JP4404814B2 - アライメントシステムおよびそのようなアライメントシステムを備えたリソグラフィ装置 - Google Patents
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- 放射線のアライメントビームを生成する放射線源と、
放射線のアライメントビームを基板上のアライメントマーカ構造に導くように配置された光学素子と、
アライメントマーカ構造にアライメントビームを照射することで生成される回折パターンを検出するように配置された検出器と、
ここで、マーカ構造は複数のラインエレメントと複数のトレンチエレメントから成り、ラインエレメントとトレンチエレメントの各々は第一方向に長さを有し、かつ、第一方向に垂直な第二方向にて交互に反復配列して配置されており、この交互の反復配列はシーケンス長を有し、マーカ構造は少なくとも1つのピッチ値を有し、この少なくとも1つのピッチ値は1つのラインエレメントのライン幅とその隣接するトレンチエレメントのトレンチ幅との合計であり、
またここで、複数のラインエレメントの夫々は、複数のラインエレメントにおいて最少ライン幅と最大ライン幅を有するといったように、異なる幅を有し、また、複数のトレンチエレメントの夫々は、複数のトレンチエレメントにおいて最少トレンチ幅と最大トレンチ幅を有するといったように、異なる幅を有し、ラインとトレンチのそれぞれのペアのデューティサイクルはマーカ構造のシーケンス長にわたってほぼ一定であって、該シーケンス長にわたって最少ピッチ値から最大ピッチ値まで少なくとも1つのピッチの変動があり、
回折パターンは、該最少ピッチ値と該最大ピッチ値間の少なくとも1つのピッチ値の変動に関係する少なくとも1次回折ビームの範囲からなり、そして、
回折パターンからのアライメント情報を判断するように構成、配置されたプロセッサとから成り、
平均化されたアライメントエラーを含む形でアライメントマーカ構造の位置を検出し、
アライメントエラーは、変形していないアライメントマーカ構造にアライメントビームを照射することで生成される回折パターンと、変形が生じたアライメントマーカ構造にアライメントビームを照射することで生成される回折パターンとの間に生じた位置ずれである、基板のアライメントを判断するように配置されたアライメントシステム。 - 放射線の投影ビームを調整する照明システムと、パターニング機器を支持する支持構造と、投影ビームのその断面にパターンを与えるパターニング機器と、基板を保持する基板テーブルと、基板の目標部分にパターン化されたビームを投影する投影システムと、そして基板のアライメントを判断するように配置されたアライメントシステムとを含むリソグラフィ装置において、該アライメントシステムは、
放射線のアライメントビームを生成する放射線源と、
アライメントマーカにアライメントビームを照射することで生成される回折パターンを検出するように配置された検出器と、
ここで、マーカは複数のラインエレメントと複数のトレンチエレメントから成り、ラインエレメントとトレンチエレメントの各々は第一方向に長さを有し、かつ、第一方向に垂直な第二方向にて交互に反復配列して配置されており、この交互の反復配列はシーケンス長を有し、マーカは少なくとも1つのピッチ値を有し、この少なくとも1つのピッチ値は1つのラインエレメントのライン幅とその隣接するトレンチエレメントのトレンチ幅との合計であり、
またここで、複数のラインエレメントの夫々は、複数のラインエレメントにおいて最少ライン幅と最大ライン幅を有するといったように、異なる幅を有し、また、複数のトレンチエレメントの夫々は、複数のトレンチエレメントにおいて最少トレンチ幅と最大トレンチ幅を有するといったように、異なる幅を有し、ラインとトレンチのそれぞれのペアのデューティサイクルはマーカ構造のシーケンス長にわたってほぼ一定であって、該シーケンス長にわたって最少ピッチ値から最大ピッチ値まで少なくとも1つのピッチの変動があり、
回折パターンは、該最少ピッチ値と該最大ピッチ値間の少なくとも1つのピッチ値の変動に関係する少なくとも1次回折ビームの範囲からなり、そして、
回折パターンからのアライメント情報を判断するように構成、配置されたプロセッサとを備え、
平均化されたアライメントエラーを含む形でアライメントマーカ構造の位置を検出し、
アライメントエラーは、変形していないアライメントマーカ構造にアライメントビームを照射することで生成される回折パターンと、変形が生じたアライメントマーカ構造にアライメントビームを照射することで生成される回折パターンとの間に生じた位置ずれであることを特徴とするリソグラフィ装置。
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