JP4369532B2 - 薄膜形成方法および成膜装置 - Google Patents
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Description
真空中で成膜源から飛来した粒子を基板上に堆積させることによって薄膜を形成する方法であって、
前記成膜源と前記基板との間に走行経路の往路と復路とが設定された可動式の無終端帯によって前記基板の表面の成膜領域が規定されるように前記成膜源と前記基板との間に前記無終端帯を配置した状態で、前記基板上に前記粒子を堆積させる、薄膜形成方法を提供する。
真空槽と、
前記真空槽内に配置された成膜源と、
前記成膜源に面する所定の成膜位置に基板を供給する基板搬送ユニットと、
前記成膜位置と前記成膜源との間に走行経路の往路と復路とが形成されるように前記成膜位置に近接して配置されるとともに前記基板の表面の成膜領域を規定する無終端帯と、前記成膜領域を規定している部分が一の部分から他の部分へと移るように前記無終端帯を走行させる駆動部とを有する可動式遮蔽機構と、
を備えた、成膜装置を提供する。
図7に示す成膜装置200の基本構造は、図1に示す成膜装置100のそれと同じである。成膜装置200は、成膜源27からの材料粒子が基板21に対して主に斜め方向から入射する点で成膜装置100と相違する。つまり、成膜装置200では、水平方向および垂直方向から傾いた方向に直線的に走行している基板21に対して、成膜源27からの材料粒子を堆積させる(いわゆる斜め入射成膜)。斜め入射成膜によると、自己陰影効果により微小空間を有する薄膜を形成できるので、高C/N磁気テープやサイクル特性に優れた電池負極の製造に有効である。
Claims (14)
- 真空中で成膜源から飛来した粒子を基板上に堆積させることによって薄膜を形成する方法であって、
前記成膜源と前記基板との間に走行経路の往路と復路とが設定された可動式の無終端帯によって前記基板の表面の成膜領域が規定されるように前記成膜源と前記基板との間に前記無終端帯を配置した状態で、前記基板上に前記粒子を堆積させる、薄膜形成方法。 - 前記基板を覆う位置において、前記無終端帯が、前記往路を占有している往路側部分と、前記復路を占有している復路側部分とを有し、
前記往路側部分と前記復路側部分とが、前記無終端帯の厚さ方向に関して互いに平行である、請求項1に記載の薄膜形成方法。 - 前記成膜領域を規定している部分が一の部分から他の部分へと移るように前記無終端帯を走行させる工程をさらに含む、請求項1に記載の薄膜形成方法。
- 前記基板上に前記粒子を堆積させる工程を実施しながら前記無終端帯を走行させる工程を実施する、請求項3に記載の薄膜形成方法。
- 前記基板を覆う位置から離れた位置において前記無終端帯上の堆積物を除去する工程をさらに含み、
前記堆積工程および前記無終端帯を走行させる工程を実施しながら前記除去工程を実施する、請求項4に記載の薄膜形成方法。 - 前記除去工程において、前記無終端帯上の堆積物に機械的な力を付与する操作、前記無終端帯を屈曲させる操作、前記無終端帯上の堆積物を加熱する操作および前記無終端帯上の堆積物にレーザーを照射する操作からなる群より選ばれる少なくとも1つの操作を行う、請求項5に記載の薄膜形成方法。
- 前記成膜源に近い側を前記往路、前記基板に近い側を前記復路としたとき、
前記無終端帯の任意部分が前記基板を覆う位置での前記往路を通過後、前記基板を覆う位置での前記復路に到達する前までに、前記無終端帯の前記任意部分に対して前記除去工程を実施する、請求項5に記載の薄膜形成方法。 - 真空を維持しつつ、前記基板を覆う位置から離れた位置において前記無終端帯上の堆積物を除去する工程をさらに含む、請求項1に記載の薄膜形成方法。
- 前記基板が可撓性を有する長尺基板であり、
繰り出しローラから巻き取りローラへと搬送中の前記基板上に前記粒子を堆積させる、請求項1に記載の薄膜形成方法。 - 真空槽と、
前記真空槽内に配置された成膜源と、
前記成膜源に面する所定の成膜位置に基板を供給する基板搬送ユニットと、
前記成膜位置と前記成膜源との間に走行経路の往路と復路とが形成されるように前記成膜位置に近接して配置されるとともに前記基板の表面の成膜領域を規定する無終端帯と、前記成膜領域を規定している部分が一の部分から他の部分へと移るように前記無終端帯を走行させる駆動部とを有する可動式遮蔽機構と、
を備えた、成膜装置。 - 前記基板を覆う位置において、前記無終端帯が、前記往路を占有している往路側部分と、前記復路を占有している復路側部分とを有し、
前記往路側部分と前記復路側部分とが、前記無終端帯の厚さ方向に関して互いに平行である、請求項10に記載の成膜装置。 - 前記可動式遮蔽機構が、真空を維持しつつ前記無終端帯上の堆積物を除去するクリーナをさらに有する、請求項10に記載の成膜装置。
- 前記クリーナが、前記無終端帯上の堆積物に機械的な力を付与する器具、前記無終端帯を屈曲させる器具、前記無終端帯上の堆積物を加熱する加熱装置および前記無終端帯上の堆積物にレーザーを照射するレーザー照射装置からなる群より選ばれる少なくとも1つを含む、請求項12に記載の成膜装置。
- 前記基板が可撓性を有する長尺基板であり、
前記基板搬送ユニットが、成膜前の前記基板を繰り出す第1ローラと、成膜後の前記基板を巻き取る第2ローラとを有する、請求項10に記載の成膜装置。
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