JP4388576B2 - 形状測定装置 - Google Patents
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Description
エッジプロファイルの測定方法の代表例は,半導体製造装置/材料に関する業界団体(Semiconductor Equipment and Materials International:以下,SEMI)が定める標準規格であるSemi Standardにおいて規定された非破壊検査法(SEMI-MF-928-0305規格 Method B)である。この非破壊検査法は,円盤状のウェーハの面取り加工された端部に対し,そのウェーハの表裏各面にほぼ平行な方向(第1の方向)から光を投光するとともに,その投光方向に対向する方向からカメラによってウェーハの端面の投影像を撮像し,その投影像に基づいてウェーハの端面の形状を測定する方法(以下,光投影測定法と称する)である。この光投影測定法により得られる投影像の輪郭は,ウェーハの端面の断面形状(厚み方向に切断した断面の形状)を表す。
例えば,特許文献1には,前記光投影測定法において,点光源の出射光をコリメータレンズに通過させることによってコリメート(平行光化)し,その光束を測定対象物に投光することによって投影像における輪郭のボケや回析縞の発生を防止することが提案されている。
このように,前記光投影測定法により精度の高い形状測定を行うためには,板状の測定対象物の表裏各面に平行な光束が投光されることが必要である。
図15及び図16は,前記光投影測定法において,測定対象物に投光される光束に前記非平行光成分が含まれる場合の光線の経路を模式的に表した図である。なお,図15は,測定対象物である円盤状のウェーハ1の端部(測定部)における断面をその断面に垂直な方向(ウェーハ1の半径方向)から見た図,図16は,ウェーハ1の端部(測定部)を表裏の面に垂直な方向から見た図である。また,図15及び図16において,R1はウェーハ1に対する光束の投光方向(平行光成分Lpの方向)を表す。また,不図示のカメラが,投光方向R1に対向する方向に向けて配置され,ウェーハ1の投影像を撮像する。
測定対象物に投光される光束のうち,平行光成分Lpは,ウェーハ1の正しい輪郭形状を表す投影像を結像させるが,図15及び図16に示されるように,前記非平行光成分Lnは,それが直接,或いはウェーハ1の表面(表裏各面や端面)に反射した後にカメラに入射する光となり,投影像における輪郭のボケや回析縞の発生の原因となるという問題点があった。
また,ウェーハに投光される光束から非平行光成分を十分に除去することができても,その投光方向と前記測定対象物における前記測定部の表裏各面との平行度が十分でなければ,即ち,投光方向に対して前記測定部の表裏各面が傾いていれば,前記光投影測定法(投影像に基づく形状測定)によって正しい形状測定を行うことができない状況が生じ得るという問題点もあった。特に,ウェーハのように厚みの薄い測定対象物は,製造上のばらつきや重力等によって若干の撓み(湾曲した形状)を有している場合があり,その撓みが投光方向に対する前記測定部の傾きを生じさせることがある。
図17は,前記光投影測定法において,測定対象物に対する投光方向R1と測定対象物における測定部の表裏各面とに傾きが生じている場合の光線の経路を模式的に表した図である。なお,図17は,測定対象物である円盤状のウェーハ1の端部(測定部)における断面をその断面に垂直な方向(ウェーハ1の半径方向)から見た図である。
図17に示すように,投光方向R1と測定部の表裏各面とに傾きが生じている場合,カメラによって撮像される投影像は,本来の投影像よりも大きく,また,本来の投影像とは全く異なる形状となる。
しかしながら,中央部が吸着支持された前記測定対象物を回転させた場合,前記測定対象物の撓み等に起因して,投光方向と前記測定部の表裏各面との平行度が十分でない状態になり得る。前述したように,前記光投影測定法においては前記測定対象物に投光される光束から非平行光成分が十分に除去されていても,前記測定対象物の撓み等に起因して,投光方向と前記測定対象物における前記測定部の表裏各面との平行度が十分でなければ,正しい形状測定を行うことができない場合がある(図17参照)。
前記平行支持手段は,前記測定部の表裏各面の前記投光方向に対する傾きを矯正するものである。
このような構成を備えた本発明に係る形状測定装置によれば,前記測定対象物の周方向における複数箇所の前記測定部の形状を効率的に測定できるとともに,投光方向と前記測定部の表裏各面との平行度を十分に確保して高精度での形状測定を行うことができる。
ここで,前記平行支持手段のより具体的な構成としては,次の(1)〜(3)のいずれかに示す構成が考えられる。
(1)前記平行支持手段が,前記測定対象物の一方の面に対し,前記投光方向に対して平行な直線上もしくは平面上の複数の位置で点接触することにより,前記測定対象物を支持する。以下,この平行支持手段を第1平行支持手段と称する。
(2)前記平行支持手段が,前記測定対象物の一方の面に対し,前記投光方向に対して平行な直線に沿って当接することにより,前記測定対象物を支持する。以下,この平行支持手段を第2平行支持手段と称する。
(3)前記平行支持手段が,前記測定対象物の一方の面を前記投光方向に対して平行な面で吸着することにより前記測定対象物を支持する。以下,この平行支持手段を第3平行支持手段と称する。
前記第1平行支持手段によれば,前記測定対象物の表面に対する支持部の接触面積を小さくできる。一方,前記第3平行支持手段によれば,前記測定対象物の表面に対する支持部の接触圧力(単位面積当たりの押圧力)を小さくできる。
また,本発明に係る形状測定装置が,さらに,次の(4)に示す構成要素を備えればなお好適である。
(4)前記平行支持手段を前記測定対象物の一方の面に対して離接させる平行支持部移動手段。
これにより,前記測定対象物における前記測定部の切り替えのために,前記測定対象物を前記中央吸着支持手段により支持された状態で回転させる際に,前記平行支持手段を前記測定対象物から離れた状態に待避させることができ,前記測定対象物の損傷を防止できる。
ここに,図1は本発明の実施形態に係る形状測定装置Xの概略平面図,図2は形状測定装置Xの概略側面図,図3は形状測定装置Xが備える第1実施例に係るマスクの正面図,図4は形状測定装置Xが備える第2実施例に係るマスクの開口部を表す図,図5は形状測定装置Xが備える第3実施例に係るマスクの開口部を表す図,図6は形状測定装置Xが第1実施例に係るマスクを備える場合のカメラの撮像範囲の像を表す図,図7は形状測定装置Xが第2実施例に係るマスクを備える場合のカメラの撮像範囲の像を表す図,図8は形状測定装置Xが第3実施例に係るマスクを備える場合のカメラの撮像範囲の像を表す図,図9は形状測定装置Xが備える第1実施例に係る平行支持機構Y1の概略構成を表す図,図10は形状測定装置Xが備える第2実施例に係る平行支持機構Y2の概略構成を表す図,図11は形状測定装置Xが備える第3実施例に係る平行支持機構Y3の概略構成を表す図,図12は形状測定装置Xにおける測定対象物に投光される光線の経路を模式的に表した第1の図,図13は形状測定装置Xにおける測定対象物に投光される光線の経路を模式的に表した第2の図,図14は形状測定装置Xが備えるマスクの開口部の一例を表す断面図,図15は光投影測定法において測定対象物に投光される光束に非平行光成分が含まれる場合の光線の経路を模式的に表した第1の図,図16は光投影測定法において測定対象物に投光される光束に非平行光成分が含まれる場合の光線の経路を模式的に表した第2の図,図17は光投影測定法において測定対象物に対する投光方向と測定部の表裏各面とに傾きが生じている場合の光線の経路を模式的に表した図である。
ウェーハ1は,例えば,半径150[mm]程度,厚み0.8[mm]程度のシリコン等の半導体からなり,その外周端(周面)部分が面取り加工されている。
以下,図1に示す平面図及び図2に示す側面図を参照しつつ,形状測定装置Xの構成について説明する。なお,図2において,図1に示す構成要素のうちの一部が省略されている。
図1及び図2に示すように,形状測定装置Xは,投光用の光学系(投光手段の一例)である投光部として点光源2と,その点光源2の光を平行光とするコリメータレンズ3と,マスク8とを備えている。
前記点光源2は,例えば白色LEDの光を300μm〜400μm程度の直径のピンホールを通じて出射する光源等である。この点光源2の光の出射部(ピンホール)は,コリメータレンズ3の焦点位置に配置されている。
前記コリメータレンズ3は,前記点光源2の出射光を通過させつつ,ウェーハ1の前記測定部に向かう方向であって,その測定部おける表裏両面に平行な方向(投光方向)においてコリメート(平行光化)するレンズである。
前記マスク8は,開口部8oが形成された板状の部材であり,前記コリメータレンズ3からウェーハ1側へ向かう光束を前記開口部8oに通過させることにより,その光束の一部の通過を遮断するものである。その詳細については後述する。なお,図1及び図2に示す形状測定装置Xは,2つの前記マスク8を備えているが,前記マスク8は,1つのみ或いは3つ以上設けられることも考えられる。
前記マスク8を通過後の平行光の光束は,ウェーハ1の表裏各面に平行な方向R1からウェーハ1の端面を含む測定部(縁部)に対して投光される。
前記第1のレンズ4,前記第2のレンズ6及び前記絞り5は,テレセントリックレンズを構成し,それを通過した光がイメージセンサ7に入力されることにより,イメージセンサ7によってウェーハ1の測定部(縁部)の投影像が撮像される。
前記マスク8(ウェーハ1に最も近いもの)と前記第1のレンズ4との間隔(距離)は,例えば200[mm]程度に設定され,ウェーハ1の縁部は,それらの間の光束(平行光)の光路中に配置されている。
このように,形状測定装置Xは,平行光をウェーハ1に投光することにより,ウェーハ1が,その平行光の光軸方向(投光方向R1)の奥行き長さが長いものであっても,イメージセンサ7において,輪郭のボケの程度が小さい良好な投影像を得ることができる。また,干渉性の強い単波長光ではなく,多波長成分を有する白色LEDを用いた点光源2を採用することにより,ウェーハ1が,投光方向R1の奥行き長さが長いものであっても,イメージセンサ7において投影像の輪郭の近傍に発生する回折縞が少ない良好な撮像画像を得ることができる。
画像処理装置10は,イメージセンサ7による撮像画像(ウェーハ1の投影像を含む画像)に基づく画像処理を実行する演算装置であり,例えば,予めその記憶部に記憶された所定のプログラムを実行するDSP(Digital Signal Processor)やパーソナルコンピュータ等である。この画像処理装置10は,イメージセンサ7による撮像画像(投影像)について予め定められた画像処理を実行することにより,ウェーハ1の端面形状の指標値を算出する。なお,画像処理装置10は,制御装置11からの制御指令に従って,イメージセンサ7による撮像画像(画像データ)の入力,及びその撮像画像に基づく画像処理を実行する。
また,中央吸着支持機構9は,円盤状のウェーハ1をその一方の面(例えば,下面)の中央部を真空吸着することにより支持する。さらに,中央吸着支持機構9は,ウェーハ1をその中央部(中心点Ow)を回転軸としてその周方向に回転駆動及び停止させることに
より,ウェーハ1の周方向におけるいずれの位置の端部を前記測定部として光束の光路中に位置させるかを調節する装置でもある。中央吸着支持機構9は,ウェーハ1の支持角度(回転角度)を検出する角度検出センサとして不図示の回転エンコーダを備え,その検出角度に基づいてウェーハ1の支持位置(支持角度)の位置決めを行う。なお,中央吸着支持機構9は,制御装置11からの制御指令に従って,ウェーハ1の支持位置の位置決めを行う。
制御装置11は,CPU及びその周辺装置を備えた計算機であり,そのCPUが,予めその記憶部に記憶された制御プログラムを実行することにより,画像処理装置10及び中央吸着支持機構9を制御する(制御指令を出力する)装置である。
なお,前記撮像範囲とは,前記カメラ7aによる撮像画像の画像領域全体に相当する範囲,即ち,形状測定のための画像処理の対象となり得る画像領域全体(前記イメージセンサ7により得られる画像データの全画像領域)に相当する範囲を意味する(図6〜図8における輪郭線71から内側の範囲)。
例えば,前記マスク81の開口部8o1は,図6(a)に示すように,その輪郭線72が前記撮像範囲の輪郭線71と一致している場合が考えられる。この場合,前記マスク81は,前記コリメータレンズ3からウェーハ1側へ向かう光束のうち,前記投光方向R1から見た前記カメラ7aの撮像範囲の輪郭線71から外側の範囲,即ち,図6における斜線領域(以下,撮像外範囲という)の光の通過を遮断する。
また,前記マスク81の開口部8o1は,図6(b)に示すように,その輪郭線72が前記撮像範囲の輪郭線71の内側かつ測定部の投影像1’の外側の範囲に位置する場合も考えられる。この場合,前記マスク81は,前記撮像範囲の内側かつ前記投光方向R1における前記測定部の投影像1’の外側の範囲に位置する境界線(開口部8o1の輪郭線72)の外側の範囲の光の通過を遮断する。
従って,前記マスク81は,前記コリメータレンズ3からウェーハ1側へ向かう光束のうち,前記撮像外範囲(斜線領域)に加え,前記撮像範囲の輪郭線71から内側の範囲であって,前記投光方向R1における前記測定部の投影像の輪郭線に対して間隔を隔てた範囲,即ち,図6(b)における縦線領域(前記撮像内側縁部範囲の一例)についても光の通過を遮断する。
例えば,前記マスク82の開口部8o2は,図7(a),(b)に示すように,その輪郭線72が前記撮像範囲の輪郭線71の内側かつ測定部の投影像1’の外側の範囲に位置する。これにより,前記マスク82は,前記撮像範囲の内側かつ前記投光方向R1における前記測定部の投影像1’の外側の範囲に位置する境界線(開口部8o2の輪郭線72)の外側の範囲の光の通過を遮断する。
従って,前記マスク82は,前記コリメータレンズ3からウェーハ1側へ向かう光束のうち,前記撮像外範囲(斜線領域)に加え,前記撮像範囲の輪郭線71から内側の範囲であって,前記投光方向R1における前記測定部の投影像1’の輪郭線に対して間隔を隔てた範囲,即ち,図7(a),(b)における縦線領域(以下,撮像内側縁部範囲という)についても光の通過を遮断する。
また,前記第3実施例に係るマスク83は,投光方向R1における前記測定部の投影像1’の輪郭線に沿ってU字状に湾曲した帯状に形成された開口部8o3(図5参照)を有し,その開口部8o3の外側の範囲の光束の通過を遮断するものである。
これにより,前記マスク83は,図8に示すように,前記コリメータレンズ3を通過してウェーハ1側へ向かう光束のうち,前記撮像外範囲(斜線領域)と,前記撮像内側縁部範囲(縦線領域)と,記投光方向R1における前記測定部の投影像1’の内側の一部の範囲(前記投影像内範囲に相当)とについて,光の通過とを遮断する。
前述したように,前記コリメータレンズ3を通過後の光束に非平行光成分Lnが含まれ
る場合,その非平行光成分Lnは,ウェーハ1に至る過程でウェーハ1の投影像の範囲か
ら比較的大きく外れた位置を通過する場合が多い。しかしながら,形状測定装置Xにおいては,図12,図13に示されるように,前記マスク8により,前記コリメータレンズ3からウェーハ1に至る過程において,ウェーハ1の投影像の範囲から比較的大きく外れた位置での光の通過が遮断されるので,ウェーハ1に投光される光束に非平行光成分Lnが極力含まれないようにできる。
また,前記コリメータレンズ3を通過後の光束に,ウェーハ1に至る過程でウェーハ1の投影像の範囲内の位置を通過し,その後,ウェーハ1の位置から外れて前記カメラ7aの受光範囲に到達する非平行光成分が含まれることも考え得る。そのような場合でも,形状測定装置Xが前記第3実施例に係るマスク83を備えれば,ウェーハ1に投光される光束から,より確実に非平行光成分Lnを除去することができる。
また,複数の前記マスク8が,投光方向R1に沿って間隔を隔てて配列されることにより,前段(投光方向R1における上流側)のマスク8を通過してしまった前記非平行光成分Lnが,後段のマスク8によって遮断される可能性が高くなる。このため,前記マスク8は,1つである場合よりも,前記投光方向R1に沿って複数配列された場合の方が,より確実に非平行光成分Lnを除去することができる。
ここで,複数の前記マスク8は,形状及び大きさが同じ前記開口部8oが形成されたものが,投光方向R1から見て開口部8oが完全に重なるように配置されることが一般的である。しかしながら,複数の前記マスク8は,それぞれ大きさや形が異なるものであってもよい。その場合,複数の前記マスク8は,投光方向R1から見たときのそれらの開口部8oの重なる部分が,図3〜図8に例示した開口部8o1〜8o3の形状の要件を満たす構成を有することが考えられる。
図14(a)〜(c)に示す例は,前記マスク8における開口部8oの縁部における前記投光方向R1の上流側の面及び下流側の面の一方又は両方が,テーパ状に形成された例である。これにより,前記開口部8oの縁部は,前記投光方向R1の断面において頭頂部(波線枠内の部分)が形成される形状となっている。この図14(a)〜(c)に示す例のように,前記マスク8における開口部8oの縁部は,前記投光方向R1における厚みが極力薄く形成され,前記投光方向R1に沿う平面が形成されていないことが望ましい。これにより,ウェーハ1に向かう光束が,前記マスク8の開口部8oを通過しつつその縁部に反射して測定に悪影響を及ぼすことを防止できる。
また,前記マスク8が,表面に黒アルマイト処理が施されたアルミニウム製の板状部材や,表面に起毛処理が施された板状部材であることが考えられる。これにより,前記マスク8により遮断された光が反射して測定に悪影響を及ぼすことを防止できる。
また,前記マスク8が,前記開口部8oの縁部(遮光部)を前記投光方向R1に直角の方向に変位可能とする変位機構(例えば,スライド機構等)を備えることも考えられる。これにより,前記測定部の形状や大きさに応じて前記開口部8oの形状や大きさを変更することが可能となり好適である。
また,1つ又は複数の前記マスク8が,前記コリメータレンズ3から前記ウェーハ1に至る光束の光路中と,前記ウェーハ1から前記カメラ7aに至る光束の光路中との両方に配置されることも考えられる。
これにより,前記ウェーハ1に到達した光束の一部の成分が,万一,前記ウェーハ1の表面に反射してしまった場合でも,その反射光が前記カメラ7aの撮像範囲に混入して形状測定に悪影響を及ぼすことを防止できる。
しかしながら,図17に示したように,ウェーハ1の撓み等に起因して,投光方向R1と前記測定部の表裏各面との平行度が十分でない状態になった場合,ウェーハ1に投光される光束から非平行光成分Lnが十分に除去されていても,正しい形状測定を行うことができない場合がある。
そこで,形状測定装置Xは,前記中央吸着支持機構9により支持されたウェーハ1における前記測定部に対し中央側の位置において,ウェーハ1の一方の面を投光方向R1に対して平行に支持する前記平行支持部21及びその移動機構を含む平行支持機構Yを備えている。
まず,図9を参照しつつ,第1実施例に係る平行支持機構Y1について説明する。なお,図9(a),(b)は,ウェーハ1を支持する状態にある平行支持機構Y1を投光方向R1に対向する方向R2から見た図(a)及び投光方向R1に直交する方向(ウェーハ1の半径方向)から見た図である。また,図9(c)は,ウェーハ1から離間した状態にある平行支持機構Y1を投光方向R1に直交する方向から見た図である。
平行支持機構Y1は,前記中央吸着支持機構9により支持されたウェーハ1における前記測定部(図9〜図11における波線8aで囲まれた部分)に対し直近中央側の位置でウェーハ1の一方の面を投光方向R1に対して平行に支持する平行支持部21を備えている。ここで,前記平行支持機構Y1による支持位置は,ウェーハ1における前記カメラ7aの撮像範囲の外側(直近中央側)であることが望ましい。この第1実施例における前記平行支持部21は,その支持部(先端)が半球状に形成され,ウェーハ1の一方の面に対し,投光方向R1に対して平行な直線上の複数の位置(図9に示す例では2箇所)で点接触することによって前記測定対象物を支持する。この平行支持部21は,前記測定部の表裏各面の投光方向R1に対する傾きを矯正するものである。
例えば,前記平行支持部21は,ウェーハ1の表裏各面に垂直な方向における支持位置(先端の位置)が,前記中央吸着支持機構9の支持位置(吸着部の位置)に対してわずかに(例えば,0.1mm〜0.2mm程度)ずれて配置されることにより,ウェーハ1の表面を押圧するよう設けられている。
この平行支持部21によりウェーハ1を支持すれば,投光方向R1と前記測定部の表裏各面との平行度を十分に確保して高精度での形状測定を行うことができる。また,この平行支持部21によれば,ウェーハ1の表面に対する接触面積を小さくできる。
なお,前記平行支持部21が,ウェーハ1の一方の面に対し,投光方向R1に対して平行な平面上の3つ以上の位置で点接触することによってウェーハ1を支持する(例えば,3点支持する)ことも考えられる。
前記移動機構は,例えば,支持台22,弾性付勢部材23,当接部24及び不図示のアクチュエータを備えている。
前記支持台22は,前記平行支持部21が固定されてこれを支持する部材であり,前記当接部24は,所定位置に固定されて前記支持台22に当接する部分である。また,前記弾性付勢部材23(バネやゴム等)は,前記支持台22を前記当接部24の方向に弾性付勢するものであり,前記アクチュエータは,前記制御装置11からの制御指令に応じて,前記支持台22を前記当接部24から離間させる方向に変位させる状態(前記弾性付勢部材23の付勢力に抗して変位させる状態)とその変位を解除した状態とを切り替えるものである。
前記弾性付勢部材23の付勢力によって前記支持台22を前記当接部24に当接させることにより,前記平行支持部21は,その複数の支持部(先端)が投光方向R1に対して平行な直線上に並ぶように位置決めされる。
この移動機構により,ウェーハ1における前記測定部の切り替えのために,ウェーハ1を前記中央吸着支持機構9により回転させる際に,前記平行支持部21をウェーハ1から離れた状態に待避させることができ,ウェーハ1の損傷(平行支持部21との擦れによる損傷)を防止できる。
以上に示した移動機構は,前記弾性付勢部材23の付勢力を利用するものである。しかしながら,前記移動機構が,エアシリンダや電動シリンダ等のアクチュエータによって前記平行支持部21を位置決めすることにより,その平行支持部21をウェーハ1の一方の面(支持面)に対して離接させる機構であることも考えられる。
平行支持機構Y2が備える平行支持部21’(前記平行支持部21に相当するもの)は,断面が半円状である先端部が投光方向R1に平行な直線方向に伸びる稜線を形成する。そして,前記平行支持部21’は,前記中央吸着支持機構9により支持されたウェーハ1における前記測定部に対し直近中央側の位置において,ウェーハ1の一方の面に対し,投光方向R1に対して平行な直線に沿ってその先端部が当接することによりウェーハ1を支持する。
この平行支持部21’によりウェーハ1を支持すれば,投光方向R1と前記測定部の表裏各面との平行度を十分に確保して高精度での形状測定を行うことができる。また,この平行支持部21’によれば,ウェーハ1の表面に対する接触面積を比較的小さくできるとともに,ウェーハ1の表面に対する接触圧力(単位面積当たりの押圧力)も比較的小さくできる。
平行支持機構Y3が備える平行支持部21”(前記平行支持部21に相当するもの)は,その平面状の先端部に空気吸引用の多数の空気穴21aが設けられ,前記中央吸着支持機構9により支持されたウェーハ1における前記測定部に対し直近中央側の位置において,ウェーハ1の一方の面を,投光方向R1に対して平行な面で真空吸着することによりウェーハ1を支持する。
この平行支持部21”によりウェーハ1を支持すれば,投光方向R1と前記測定部の表裏各面との平行度を十分に確保して高精度での形状測定を行うことができる。また,この平行支持部21”によれば,ウェーハ1の表面に対する接触圧力(単位面積当たりの押圧力)を小さくできる。また,前記平行支持部21”は,ウェーハ1の面を強制的に吸着するので,ウェーハ1の傾きの矯正力が高い。
1 :ウェーハ
2 :点光源
3 :コリメータレンズ
4 :第1のレンズ
5 :絞り
6 :第2のレンズ
7 :イメージセンサ
7a:カメラ
8 :マスク
9 :中央吸着支持機構
10:画像処理装置
11:制御装置
21,21’,21”:平行支持部
22:支持台
23:弾性付勢部材
24:当接部
Claims (5)
- 円盤状の測定対象物の端部である測定部に対し前記測定対象物の表裏各面に平行な方向から光束を投光する投光手段と,その投光方向に対向する方向から前記測定部の投影像を撮像する撮像手段と,前記測定対象物をその一方の面の中央部を吸着することにより支持する中央吸着支持手段と,前記中央吸着支持手段により支持された前記測定対象物における前記測定部に対し中央側の位置で前記測定対象物の一方の面を前記投光方向に対して平行に支持する平行支持手段と,を備え,
前記投光手段が,
点光源と,
前記点光源の出射光を通過させつつ前記投光方向においてコリメートするコリメータレンズと,
前記コリメータレンズから前記測定対象物側へ向かう光束の一部の通過を遮断するものであって,前記投光方向から見た前記撮像手段の撮像範囲の輪郭線から外側の範囲である撮像外範囲の光の通過を遮断する1又は複数のマスクと,を具備し,
前記撮像手段により得られた前記投影像に基づいて前記測定対象物の端面の形状を測定することを特徴とする形状測定装置。 - 前記平行支持手段が,前記測定対象物の一方の面に対し,前記投光方向に対して平行な直線上もしくは平面上の複数の位置で点接触することにより,前記測定対象物を支持してなる請求項1に記載の形状測定装置。
- 前記平行支持手段が,前記測定対象物の一方の面に対し,前記投光方向に対して平行な直線に沿って当接することにより,前記測定対象物を支持してなる請求項1に記載の形状測定装置。
- 前記平行支持手段が,前記測定対象物の一方の面を前記投光方向に対して平行な面で吸着することにより前記測定対象物を支持してなる請求項1に記載の形状測定装置。
- 前記平行支持手段を前記測定対象物の一方の面に対して離接させる平行支持部移動手段を具備してなる請求項1〜4のいずれかに記載の形状測定装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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