JP4384202B2 - 半導体装置およびそれを備えた光学装置用モジュール - Google Patents

半導体装置およびそれを備えた光学装置用モジュール Download PDF

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Description

本発明は、半導体素子の信号処理を行う信号処理部に発生するノイズを低減した半導体装置およびその半導体装置を備えた光学装置用モジュールに関するものである。
従来、CCD(Charge Coupled Device)イメージセンサ、およびCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)イメージセンサ等の光信号を電気信号に変換する受光半導体装置は、セラミックスまたはプラスチック等を用いた中空パッケージ内に半導体素子等を密封状態でパッケージしたもので、外部から湿気およびゴミ等が侵入しない構造となっている。
図6は、従来の受光半導体装置の一例である固体撮像装置の概略構成を示す断面図である。この固体撮像装置100は、基台となる回路基板101、回路基板101上に設けられた固体撮像素子(受光素子)102、および、回路基板101上に接着部103を介して固体撮像素子102を覆うように取り付けられた覆体104を備えた構成である。固体撮像装置100は、覆体104の内部が空洞となった中空パッケージを構成しており、固体撮像素子102は覆体104の内部に配置されることになる。覆体104の内部には、固体撮像素子102と対向するように、透光性の覆部105が配置される。透光性の覆部105は、接着部106を介して、覆体104に取り付けられている。透光性の覆部105と回路基板101(固体撮像素子102)との間には空間Sが形成されている。回路基板101は、セラミックスまたはガラスエポキシ等からなり、回路基板101と固体撮像素子102とは互いにボンディングワイヤ107を介して電気的に接続されている。覆体104は、中央内部にレンズバレル108を保持しており、レンズバレル108は内部に位置合わせされたレンズ109を保持している。
図6の固体撮像装置100は、回路基板101上に接着部103を介して覆体104が配置され、覆体104の内部に固体撮像素子102を収容する構成となっている。このため、固体撮像装置100を小型化することが困難であった。
そこで、特許文献1には、より小型化の可能な固体撮像装置が開示されている。図7は、特許文献1の固体撮像装置の断面図である。この固体撮像装置200は、固体撮像素子202上に、接着部203を介して、透光性の覆部205が接着された構成である。また、覆部205の表面が露出するように、固体撮像素子202および透光性の覆部205が、通気性を有する樹脂からなるモールド樹脂207によりモールドされている。そして、モールド樹脂207上に、接着部(図示せず)を介して、レンズ206を保持したレンズバレル208を保持した覆体204が接着される。固体撮像装置200では、レンズバレル(覆体)208の内部に固体撮像素子202を収容する必要がないため、固体撮像装置100に比べて、より小型化が可能となる。
ここで、図7の固体撮像装置200では、固体撮像素子202と透光性の覆部205との間に中空部209が形成される。この中空部209は密閉された空間であるため、覆部205の内面に結露が生じる場合がある。
そこで、特許文献2には、このような結露の発生の防止対策として、通気路を備えた固体撮像装置が開示されている。図8は、特許文献2の固体撮像装置300の部分構成を示す平面図(上面図)であり、図9は、図8の固体撮像装置300のC−C矢視断面図である。図9のように、特許文献2の固体撮像装置300は、固体撮像素子302と透光性の覆部305との間に中空部309が形成されため、覆部305の内面に結露が生じる場合がある。そこで、固体撮像素子302と透光性の覆部305とを接着する接着部303に、結露発生の防止対策として、通気路が形成される。
具体的には、図8のように、固体撮像装置300では、中空部309から外部に通じる通気路311が形成されている。接着部303の領域は、透光性の覆部305よりも広くなっており、通気路311は覆部305の外側の接着部303に形成されている。この通気路311により、固体撮像素子302の表面の環境は、外気と同じになるため、覆部305に結露が発生するのを防ぐことが可能となる。また、この通気路311は、複雑な形状となっており、通気路311から中空部309への水の浸入を防ぐ役割も果たしている。
特開2004−296453号公報(2004年10月21日公開) 特開2005−322809号公報(2005年11月17日公開)
しかしながら、特許文献2の構成では、固体撮像素子で受光した光信号を電気信号に変換する際に、原因不明のノイズが発生し、そのノイズが原因となって、画面上に帯状に明暗の差が生じることが、本発明者等によって明らかとなった。
そこで、本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、半導体素子を覆う覆部における結露の発生を防止しつつ、半導体素子の信号処理部に発生するノイズを低減することのできる半導体装置およびそれを備えた光学装置用モジュールを提供することにある。
本発明者等が鋭意に検討した結果、特許文献2の固体撮像装置に発生するノイズの原因が、接着部であることを見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明の半導体装置は、上記の課題を解決するために、半導体素子、半導体素子を覆う覆部、半導体素子と覆部とを接着する接着部、および、半導体素子の信号処理を行う信号処理部を備え、半導体素子と覆部との間に中空部が形成されており、接着部に中空部から外部に通じる通気路が形成された半導体装置であって、
接着部が、信号処理部の全体を覆うように形成されていることを特徴としている。
上記の構成によれば、中空部から外部に通じる通気路が形成されているため、覆部への結露の発生を防止することができる。
しかも、上記の構成によれば、信号処理部の全体(全域)が、接着部に覆われる。これにより、信号処理部に部分的に接着部が影響することはない。すなわち、信号処理部の信号処理の全てに接着部が影響を及ぼす。従って、信号処理部に発生するノイズを低減することができる。
また、本発明の別の半導体装置は、上記の課題を解決するために、半導体素子、半導体素子を覆う覆部、半導体素子と覆部とを接着する接着部、および、半導体素子の信号処理を行う信号処理部を備え、半導体素子と覆部との間に中空部が形成されており、接着部に中空部から外部に通じる通気路が形成された半導体装置であって、
接着部が、信号処理部を避けて形成されていることを特徴としている。
上記の構成によれば、中空部から外部に通じる通気路が形成されているため、覆部への結露の発生を防止することができる。また、信号処理部の全域(全体)を覆う場合よりも、通気路の領域を広くすることができるため、結露の防止効果を高めることができる。さらに、接着部の使用量を削減することもできる。
しかも、上記の構成によれば、接着部が、信号処理部を回避するように形成されている。つまり、信号処理部の全域にわたり、接着部が形成されない。これにより、信号処理部の信号処理に、接着部が影響を及ぼさない。従って、信号処理部に発生するノイズを低減することができる。
このように、本発明の各半導体装置によれば、覆部への結露の発生を防止しつつ、半導体素子の信号処理部に発生するノイズを低減することができる。
本発明の半導体装置では、上記覆部は、透光性を有しており、
上記半導体素子は、上記覆部を透過した光を電気信号に変換する受光素子が複数配列された有効画素領域を有する固体撮像素子であり、
上記接着部は、有効画素領域を避けて形成されている構成であることが好ましい。
上記の構成によれば、半導体素子が、例えば、CCDイメージセンサまたはCMOSイメージセンサ等の光信号を扱う固体撮像素子である。従って、本発明の半導体装置を、固体撮像装置として適用することができる。
しかも、上記の構成によれば、接着部は、有効画素領域を避けて形成されている。つまり、接着部は、覆部および有効画素領域の間の光路を遮断しない領域に形成されている。従って、光信号の受光効率を低減させることなく、接着部および通気路を形成することができる。
本発明の半導体装置では、上記信号処理部が、アナログ信号回路部である場合に特に好適である。
上記の構成によれば、ノイズの影響が特に大きいアナログ信号回路部の全域を覆うように、または、アナログ信号回路部を避けて、接着部が形成される。従って、ノイズが発生しやすいアナログ信号回路部のノイズを低減することができる。
本発明の半導体装置では、上記信号処理部が、受光素子により変換された電気信号を増幅処理する増幅回路部である場合に好適である。
本発明の半導体装置が固体撮像装置である場合、増幅回路部は、ノイズの影響が特に大きい。上記の構成によれば、そのアナログ信号回路部の全域を覆うように、または、アナログ信号回路部を避けて、接着部が形成される。従って、固体撮像装置において特にノイズの影響が大きいアナログ信号回路部のノイズを低減することができる。なお、増幅回路部は、ノイズの影響が特に大きいアナログ信号処理を行うものである場合に好適である。
本発明の半導体装置では、上記通気路は、上記中空部に通じる第1開口端部と、外部に通じる第2開口端部と、第1開口端部および第2開口端部の間に設けられ、水を捕捉する捕捉部とを有することが好ましい。
上記の構成によれば、通気路が有する第1開口端部および第2開口端部はそれぞれ、接着部の中空部側及び外部側に設けられており、通気路の第1開口端部および第2開口端部の間に、通気路内の水を捕捉する捕捉部が存在する。したがって、ダイシング工程以降の製造工程において外部から第2開口端部を介して水または水と共に異物が侵入したとしても、水および異物を捕捉部にて捕捉する(留める)ことが可能となる。
なお、捕捉部は第1開口端部の形状より大きい形状であることが好ましい。これにより、捕捉部に捕捉した水および異物が第1開口端部を介して中空部へ侵入することを防止することができる。従って、半導体素子の主面表面における異物の付着および傷の発生を防止することができる。
本発明の半導体装置では、上記接着部は、矩形環状であり、上記通気路は、上記接着部の少なくとも1辺に沿って形成されていることが好ましい。
上記の構成によれば、接着部を平面視矩形環状としているため、接着部のレイアウト設計を簡易に行うことができる。しかも、通気路を接着部の少なくとも1つの辺に沿って形成しているため、通気路を形成する領域(または捕捉部)を容易に確保することができる。
なお、通気路は、接着部の複数の辺に別個に、または、複数の辺に跨って形成することもできる。ただし、半導体装置の小型化を図るためには、通気路を接着部の一辺のみに形成することが好ましい。
本発明の光学装置用モジュールは、覆部が透光性を有し、半導体素子が上記覆部を透過した光を電気信号に変換する受光素子が複数配列された有効画素領域を有する固体撮像素子であり、上記接着部が、有効画素領域を避けて形成された本発明の半導体装置と、上記半導体素子に外部光を導くレンズユニットとを備えることを特徴としている。
上記の構成によれば、本発明の半導体装置の一形態である固体撮像装置を内蔵しているため、半導体素子を覆う覆部における結露の発生を防止しつつ、半導体素子(固体撮像素子)の信号処理部に発生するノイズを低減することのできる光学装置用モジュールを実現することができる。
本発明によれば、信号処理部の全域を覆うように、または、信号処理部を回避して、接着部が形成されているため、半導体素子を覆う覆部における結露の発生を防止しつつ、半導体素子の信号処理部に発生するノイズを低減することができるという効果を奏する。
以下、本発明の実施の形態について、図面に基づいて説明する。なお、以下では、本発明の半導体装置が、半導体素子として固体撮像素子を備える固体撮像装置である場合について説明する。
〔実施の形態1〕
図1および図2は、本発明の実施の形態1に係る固体撮像装置(半導体装置)1の概略構成を示す図であり、図1は固体撮像装置1の主面(一面)をその上部からみた平面図(上面図)、図2は、図1の固体撮像装置1のA−A矢視断面図である。
固体撮像装置1は、固体撮像素子(半導体素子)2と、覆部4と、固体撮像素子2および覆部4を接着する接着部5と、固体撮像素子2の信号処理を行う信号処理部8とを主要構成としている。
固体撮像素子2は、半導体回路が形成された半導体基板(例えばシリコン単結晶基板)が平面視矩形形状に形成されたものである。固体撮像素子2は、例えば、CCD(charge-coupled device)イメージセンサ、CMOS(complementary metal-oxide semiconductor)イメージセンサ、VMISイメージセンサ(Threshold Voltage Modulation Image Sensor)である。固体撮像素子2には、複数の受光素子(画素)がマトリクス状に配置された有効画素領域3が形成されている。有効画素領域3は、固体撮像素子2の主面(表面)の中央部に、平面視矩形形状に形成されている。また、受光素子は、有効画素領域3に結像された被写体像(覆部4を透過した光)を電気信号に変換する。
覆部4は、透光性材料(例えばガラス)からなり、少なくとも有効画素領域3を覆うように、固体撮像素子2と対向して配置されている。なお、固体撮像素子2(有効画素領域3)と覆部4とは、互いに接触しない。また、覆部4のサイズは、固体撮像素子2よりも小さい。このように、覆部4は、固体撮像素子2の主面に対向して少なくとも有効画素領域3を覆うように配置されているため、有効画素領域3を外部から保護することが可能となる。すなわち、有効画素領域3を外部の湿気、ダスト(ゴミ、切り屑)等から保護することが可能となる。
接着部5は、有効画素領域3および覆部4の間の光路を遮断しないように(撮像に支障のないように)、有効画素領域3の周囲に平面視矩形環状に形成されている。接着部5は、図2のように、有効画素領域3および覆部4の間に中空部(空間)9が形成されるように、固体撮像素子2と覆部4とを接着する。つまり、覆部4および接着部5は、固体撮像素子2を覆う覆体を構成する。接着部5には、後述のように、中空部9から外部に通じる通気路7が形成されている。
このように、接着部5は、覆部4および有効画素領域3の間の光路を遮断しない領域に形成されている。従って、光信号の受光効率を低減させることなく、接着部5および通気路7を形成することが可能となっている。
なお、接着部5は、例えば、紫外線硬化樹脂などの感光性接着剤を含むものであることが好ましい。これにより、フォトリソグラフィ技術を適用して高精度の形状を有し、高精度に位置合わせされた通気路7を有する接着部5を形成することができる。しかも、このようなパターン精度の高い接着部5を一度に多数形成することができる。
信号処理部8は、固体撮像素子2の信号処理を行う信号処理回路部である。具体的には、信号処理部8は、固体撮像素子2の動作を制御し、固体撮像素子2から出力された信号を適宜処理して必要な信号を生成する制御部(画像処理装置)として機能する。例えば、信号処理部8は、有効画素領域3の受光素子により変換された電気信号を増幅処理し、その電気信号をアナログ信号として出力する増幅回路部(アナログ信号回路部)、そのアナログ信号をデジタル信号に変換するアナログ/デジタル変換処理回路部、固体撮像素子2の動作を制御するDSP(digital signal processor)、プログラムに従って各種演算処理を行うCPU,そのプログラムを格納するROM,各処理過程のデータ等を格納するRAMなどの電子部品を備えている。そして、これらの電子部品によって、固体撮像装置1全体が制御される。
本実施形態では、信号処理部8は、有効画素領域3に隣接して配置されており、信号処理部8が形成された領域に、接着部5は形成されていない。すなわち、接着部5は、信号処理部8を避けて形成されている。このため、信号処理部8は、接着部5からは露出している。
なお、固体撮像装置1では、接着部5(覆部4)と固体撮像素子2の主面の外周端(チップ端)との間には、固体撮像素子2と外部回路(不図示)とを接続するための端子としてボンディングパッド6が複数配置されている。ボンディングパッド6は、覆部4で覆われていない。このため、覆部4の平面寸法(サイズ)は固体撮像素子2の平面寸法(サイズ)より小さく形成されており、固体撮像素子2の小型化が図れるようになっている。
固体撮像装置1は、覆部4を通して外部からの光を内部に取り込み、固体撮像素子2の有効画素領域3に配置された受光素子によりイメージ画像を受光する。固体撮像装置1は、有効画素領域3および覆部4の間に中空部9が形成されているため、覆部4を透過した外部からの光は、そのまま有効画素領域3へ入射されることになり、光路途中での光損失を生じることがない。
ここで、前述のように、固体撮像装置1では、固体撮像素子2と透光性の覆部4との間に中空部9が形成されため、覆部4の内面に結露が生じる場合がある。そこで、固体撮像素子2と透光性の覆部4とを接着する接着部5に、結露発生の防止対策として、通気路7が形成されている。通気路7は、中空部9から外部に通じるように接着部5に形成されている。
特許文献2の固体撮像装置300(図8参照)にも、通気路311が形成されている。しかし、中空部309への水および異物の浸入の防止効果を高めるために、通気路311の形状が複雑になる。しかも、固体撮像装置300に発生するノイズ対策は、何もとられていない。
本発明者等は、特許文献2の固体撮像装置300に発生するノイズの原因について鋭意に検討した。その結果、信号処理部が部分的に接着部に覆われていることが、ノイズの原因であることが判明した。すなわち、接着部が、信号処理部を覆う領域と覆わない領域とが存在するため、接着部の誘電率が信号処理部の処理に影響を及ぼし、画面上にノイズとなって表示されることが判明した。
そこで、本実施形態の固体撮像装置1では、接着部5が、信号処理部8を避けて形成されている。つまり、信号処理部8の全域にわたり、接着部5が形成されない。これにより、信号処理部8の信号処理に、接着部5が影響を及ぼさない。従って、信号処理部8に発生するノイズを低減することができる。それゆえ、接着部5の誘電率が信号処理部8に影響を与え、画面上にノイズとなって表示されるのを防止できる。
ここで、固体撮像装置1では、信号処理部8の中でも、アナログ信号回路部、特に受光素子により変換された電気信号を増幅処理する増幅回路部へのノイズの影響が大きい。従って、固体撮像装置1では、少なくともアナログ信号回路部、特に増幅回路部を避けて、接着部5を形成することが好ましい。このように、信号処理部8を回避して接着部5を形成すれば、ノイズが発生しやすいアナログ信号回路部および増幅回路部のノイズを低減することができる。なお、接着部5は、ノイズの影響が特に大きいアナログ信号回路部および増幅回路部を少なくとも回避するように形成すればよい。
ここで、通気路7について詳細に説明する。通気路7は、中空部9から固体撮像装置1の外部に通じており、覆部4の内部の結露を防止するものである。通気路7の形状は、特に限定されるものではなく、接着部5の形状に応じて任意に設定することができる。
本実施形態の固体撮像装置1では、通気路7は、中空部9に通じる第1開口端部7aと、外部に通じる第2開口端部7bと、第1開口端部7aおよび第2開口端部7bの間に設けられ、水を捕捉する捕捉部7cとを有する構成となっている。このように、通気路7が有する第1開口端部7aおよび第2開口端部7bは、それぞれ、接着部5の中空部9側及び外部側に設けられており、通気路7の第1開口端部7aおよび第2開口端部7bの間に、通気路7内の水を捕捉する捕捉部7cが存在する。したがって、ダイシング工程以降の製造工程において外部から第2開口端部7bを介して水または水と共に異物が侵入したとしても、水および異物を捕捉部7cにて捕捉する(留める)ことが可能となる。
また、固体撮像装置1では、第2開口端部7bが、接着部5を貫通することなく、途中で遮断されている。これにより、第2開口端部7bが接着部5を貫通している場合よりも、水および異物の侵入の防止効果を高めることが可能となる。
また、固体撮像装置1では、第1開口端部7aおよび第2開口端部7bが共に、捕捉部7cへ突出した突出壁7dを有している。したがって、突出壁7dの長さ分だけ第2開口端部7bの路長が延長し、ダイシング工程時において外部から第2開口端部7bを介して水がより浸入し難い構造となる。また、たとえ捕捉部7cへ水が浸入した場合でも、捕捉部7cに捕捉した水が捕捉部7cの内壁を伝達して第1開口端部7aへ到達することを防止し、捕捉部7cから第1開口端部7aを介して中空部9へ水が浸入し難くなる。
また、固体撮像装置1では、接着部5は平面視矩形環状であり、通気路7は接着部5の1辺に沿って形成されている。このように接着部5を矩形環状とすれば、接着部5のレイアウト設計を簡易に行うことができる。しかも、通気路7を接着部5の1辺5aに沿って形成しているため、通気路7を形成する領域(または捕捉部)を容易に確保することができる。さらに、通気路7を接着部5の1辺5aのみに沿って形成すれば、固体撮像装置1の小型化を図ることができる。
なお、図1の固体撮像装置1では、接着部5が、信号処理部8を回避して形成されている。しかし、接着部5が信号処理部8の全体を覆うように形成してもよい。図3は、接着部5が、信号処理部8の全域を覆った固体撮像装置10の上面図である。固体撮像装置10も、図1の固体撮像装置1と同様の効果が得られる。すなわち、固体撮像装置1では、信号処理部8の全体(全域)が、接着部5に覆われる。これにより、信号処理部8に部分的に接着部5が影響することはない。すなわち、信号処理部8の信号処理の全てに接着部5が影響を及ぼす。従って、信号処理部8に発生するノイズを低減することができる。
また、接着部5は、図1のように信号処理部8を避けて形成するか、または、図3のように信号処理部8の全体を覆うように形成すれば、その形状は特に限定されるものではなく、例えば、特許文献2を参考にして、種々の形状に設定することができる。
ここで、固体撮像装置10の製造方法の一例について説明する。図4は、固体撮像装置の製造方法を示す図である。固体撮像装置10は、固体撮像素子2上に周知のフォトリソグラフィ技術を用いてパターン形成(パターニング)を行うことにより半導体ウエハ20の各固体撮像素子2上に、通気路7の形状を有する接着部5を形成し、覆部4を接着することにより製造することができる。パターニングを行えば、半導体ウエハ20の各固体撮像素子2に対し、同時に多数の接着部5および通気路7を形成できる。
具体的には、図4の上段は半導体ウエハ20に形成された固体撮像素子2の主面(有効画素領域3を有する平面)において、有効画素領域3の周囲の適宜の領域に予め形成された覆部4が接着部5を介して接着された状況を示す図である。個々の覆部4は、固体撮像素子2の一面において有効画素領域3の周囲の領域に適宜位置合わせした後、接着部5に用いた接着剤の性質に応じて赤外線照射又は熱硬化等の適宜の方法を用いて接着される。
図4の下段は図4の上段のB−B線における断面図である。接着部5は、有効画素領域3及び覆部4の間に形成される中空部9の外周部を包囲する構成とすることにより、ダストの侵入付着及び引っかき傷等による有効画素領域3での不良の発生を防ぐことができる。また、接着部5に通気路7を設けることにより、使用環境下において中空部9へ浸入した湿気又は中空部9に発生した湿気を外部へ排出することができる。覆部4の接着(接着部5の形成)は、有効画素領域3以外の領域においてすることから、有効画素領域3への物理的ストレスを排除できる。
覆部4が接着された固体撮像素子2は、分割線20aにおいて適宜ダイシング(分割)され半導体ウエハ20から分離されて、固体撮像装置10が形成される。覆部4が接着された固体撮像素子2は、その接着に用いる接着部5にダイシング工程時に外部から中空部9への水の浸入を阻止する構造の通気路7を有するので、有効画素領域3に水と共に切り屑等の異物がダストとして付着することを防止でき、有効画素領域3の表面に傷が生じることを防止できる。
なお、固体撮像装置10の説明は、一例であり、これに限定されるものではない。例えば、固体撮像装置10は、接着部5の形状を除いて、特許文献2の製造方法と同様にして製造することができる。
本実施形態の固体撮像装置1は、例えば、光学装置用モジュールとして適用することができる。図5は、本発明の光学装置用モジュールの概略構成を示す断面図である。光学装置用モジュール30は、例えばカメラモジュールであり、配線基板40上に、前述した固体撮像装置1が載置されているとともに、レンズユニット50が覆部4と対向するように接着部53を介して設けられている。また、固体撮像装置1とレンズユニット50は、モールド樹脂60によりモールドされている。
配線基板40は、プリント基板、セラミック基板等から構成される。レンズユニット50は、外部からの光を固体撮像素子2に導くためのものであり、レンズ51と、内部にレンズ51を保持するレンズホルダ(筒体,光路画定器,またはレンズバレルとも言い換えられる)52とが装着される。なお、配線基板40上には、図示しないデジタルシグナルプロセッサ(DSPという)等が載置される。また、固体撮像素子2と配線基板40とは、ボンディングワイヤ41により、互いに電気的に接続される。
光学装置用モジュール30は、覆部4により有効画素領域を保護した固体撮像素子2が実装されている。このため、光学装置用モジュール30の製造において、固体撮像素子2を実装した以降の工程では、固体撮像素子2の有効画素領域の表面にダストが付着することがないので、クリーン度の低い生産環境の下でも製造が可能となる。従って、歩留まりの向上、工程の簡略化及び低価格化が可能な光学装置用モジュール及びその製造方法を実現できる。
なお、本実施形態では半導体素子の一例として固体撮像素子を、半導体装置の一例として固体撮像装置を用いたが、固体撮像装置の代わりに、半導体素子として半導体レーザ素子を用い、電気入力を光に変換する半導体レーザ装置を半導体装置として適用してもよい。また透光性の覆部4の代わりに透光性を有さない材料からなる覆部を用いてもよい。
本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。すなわち、請求項に示した範囲で適宜変更した技術的手段を組み合せて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
本発明の半導体装置は、例えば、カメラまたはビデオレコーダカメラ等の光学装置に搭載する固体撮像装置として好適に利用することができる。
本発明の固体撮像装置の概略構成を示す平面図である。 図1の固体撮像装置のA−A矢視断面図である。 本発明の別の固体撮像装置の概略構成を示す平面図である。 図3の固体撮像装置の製造方法を示す平面図である。 本発明の光学装置用モジュールの概略構成を示す断面図である。 従来の固体撮像装置の概略構成を示す断面図である。 特許文献1の固体撮像装置の断面図である。 特許文献2の固体撮像装置の部分構成を示す平面図である。 図8の固体撮像装置のC−C矢視断面図である。
符号の説明
1 固体撮像装置
2 固体撮像素子
3 有効画素領域
4 覆部
5 接着部
5a 接着部5の1辺
7 通気路
7a 第1開口端部
7b 第2開口端部
7c 捕捉部
8 信号処理部(アナログ信号回路部,増幅回路部)
9 中空部
10 固体撮像装置
20 半導体ウエハ
30 光学装置用モジュール
40 配線基板
50 レンズユニット
51 レンズ
52 レンズホルダ
60 モールド樹脂

Claims (7)

  1. 半導体素子、半導体素子を覆う覆部、半導体素子と覆部とを接着する接着部、および、半導体素子の信号処理を行う信号処理部を備え、
    半導体素子と覆部との間に中空部が形成されており、
    接着部に中空部から外部に通じる通気路が形成された半導体装置であって、
    接着部が、信号処理部の全体を覆うように形成されており、
    上記覆部は、透光性を有しており、
    上記半導体素子は、上記覆部を透過した光を電気信号に変換する受光素子が複数配列された有効画素領域を有する固体撮像素子であり、
    上記接着部は、有効画素領域を避けて形成されていることを特徴とする半導体装置。
  2. 半導体素子、半導体素子を覆う覆部、半導体素子と覆部とを接着する接着部、および、半導体素子の信号処理を行う信号処理部を備え、
    半導体素子と覆部との間に中空部が形成されており、
    接着部に中空部から外部に通じる通気路が形成された半導体装置であって、
    接着部が、信号処理部を避けて形成されており、
    上記覆部は、透光性を有しており、
    上記半導体素子は、上記覆部を透過した光を電気信号に変換する受光素子が複数配列された有効画素領域を有する固体撮像素子であり、
    上記接着部は、有効画素領域を避けて形成されていることを特徴とする半導体装置。
  3. 上記信号処理部が、アナログ信号回路部であることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
  4. 上記信号処理部が、上記受光素子により変換された電気信号を増幅処理する増幅回路部であることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
  5. 上記通気路は、
    上記中空部に通じる第1開口端部と、
    外部に通じる第2開口端部と、
    第1開口端部および第2開口端部の間に設けられ、水を捕捉する捕捉部とを有することを特徴とする請求項1〜のいずれか1項に記載の半導体装置。
  6. 上記接着部は、矩形環状であり、
    上記通気路は、上記接着部の少なくとも1辺に沿って形成されていることを特徴とする請求項1〜のいずれか1項に記載の半導体装置。
  7. 請求項1〜6のいずれか1項に記載の半導体装置と、上記半導体素子に外部光を導くレンズユニットとを備えることを特徴とする光学装置用モジュール。
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