装置および電子機器の各部の構成は、同様の機能を発揮し得る任意のものと置換することができ、あるいは、任意の構成のものを付加することもできる。
また、本発明のトランジスタの構成は、前記各実施形態のうち、2つ以上を組み合わせた構成であってもよい。
Claims (12)
- 第1のゲート電極と、
第2のゲート電極と、
前記第1のゲート電極と前記第2のゲート電極との間に位置する第1のゲート絶縁層と、
前記第1のゲート絶縁層と前記第2のゲート電極との間に位置し、第1の有機材料を含む第1の中間層と、
前記第1の中間層と前記第2のゲート電極との間に位置する有機半導体層と、
前記有機半導体層と前記第2のゲート電極との間に位置し、第2の有機材料を含み、前記第1の中間層と条件が異なる第2の中間層と、
前記第2の中間層と前記第2のゲート電極との間に位置する第2のゲート絶縁層と、
前記第1の中間層と前記第2の中間層との間に位置し、前記有機半導体層にキャリアを注入するソース電極およびドレイン電極と、を有し、
前記第1および第2の中間層の作用により、前記有機半導体層の前記第1および第2の中間層に接する部分にアンバイポーラ特性が付与されるものであることを特徴とするトランジスタ。 - 第1のゲート電極と、
第2のゲート電極と、
前記第1のゲート電極と前記第2のゲート電極との間に位置する第1のゲート絶縁層と、
前記第1のゲート絶縁層と前記第2のゲート電極との間に位置し、第1の有機材料を含む第1の中間層と、
前記第1の中間層と前記第2のゲート電極との間に位置する有機半導体層と、
前記有機半導体層と前記第2のゲート電極との間に位置し、前記第1の有機材料と異なる第2の有機材料を含む第2の中間層と、
前記第2の中間層と前記第2のゲート電極との間に位置する第2のゲート絶縁層と、
前記第1の中間層と前記第2の中間層との間に位置し、前記有機半導体層にキャリアを注入するソース電極およびドレイン電極と、を有し、
前記第1および第2の中間層の作用により、前記有機半導体層の前記第1および第2の中間層に接する部分にアンバイポーラ特性が付与されるものであることを特徴とするトランジスタ。 - 前記第1および第2の中間層の平均厚さは、それぞれ、5〜200nmである請求項1または2に記載のトランジスタ。
- 前記第1の有機材料は、ベンゾシクロブテン(BCB)、オクタデシルトリクロロシラン(OTS)またはヘキサメチルジシラザン(HMDS)を含むものである請求項1ないし3のいずれかに記載のトランジスタ。
- 前記有機半導体層のうち、前記第1のゲート絶縁層側に面する部分と、前記第2のゲート絶縁層側に面する部分とで、キャリアの極性が異なる請求項1ないし4のいずれかに記載のトランジスタ。
- 前記ソース電極および前記ドレイン電極は、それぞれ、前記有機半導体層の内部に設けられ、かつ、複数の層を積層してなる積層体で構成されている請求項1ないし5のいずれかに記載のトランジスタ。
- 前記積層体中の各層のうち、前記有機半導体層のキャリアの極性が正である部分に最も近い層が、その他の層よりも仕事関数が深い材料で構成されている請求項6に記載のトランジスタ。
- 前記積層体中の各層のうち、前記有機半導体層のキャリアの極性が負である部分に最も近い層が、その他の層よりも仕事関数が浅い材料で構成されている請求項6または7に記載のトランジスタ。
- 前記有機半導体層は、共役系高分子材料で構成されている請求項1ないし8のいずれかに記載のトランジスタ。
- 請求項1ないし9のいずれかに記載のトランジスタを備えることを特徴とするトランジスタ回路。
- 請求項10に記載のトランジスタ回路を備えることを特徴とする電気光学装置。
- 請求項11に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
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