JP4341763B2 - 反射光学素子および電気光学ディスプレイ装置 - Google Patents

反射光学素子および電気光学ディスプレイ装置 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学素子、すなわちその反射板と相互作用する光の特性に所望の改変を与える反射板に関する。本発明はまた、ディスプレイ装置に組み込まれた光学素子およびそのようなディスプレイ装置を製造する方法にも関する。
【0002】
【従来の技術】
反射型ディスプレイ装置は周知の通りである。基本的に、反射型ディスプレイ装置は、光変調素子および光変調素子の後ろに配置される反射板で構成される。光変調素子の前面の光入射は素子を通過し、反射板により反射され、そして再び光変調素子を通過する。反射型ディスプレイ装置は、適切な照明条件下、周辺光を利用することができ、独自の光源を必要としないという利点を有する。そのようなディスプレイが効果的に動作するためには、ディスプレイに入射した周辺光のうち十分な量の光が観測者に向けられることが必要である。これにより、十分に明るい表示が得られる。
【0003】
ブレーズ反射板を用いれば、斜角で反射型ディスプレイ上に入射する周辺光の方向を変えて、反射後の周辺光が、実質的に法線方向にディスプレイから射出するようにすることができるという利点がある。なぜなら、ディスプレイの観察者は、概して、法線方向あるいは近法線方向からディスプレイを見るからであり、また、ブレーズ反射板を用いることにより、観察者方向への表示においてより大きな反射率を得ることができる。
【0004】
ブレーズ反射板の動作原理を、図1aおよび図1bに示す。
【0005】
図1aにおいて、光は、互いに平行な上面および下面を有する屈折率nの材料のブロック1上に入射する。光が、法線方向に対してθの角度でブロック1の前面上に入射すると、その光はブロック1の前面で屈折する。光は、法線方向に対してθの角度でブロック内を伝搬する。この時、θおよびθは、スネルの法則により関係付けられる。すなわち、sinθ=sinθ/n(ブロック外の媒体が屈折率n=1を有すると仮定)。
【0006】
金属あるいは誘導体層のような反射層1’が、図1aのブロック1の下面上に配置される。ブロック1を透過した光は、ブロックの下面に達すると反射層1’により正反射し、ブロックの上面で再度屈折して、法線方向に対してθの角度でブロックを出射する。従って、光が、ブロックの法線方向に対して斜めの角度でブロック1の上面上に入射すると、この光が同じ絶対値の斜角にて反射され、このため、法線方向からブロックを見ている観察者に達しないことが分かる。
【0007】
ブレーズ反射板を使用することの利点を、図1bに示す。図1bでは、ブロックの下面は、ブロックの上面に平行な平面ではなく、ブレーズ反射板の形をとっている。周知のとおり、ブレーズ反射板の反射表面は複数のセグメントで構成され、各セグメントは、θ(「ブレーズ角」として公知である)の角度で傾斜している。反射層1’は、各セグメントの下面に配置されている。
【0008】
ブロックの下面が、一連の傾斜セグメントであるために、斜角にてブロックを透過する光が、ディスプレイの法線方向により近い方向に反射される。θ=θ/2となるようにブレーズ角が選択される場合、反射光は法線方向に反射される。従って、ブレーズ反射板を使用すれば、法線方向あるいは近法線方向でのディスプレイの明るさが増大する。
【0009】
ブロック1の屈折率をn=1.5とすると、法線方向に反射光を向けるために必要なブレーズ角は、θ=30°の場合、θ=10°である。θ=45°の場合、必要なブレーズ角はθ=14°である。
【0010】
図2aは、方位角90°、極角+30°でディスプレイに入射する集光光用反射型ディスプレイ装置からの好ましい反射円錐体2を示す極座標である。光がこの円錐体内で反射されると、この光は、法線方向あるいは近法線方向の角度でディスプレイを見ている観察者に達する。
【0011】
図2bは、ブレーズ反射板を組み込んだ反射型ディスプレイ装置と共に用いられる光源の設置可能位置の典型的な範囲3を示す極座標である。
【0012】
公知のように、反射型ディスプレイ装置は、従来の液晶ディスプレイ装置、およびこの液晶ディスプレイ装置の後ろに配置されたブレーズ反射板で構成される。この用途において適切なブレーズ反射板は、典型的には、適切なエンボス加工ツールをフォトポリマー層上で移動させることにより基板5の上に配置された熱可塑性ポリマー膜4をエンボス加工することによって形成される。この様子を図3に概略的に示す。フォトポリマー層4をエンボス加工した後、次に金属膜をフォトポリマー4上に配置して、ブレーズ反射板を形成する。この方法によるブレーズ反射板の製造は、米国特許第5,245,454号および第5,128,787号に記載されている。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、ブレーズ反射板を、従来のパッシブマトリックスLCDの後ろに配置することは、第2の基板の厚さが、ディスプレイ面における絵素(画素)の辺の大きさより小さい場合においてのみ良好である。このアプローチは、例えば、薄膜トランジスタ(TFTs)のようなアクティブマトリクスLCDの構成要素がブレーズ反射板を遮光するため、アクティブマトリクスLCDとは適合しない。従って、LCDを通過する多大な量の光は、ブレーズ反射板には到達せず、画素電極により斜角にて反射されるか、あるいはLCDのその他の構成要素により吸収される。さらに、LCDの外部でブレーズ反射板を使用すると、隣接し合う画素間における光学クロストークを引き起こし、また、視差問題も起こし得る。これは、ディスプレイの解像度の低下につながる。
【0014】
LCD内にブレーズ反射板を配置することが望ましく、これにより、反射板の遮光の問題、光学クロストークおよび視差の問題が解消されるか、あるいは少なくとも大幅に減少される。
【0015】
反射型ディスプレイ用の反射板としてさらに望ましい特性は、正確な正反射方向の周囲のある角度範囲にわたって光を反射する特性である。そのような反射板を使用すれば、十分な量の光を観測者に向けながら、光源からの直接正反射光を観測者の位置からずらすことが可能となる。これにより、観測者が光源のイメージを見なくなるため、観測者の位置におけるグレアが緩和される。
【0016】
シャープ株式会社の米国特許第5,204,765号、第5,408,345号および第5,576,860号は、拡散反射特性を有する液晶ディスプレイ用内部電極を記載する。反射板は、正反射方向の周囲のある角度範囲にわたって光を向け、また、反射板に入射した光の偏光状態を維持する。しかしながら、この反射板は対称反射板であり、この技術で、非対称拡散反射板を製造するまでには至っていない。高解像度アクティブマトリクスディスプレイ内での使用に適切なブレーズ反射TFT電極は、いまだかつて作製されていない。さらに、拡散反射特性を有する非対称反射板も、いまだかつて作製されていない。
【0017】
図3に示すエンボス加工技術を用いて内蔵ブレーズ反射板を形成することは、原理的には可能であるが、実際は困難である。ブレーズ反射板が画素電極として機能するアクティブマトリクスLCDにおける1つの問題は、フォトポリマー上に配置される金属層を、LCDの基板上に配置される薄膜トランジスタ(TFT)に電気的に接続しなければならないことである。これにより、フォトポリマー層4にスルーホールあるいはバイアを形成することが必要となるが、従来のエンボス加工技術では困難である。
【0018】
P.F.Greyの「Optica Acta」、Vol.25、pp.765−75(1978)は、レーザスペックルパターンを使用した、規定のプロファイルを有する光学ディフューザの形成を開示している。この技術では、コヒーレントレーザ光を光学的に拡散し、フォトレジストの露光に用いる。例えば、光量や露光時間を変えたり、あるいは、一回または複数の露光回数とすることにより、フォトレジストから異なるディフューザ特性が得られ得る。
【0019】
フォトレジスト層に格子構造を形成する公知の方法として、移相マスクの下でゼロ次および一次回折光を自己干渉させる近視野ホログラフィ方法がある。図4に、この方法を概略的に示す。光源7からの光が、透過回折格子8に向けられる。格子8により透過されたゼロ次光は、第1のミラー43により移相マスク9へと向けられ、一方、格子8からの一次回折光は、第2のミラー44により移相マスク9へと向けられる。ゼロ次光および一次光は互いに干渉し、これにより、移相マスク9の下に数ミクロン拡がった定在波が設定される。これにより、基板上に配置されたフォトレジスト層4を、生成プロセスにおいて好ましいとされる非接触モードにて露光させ得る。この技術の最大の欠点は、移相マスクの価格、およびマスクの大きさの制限であり、この制限によりフォトレジスト層内に規定可能な格子構造の大きさも制限される。さらに、この方法では、ブレーズ反射板をディスプレイデバイスに使用するのに十分に小さなブレーズ角を得ることができない。
【0020】
M.C.Hutley著「Diffraction Gratings」、Academic Press、London、1982、pp.95−125は、フォトレジスト層の回折格子を規定する別の方法を開示している。この方法を、図5に概略的に示す。この方法によれば、アルゴンイオンレーザのような光源10からの光を、固定式ディフューザ11と回転式ディフューザ11’との組み合わせにより広げ、次にレンズ12により集光して広げられたビームを得る。得られたビームは、半透明ミラー13に入射する。半透明ミラー13は、ビームの一部を反射し、ビームの一部を透過する。反射ビームは、第1のミラー14に入射し、透過ビームは、第2のミラー15に入射する。ミラー14および15は、反射ビームおよび透過ビームが、基板5上に配置されたフォトレジスト層4上に向けられるように配置されている。2つのビームによって、ある干渉パターンが設定され、フォトレジスト層4が、この干渉パターンにより露光される。この方法は、フォトレジスト層内に、対称格子あるいは非対称格子のどちらでも規定できるという利点がある一方、干渉パターンを設定するために複雑な光路調整が必要とされる欠点がある。さらに、非対称格子は、フォトレジスト層4が透明基板上に配置される場合にのみ、形成可能である。TFT基板は一様に透明ではなく、不透明な構成要素を含む。
【0021】
米国特許第4,935,334号、および第5,111,240号は、フォトレジストマスクの製造方法を記載している。これらの特許は、特にフォトレジスト層内のホールの壁面プロファイルを変化させる方法に関する。これらの特許は、マスクを通して部分的にフォトレジスト層を露光し、マスクおよびフォトレジスト層を互いに対して移動させ、その後フォトレジスト層を再び露光することにより、テーパ状の壁面プロファイルを有するホールを形成する方法を開示している。形成されたフォトレジストマスクは、その後の処理工程、例えば、VLSI回路の製造における処理工程でマスクとして使用され、これらの処理工程が完了すると、フォトレジスト層は完全に取り除かれる。
【0022】
W.Daschnerらによる(Appl.Optics、Vol.36、p.4675(1997)は、フォトレジスト内にブレーズ構造を形成する方法を開示している。これには、階調マスクを通して電磁照射を伴うフォトレジストの露光、および階調マスクの製造方法も開示されている。
【0023】
【課題を解決するための手段】
本発明の第1の局面は、表面上に反射層を伴う微細構造表面を備える反射光学素子を提供する。この反射素子により、斜め方向からの入射光を、不規則な区分的直線ブレーズ構造によって所定の方向に再指向および散乱させることが可能になる。反射光学素子は、以下に示す方法にて製造され得る。
【0024】
ブレーズ構造は、2つの角度で規定される。ブレーズセグメントのクレストに対する法線方向に対して、一方は浅い傾斜(図1bにおいて(m)を、他方は急な傾斜(図1bにおいて90°)を規定する。ブレーズセグメントは、付加的な曲率を有することが可能で、例えば、変化する部分において凸面、凹面、あるいは両方の組み合わせを有することができる。複数のセグメントは、各セグメントのクレストに対する複数の法線が、すべてのクレストに対する法線の平均に対して、ある方位角範囲にわたって変化するように、区分的直線方法で一体化される
【0025】
従来の技術と比較すると、本発明は以下の利点を有する。すなわち、ブレーズ角度、ブレーズプロファイル(凹面、凸面、あるいは両方)、方位分布、およびブレーズ構造の方位分布の相対的確率を、同時に事前決定できる。これにより、散乱反射分布の正確な予測ができる。
【0026】
本発明の第2の局面は、第1の基板および第2の基板と、第1の基板と第2の基板との間に配置された電気光学材料層と、電気光学ディスプレイ装置を正面から観察した場合、電気光学材料の後ろに配置される上記規定される反射板と、を備える電気光学ディスプレイ装置を提供する。この第2の局面において反射板は、本発明の第1の局面において説明された機能のみを有する。本発明のこの局面は、ディスプレイ面に垂直な第2の基板の厚さが、絵素(画素)の辺の大きさより大きい場合、特に有用である。
【0027】
本発明の第3の局面は、第1の基板および第2の基板と、第1の基板と第2の基板との間に配置された電気光学材料層と、電気光学材料と第2の基板との間に配置される上記規定の反射板と、を含み、上記反射板が導電性特性を有し、かつ、電気光学材料に対して電極として機能することを特徴とする、電気光学ディスプレイ装置を提供する。本発明の本局面は、ディスプレイ面に垂直な第2の基板の厚さが、絵素(画素)の辺の大きさより大きい場合、特に有用である。
【0028】
光学素子を製造する方法は、
(a)フォトレジスト層の第1の部分を露光する工程と、
(b)フォトレジスト層の第2の部分を、フォトレジスト層の第1の部分と異なる深度に露光する工程と、
(c)フォトレジストを現像する工程と、
を含み得る。
【0029】
フォトレジスト層が現像されると、その結果得られたフォトレジスト層は、異なる厚みを有する複数の領域を有する。本発明の方法で使用される工程は、米国特許第4,935,334号および第5,111,240号に開示されている工程と類似しているが、本発明においては、現像されたフォトレジスト層を光学素子内に組み込んで使用する。この点において、本発明は、これらの従来技術とは異なる。すなわち、これらの従来技術によって製造されるマスクは、その後の処理工程において、例えば、ウェットエッチングまたはドライエッチングにおけるエッチャントに対するマスクとして、あるいはイオン注入プロセスにおけるグレーデッドレジストとして使用され、これらの処理工程が完了した後完全に取り除かれるものである。
【0030】
本発明による光学素子の製造方法は、例えば、LCDあるいはその他の電気光学ディスプレイ装置のようなディスプレイ装置における内部光学素子を製造するのに適している。
【0031】
本発明の方法は、(d)現像されたフォトレジスト層上に反射層を配置する工程をさらに含んでもよい。これにより、傾斜反射表面を有する反射板が提供される。
【0032】
第2の露光工程時間は、第1の露光工程時間と異なってもよい。あるいは、第2の露光工程で使用される照射強度は、第1の露光工程で使用される照射強度と異なってもよい。これらは、フォトレジスト層の第2の部分を、フォトレジスト層の第1の部分と異なる深度に露光するのに好適な方法である。
【0033】
フォトレジスト層をマスクを通して露光してもよい。この時、2つの露光工程の間に、マスクをフォトレジスト層に対して動かしてもよく、あるいは、工程(a)および工程(b)の間中継続的に、マスクをフォトレジスト層に対して動かしてもよい。あるいは、2つの露光工程の間に、光源をフォトレジスト層に対して動かしてもよく、あるいは、工程(a)および工程(b)の間中継続的に、光源をフォトレジスト層に対して動かしてもよい。これらは、2つの露光工程でフォトレジスト層の異なる部分が露光されることを確実にするのに好適な方法である。
【0034】
本発明の方法は、(e)フォトレジスト層の第3の部分を、フォトレジスト層の全深度を通して露光させる工程をさらに含んでもよい。その場合、この工程は、フォトレジストを現像する工程よりも前に実行される。これにより、スルーホールあるいはバイアがフォトレジスト層を通って形成される。このスルーホールあるいはバイアを介して、フォトレジスト層の反対側に位置する構成要素の間を電気的に接続することができる。例えば、フォトレジスト層がアクティブマトリクス基板上に配置される場合、バイアを介して、アクティブマトリクス基板上の薄膜トランジスタ(TFT)を、フォトレジスト層上に配置された電極に接続することができる。
【0035】
反射層は、導電性の層でもよい。その場合、反射層は、反射電極として使用可能となる。さらに、バイアがフォトレジスト層に形成された場合、フォトレジスト上に導電性の層を配置する工程は、結果的に、バイアを導電性材料で充填することになり、従って、フォトレジスト層を介して電気的接続が得られる。これにより、反射電極は、フォトレジスト層の反対側に配置された対応するスイッチング素子に接続される。
【0036】
前記反射層は、金属層でもよい。
【0037】
露光工程で使用されるマスクは、不透明なバックに規定される複数の透明な光を含んでもよい(本明細書中で使用される用語「透明」および「不透明」は、マスクが、フォトレジストを露光するために使用される光の波長に対して、透明か不透明かを意味する)。露光工程においてこのようなマスクを使用すれば、現像されたフォトレジスト層内に、複数の深度が低減した領域が形成される。現像されたフォトレジスト層上に反射層を配置すれば、複数の傾斜反射表面を有するブレーズ反射板が形成される。
【0038】
マスク内に規定される透明な線は、区分的直線かつ不規則であってもよい。本実施形態において、ブレーズ格子の「クレスト」は、直線を形成せず、不規則な線を形成する。これにより、反射板により反射される光も拡散され、結果的に、光は、正反射方向の周囲のある角度範囲にわたって反射する。従って、光を拡散する機能を兼ね備えた非対称反射板、すなわち、正反射方向の周囲のある角度範囲にわたって光を反射する非対称反射板が形成される。
【0039】
前記透明な線は、互いに概略平行であってもよい。あるいは、隣接し合う透明な線の間の分離は、ランダムに変化してもよい。これに対応して、反射板上の隣接し合うクレスタ間の分離も、ランダムに変化する結果となる。これにより、反射光は異なる方位角に散乱し、反射光の拡散性を大きくする。
【0040】
本方法には、(f)フォトレジスト層を、フォトレジスト層の領域にわたってランダムに変化した強度を有する光に露光する工程をさらに含んでもよい。その場合、この工程はフォトレジストを現像する工程の前に実行される。露光量は、フォトレジストを完全に露光しないように、現像後のフォトレジスト層の厚みに付加的な小さな変化を与える程度に設定される。これらの小さな厚みの変化により、反射光の散乱がさらに増加する。
【0041】
工程(f)は、フォトレジスト層をレーザスペックルパターンに露光することを含んでもよい。レーザスペックルパターンの大きさおよび強度は、現像されたフォトレジスト層における厚みの変化の大きさを決定する。
【0042】
上記の方法が好ましい一方で、本発明の第1〜第3の局面もまた、上記の方法により作成され得る階調マスクを用いて達成され得る。特に本発明の第2の局面に関しては、例えば、上記で説明されたエンボス加工技術のように、他の製造方法は想像可能である。
【0043】
上記の方法は、
i)アクティブマトリクス基板を製造する工程と、
ii)アクティブマトリクス基板上にフォトレジスト層を配置する工程と、
iii)上記の方法にて、フォトレジスト層を露光および現像する工程と、
を含む、電気光学ディスプレイ装置の製造方法を提供する。
【0044】
これは、内部光学素子を組み込んだディスプレイ装置の製造を可能とする。例えば、アクティブマトリクスディスプレイに、画素電極としての役割を兼ね備えた内部ブレーズ反射板を設けることができる。反射板は、フォトレジスト層のバイアを介してアクティブマトリクス基板上のTFTに容易に接続可能である。ブレーズ反射板はアクティブマトリクスの基板上に配置されるため、外部反射板をディスプレイの後ろに配置する従来技術とは対照的に、アクティブマトリクスの基板上の構成要素が反射板上に影を形成することはない。ディスプレイ内に反射板を配置すれば、隣接し合う画素間の視差およびクロストークが減少される。
【0045】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施形態を、添付の図面を参照しながら例示的な実施例を用いて説明する。
【0046】
図6aは、本発明において有用な方法を示す概略図である。図6aにおいて、基板5上にポジフォトレジスト層4が設けられている。フォトレジスト層4は、開口(光透過)17を有するマスク16を通して照射される。マスク16は、フォトレジスト層4に対して、横方向に移動可能であり、これにより、フォトレジスト層4の異なる領域を、光源50からの放射により露光することが可能となる。図6aに示す例では、2つの開口17が距離Xの間隔をあけてマスク16に設けられているが、本発明は、2つの開口を有するマスクに限定されるものではない。投射フォトリソグラフィーを用いることにより、フォトレジスト4とマスク16との間の距離は、1マイクロメートルよりも大きくすることが可能である。
【0047】
フォトレジスト層4に様々な深度の凹部を形成する方法を、図6b〜図6dを参照して以下に示す。便宜上、図6b〜図6dのマスク16には、開口17は1つしか示していない。
【0048】
図6bは、第1の露光工程を示す。この工程において、フォトレジスト層の第1の領域18は、マスク16の開口17を通して露光される。露光照射強度および露光工程時間は、第1の領域18が深度d1に露光されるように制御される。
【0049】
フォトレジスト層4としては、例えば、1〜4μmの範囲の厚みを有するフォトレジスト1828(Shipley製)などの、プリベーク(ソフトベーク)したポジ型フォトレジストの層が適切である。概して、露光深度と露光量との間で線形に近い関係を示すフォトレジストが好ましい。露光工程で使用される放射は、フォトレジストが感光性を持つあらゆる波長のものが可能である。1828フォトレジスト(Shipley製)の場合、いわゆる水銀灯のi線の紫外線照射が適切である。
【0050】
第1の露光工程が完了すると、マスク16を、フォトレジスト層4に対して横方向に動かす。次に、図6cに示すように、第2の露光工程が実行され、フォトレジスト層4の第2の領域19が露光される。露光強度および/あるいは露光工程時間は、フォトレジスト層4の領域19が深度d2(d2>d1)に露光されるように選択される。
【0051】
次に、フォトレジスト層4を現像する。適切な現像工程としては、水酸化ナトリウム水溶液(Shipley製 MicropositTM351CD51)を用いて60秒間ウェットエッチングすることである。あるいは、ドライプラズマエッチングが適切である。
【0052】
現像工程において、露光工程にて露光されたフォトレジスト部分は、未露光部分よりも高速で除去される。従って、現像されたフォトレジスト層4’には、露光工程におけるマスクの移動方向と平行な方向に沿って部分的にスロープを有するベース41を持つ凹部40が形成される。現像されたフォトレジスト層4’のプロファイルを、図6dに示される。
【0053】
図6bから図6dを参照しながら説明した上記方法は、米国特許第4,935,334号および第5,111,240号に開示されている方法と概ね同様であるが、本発明においては、現像されたフォトレジスト層を光学素子に組み込んで使用するのに対して、米国特許第4,935,334号および第5,111,240号におけるフォトレジスト層は、その後の処理工程においてマスクとして用いられた後除去される。
【0054】
図6dに示される現像されたフォトレジスト層を、金属コーティングのような反射コーティングでコーティングすると、フォトレジスト層の41の部分に対応する反射板の部分は、反射板の残りの部分に対して傾斜する。複数の開口を有するマスクを用いれば、複数の傾斜領域を有するブレーズ反射板が形成される。
【0055】
図6bから図6dにおいて、フォトレジスト18および19の第1および第2の露光領域は重ならない。しかしながら、フォトレジストの第1および第2の露光領域が部分的に重なっていてもよい。なぜなら、第1および第2の露光領域が部分的に重なっていても、露光されたフォトレジストを現像すれば、傾斜したベースを有する凹部が形成されるからである。
【0056】
図7aは、本発明で用いるのに適した1つのマスクの平面図を示す。このマスクは、不透明なバックに規定される複数の透明な線で構成される。透明な線は、互いに実質的に平行である。マスクは、露光工程の間において、原理的には透明な線に対して平行でないあらゆる方向に動かすことができるが、透明な線に対して実質的に垂直の方向に動かすことが好ましい。
【0057】
図6bから図6dを参照しながら説明した上記の方法には、露光工程は2つしかないが、実際には、それ以上の露光工程がある。図8は、図6bから図6dの方法と同様な方法で8つの露光工程を含む場合に、時間の関数としてのマスクを変位させる2つの可能な方法を示す。
【0058】
図8の上側に示すステップ関数は、マスクの移動方向に対して正方向のスロープを露光されたフォトレジストに与えるために必要な時間におけるマスクの変位を示す。この方法において、t=0からt=t1までの間に行われる第1の露光工程時間が最長であり、フォトレジストの露光深度も最大となる。これ以降の露光工程時間は段階的に短くして、各露光工程におけるフォトレジストの露光深度が1つ前の露光工程におけるフォトレジストの露光深度よりも小さくなるようにする。
【0059】
図8の下側に示すステップ関数は、マスクの移動方向に対して負方向のスロープを現像されたフォトレジストに与える。図8の下側の線で示されるステップ関数において、t=0からt=t1’までの間に行われる第1の露光工程時間が最短であるため、フォトレジスト層の露光深度も最小となる。これ以降の露光工程時間は、段階的に長くなる。
【0060】
図8に示す変位/時間の関係において、1つの露光位置から次の露光位置へのマスクの移動にかかる時間は、最小露光工程時間よりもはるかに小さい。そのため、マスクを継続的に照明、すなわち、露光工程中だけでなくマスクの移動中にもマスクを照明することが可能である。しかし、1つの露光位置から次の露光位置へのマスクの移動にかかる時間が最小露光工程時間と同等以上である場合は、マスクを露光工程中のみ照明して、マスクの移動中には照明しない間欠照明方法を用いることが好ましい。
【0061】
図7aのマスクを用いて、このマスクを図8の下側のステップ関数に応じて移動することにより得られた、現像されたフォトレジストの断面図を図9に概略的に示す。(図9において、マスクはフォトレジスト層に対して右から左へと移動すると仮定する。)現像されたフォトレジスト層は、ブレーズプロファイルを有することがわかる。
【0062】
図10aは、図9の現像されたフォトレジスト層4’の概略斜視図である。
【0063】
別の方法においては、マスクを、フォトレジストの露光中継続的に照明し、フォトレジスト層の上を連続的に横断させる。本実施形態において、フォトレジストの露光深度は、フォトレジストに対するマスクの移動速度を変化することにより変化するフォトレジスト層に正方向のスロープを与えるためには、フォトレジストに対するマスクの移動速度を初めは下げ、時間の経過と共に上げる。マスクの移動速度が上がるにつれ、フォトレジストの露光深度は減少する。逆に、現像されたフォトレジスト層に負方向のスロープを与えるためには、マスクを、フォトレジストに対して初めは低速度で動かし、マスクの移動速度を時間の経過と共に上げて、フォトレジストの露光深度を減少させる。マスクの加速度は、現像されたフォトレジストに望ましいプロファイルが得られるように選択される。加速度は、一定であってもよいし、あるいは時間の経過と共に変化させてもよい。
【0064】
別の実施形態において、上記のブレーズ散乱反射板は、階調フォトマスクを用いて作製される。この階調フォトマスクを、フォトマスクと基板との間の相対的な移動と組み合わせて用いてもよい。これは、階調マスクの階調数が非常に少ない場合に、特に有用である。あるいは、この階調フォトマスクを用いて、上記のフォトマスクと基板との間の相対的な移動は行わなくてもよい。
【0065】
階調マスクを作製するのにいくつかの公知の技術のうちの1つが使用され得る。例えば、W.DaschnerらによるAppl.Optics、Vol.36、p.4675(1997)に開示されるような、量の増加に応じて不明瞭となるEビーム高感度ガラス(HEBS−ガラス、Canyon Materials、Inc.)がある。
【0066】
いずれの特定の位置においても、階調フォトマスクを通してフォトレジストを露光すれば、このフォトマスクの光学密度に応じて露光深度が変化する。
【0067】
別の実施形態において、図10bに示される特性を有する上記のブレーズ散乱反射板は、別の方法にて作製される。例えば、図3に概略的に示すようなエンボス加工がある。ブレーズ散乱反射板は、パッシブマトリックスLCDと共に第2の基板の後ろで優先的に使用され得る。上記の方法は、シム膜6の製造においても使用され得る。
【0068】
フォトレジストが現像されると、反射板を形成するために反射コーティングが設けられる。原理的には、フォトレジストにはあらゆる反射コーティングが塗布可能であるが、金属コーティングのような導電性の反射コーティングを塗布することが実用上好都合である。反射コーティングが導電性である場合、反射板は反射電極として使用可能である。
【0069】
図11は、フォトレジスト層上に金属を蒸着させることにより、現像されたフォトレジスト層を金属でコーティングするための装置の概略図である。この装置は、真空コンテナ20内に配置された蒸着ソース21を基本的に含む。蒸発ソース21は、金属ソース22および、例えば、抵抗ヒータなどの金属加熱用のヒータ23を含む。
【0070】
金属ソース22は、トレイ上に置かれるか、あるいは、タングステンコイル内に装填される。基板5は、現像されたフォトレジスト層側を金属ソース21に向けた状態で、真空チャンバ20内に装填される。真空チャンバは、金属ソース21からの熱により基板が変形しないように、十分な大きさをもって形成される。
【0071】
作動するにあたり、初めに真空チャンバ20を排気しておく。圧力が10−6mbarより下がると、金属22の加熱用ヒータ23のスイッチが入れられ、金属堆積速度が1nm/sに達するまで金属は加熱される。堆積速度は、モニタ24により監視される。
【0072】
堆積速度が望ましい値に達すると、金属ソース21と基板5との間に配置されたシャッタ25が開かれ、所定の厚みを有する金属層が、現像されたフォトレジスト上に堆積されるまで、開いた状態を保つ。シャッタ25は、その後閉められ、ヒータ23のスイッチが切られる。真空チャンバ20内の圧力は、大気圧に戻され、基板5がチャンバから取り除かれる。
【0073】
本方法は、蒸着プロセスにより金属被覆された現像フォトレジストに限定されるものではない。現像されたフォトレジスト上に金属膜を堆積する、あらゆる適切なプロセスを用いることが可能である。例えば、金属層を堆積するのに、スパッタリングプロセスを用いることが可能である。
【0074】
現像されたフォトレジスト層上に金属膜を堆積した後、金属膜は必要に応じてさらに処理され得る。例えば、反射板がアクティブマトリクスディスプレイ装置に組み込まれる場合、金属層をパターニングして、複数の画素電極を規定することができる。これは、あらゆる従来技術で可能である。
【0075】
図7bは、本発明の別の実施形態で使用されるマスクを示す。このマスクもまた、不透明なバックに規定される複数の透明な線で構成される(便宜上、図7bには、線は1つのみ示す)。図7bのマスクの透明な線は、図7aのマスクの透明な線ほど直線的ではなく、区分的直線かつ不規則である。
【0076】
図10bは、上記プロセスにおいて、図7bのマスクを、図7aのマスクの代わりに使用した場合に得られる、現像されたフォトレジスト層を示す概略斜視図である。この場合の現像されたフォトレジスト層も、やはり、ブレーズ構造を有するが、ブレーズの「クレスト」は直線ではなく、図7bのマスクの透明な線の形に概ね対応する形でxおよびy方向に区分的直線にかつ不規則に変化している。但し、基板からのクレストの高さは、実質的に一定であり、図10aに示す現像されたフォトレジスト層のクレストの高さと実質的に同じとなる。
【0077】
このxおよびy方向におけるブレーズ構造のクレストの変位によって、同一傾斜のスロープが方位角方向に分布した状態になる。図10bに示すような現像されたフォトレジスト層に反射層を設けて反射板を形成した場合、結果的に得られる反射板は、ある方位角範囲にわたって反射光を散乱する。従って、本方法は、本発明における非対称拡散反射板の作製を可能とする。
【0078】
不規則なクレストには、以下のようなさらなる利点がある。直線的で等間隔に配置されたクレストを有する反射板が単一光源で照らされる場合、回折が発生する。不規則なクレストを用いれば、この回折の発生を防ぐことができる。
【0079】
現像されたフォトレジスト層のスルーホールあるいはバイアは、現像されていないフォトレジストを露光するプロセスにて容易に形成することができる。フォトレジスト層4を本明細書中で説明したように露光してフォトレジストのブレーズ構造を規定した後、フォトレジスト層の一部を露光してフォトレジストの露光深度がフォトレジスト層の厚みと等しくなるようにする。これは、例えば、必要なバイアに対応する数、位置および大きさの透明部分を含む別のマスクを使用して行うことができる。あるいは、マスク16は、スルーホールを形成するために、適切な位置においてフォトレジスト4を深度全体にわたって完全に露光するのに十分に大きな開口を有することが可能でる。
【0080】
フォトレジストが現像されると、フォトレジストが完全に露光した各領域にスルーホールが形成される。フォトレジスト上に金属層が堆積されると、スルーホールは金属で充填され、現像されたフォトレジスト層を介した電気接続が形成される。これにより、反射層を、基板5上の構成要素に電気的に接続することができる。本発明は、このようにアクティブマトリクスディスプレイ装置内で使用するのに適切な反射板を提供する。
【0081】
反射層をパターニングして複数の画素電極あるいはサブ画素電極を規定する場合、各画素電極あるいはサブ画素電極を対応するスイッチング素子と接続するために独立したバイアが必要となる。
【0082】
フォトレジスト層にスルーホールを形成する場合、フォトレジスト層上への金属層の蒸着の間、蒸着ソースおよびフォトレジスト層を互いに対して円形状に動かすことが好ましい。これは、バイアの壁面が連続的に金属コーティングされることを確実にするためのものである。
【0083】
本発明のさらなる実施形態として、マスクの隣接し合う透明な線の間の分離は、ランダムに変化する。これに対応して、現像されたフォトレジスト層上の隣接し合うクレスト間の分離も、ランダムに変化し、光の方位散乱を増加する。これは、反射層からの反射の非回折特性を高める。
【0084】
図12は、本発明における反射板を組み込んだ液晶ディスプレイ装置の断面詳細図である。反射板は、液晶装置内に内蔵され、これにより、光学クロストークおよび視差の問題が低減され、また装置の他の構成要素が、反射板上を遮光することもない。
【0085】
本発明の液晶ディスプレイ装置は、前方基板30および後方基板31を含む。後方基板31は、アクティブマトリクス基板であり、画素電極を制御するための薄膜トランジスタ(TFT)のようなスイッチング素子42を備えている。また、電極線(図示せず)が、後方基板31上に配置されている。
【0086】
反射板は、後方基板および薄膜トランジスタを覆って設けられる。反射板は、上記のように作製されたブレーズプロファイルを有する現像されたフォトレジスト層32と、フォトレジスト層32上に配置された金属薄膜33とで構成される。反射板は、まず光学反射板として機能し、次に画素電極として機能する。
【0087】
現像されたフォトレジスト層32内にはバイア34が形成されている。このバイアは、フォトレジスト層32上に金属電極33を堆積する工程中に、金属で充填され、これにより、電極33を後方基板31上のスイッチング素子42と電気的に接続することが可能となる。
【0088】
前方基板30には、共通電極として機能する平面前方電極35が設けられている。
【0089】
液晶層36は、前方基板と後方基板との間に配置される。アライメント層(図示せず)は、液晶層36の液晶分子の配向を制御するために、前方電極35上およびミラー電極33上に配置される。
【0090】
カラーフィルタのアレイは、前方基板30と前方電極35との間で用いられ得る。
【0091】
最後に、偏光子37およびリターダ38は、使用する液晶モードが必要とするならば、前方基板30の前方に配置され得る。
【0092】
使用時、光軸のずれた光源43により、装置は前方から照らされる。装置にブレーズ反射板が含まれるため、光軸のずれた光源43からの光は、実質的に法線方向に反射する。
【0093】
図12の装置は、概して従来技術を用いて製造される。特に、薄膜トランジスタあるいは他のスイッチング素子を持つアクティブマトリクス基板31は、あらゆる従来の製造プロセスにて製造される。アクティブマトリクス基板は、フォトレジストでコーティングされ、フォトレジストのブレーズ構造を規定するために上記のように露光される。そして、必要ならば、アクティブマトリクス基板は、フォトレジストの各画素電極用のバイア34を規定するために再度露光される。フォトレジスト層は続いて現像され、次に金属コーティングが、現像されたフォトレジスト層上に堆積され、これをパターニングして画素電極を規定する。
【0094】
前方基板30は、あらゆる従来技術で製造される。次に、前方および後方基板を、従来技術により液晶装置内に組み込む。
【0095】
図13は、本発明の別の実施形態における液晶ディスプレイ装置の概略斜視図である。図13は、各画素に、赤、緑および青のサブ画素を形成するためのカラーフィルタ39R、39G、39Bが設けられたフルカラーディスプレイ装置であること以外は、概ね図12に示す装置と同様である。各サブ画素には、後方基板31上に独立した反射電極33R、33G、33Bが設けられる。これらの各電極は図12に示すブレーズ構造を有し、金属層でコーティングされたブレーズ構造を有するフォトレジスト層32R、32G、32Bで構成される。
【0096】
各反射電極33R、33G、33Bは、薄膜トランジスタ(図示せず)のような対応するスイッチング素子により、独立して制御される。各電極は、フォトレジスト層で規定されるバイア34R、34G、34Bにより対応するスイッチング素子に接続され、電極とスイッチング素子との間の導電性経路を設けるために金属で充填される。
【0097】
明瞭に示すため、図13において上側の電極35は省略する。
【0098】
白黒ディスプレイは、カラーフィルタ39R、39G、39Bが必要ないこと以外は、図13のフルカラーディスプレイと同様の概略構造を有する。さらに、画素をサブ画素に分割する必要がない(複数の中間階調レベルを表示するために分割することはできる)。
【0099】
本発明を、好適な実施形態を参照して説明してきたが、本発明は、これらの好適実施形態に限定されるものではない。
【0100】
上記の方法では、ポジ型フォトレジスト層を使用したが、本方法は、原理的には、ネガ型フォトレジストを使用することも可能である。
【0101】
図7aおよび図7bにおいて、マスクの透明な線は、マスクの幅全体にわたって連続している。しかし、透明な線が途切れていてもよい。例えば、ピクセル方式ディスプレイにおいて、反射板の各部分は、画素間のギャップに対応することになり、また、黒いマスクにより覆い隠されるので、そのような反射板の領域に、ブレーズ構造を設ける必要はない。
【0102】
図9に、現像されたフォトレジスト層の凹部のベースが、直線プロファイルで示されている。しかしながら、凹部のベースはこのプロファイルに限定されるものではなく、凹面あるいは凸状のプロファイルを有し得る。これは、方位角方向における散乱の増加となる。
【0103】
本発明におけるブレーズ反射板は、同時係属出願中の英国特許出願第9820516.4号に記載されているような反射透過型ディスプレイ装置の反射板として使用可能である。この用途において使用する場合、反射コーティングは、ブレーズ反射板が部分的に反射性で、部分的に透過性となるように十分に薄いことが望ましい。あるいは、反射コーティングが、ディスプレイの各画素の一部のみをカバー(あるいは、画素がサブ画素に分割されている場合は、各サブ画素の一部のみをカバー)することが必要である。
【0104】
表面上に反射層を伴う微細構造表面を有する反射光学素子が説明される。反射素子は、斜め方向からの入射光が、不規則な区分的直線ブレーズ構造により所定角度に再指向および散乱することを可能とする。
【0105】
反射光学素子は、ディスプレイ装置における内部または外部のブレーズ散乱反射板として用いることができる。
【0106】
そのような反射光学素子を作製するいくつかの方法が説明される。
【0107】
【発明の効果】
従って、本発明により、ブレーズ反射板をディスプレイデバイスに使用するのに十分に小さなブレーズ角を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1a】図1aは、従来の反射板を組み込んだ反射型ディスプレイ装置の動作を示す概略図である。
【図1b】図1bは、ブレーズ反射板を組み込んだ反射型ディスプレイ装置の動作を示す概略図である。
【図2a】図2aは、反射型ディスプレイ装置から反射された光の好ましい方向を示す極座標である。
【図2b】図2bは、ブレーズ反射板を組み込んだ反射型ディスプレイ装置と共に用いられる光源を配置することが可能な位置を示す極座標である。
【図3】図3は、フォトポリマー材料層内でエンボス加工によりブレーズ反射板を形成する従来の方法を示す概略図表である。
【図4】図4は、フォトレジスト層内に回折格子を規定する従来の近視野ホログラフィ方法を示す概略図である。
【図5】図5は、フォトレジスト内内にブレーズ格子を規定するためにフォトレジストを干渉露光するための光学システムを示す概略図である。
【図6a】図6aは、フォトレジスト層内に、テーパ状のプロファイルを有するホールを形成するプロセスを示す概略図である。
【図6b】図6bは、フォトレジスト層内に、テーパ状のプロファイルを有するホールを形成するプロセスを示す概略図である。
【図6c】図6cは、フォトレジスト層内に、テーパ状のプロファイルを有するホールを形成するプロセスを示す概略図である。
【図6d】図6dは、フォトレジスト層内に、テーパ状のプロファイルを有するホールを形成するプロセスを示す概略図である。
【図7a】図7aは、本発明にて使用するのに適したマスクを示す概略図である。
【図7b】図7bは、本発明にて使用するのに適したマスクを示す概略図である。
【図8】図8は、図7のマスクの、時間の関数としての変位を示す概略図である。
【図9】図9は、図8の下降ステップ関数を用いた場合に得られるフォトレジスト層のプロファイルを示す概略断面図である。
【図10a】図10aは、図7aのマスクを用いて本発明の方法により作製されたブレーズフォトレジスト層を示す概略斜視図である。
【図10b】図10bは、図7bのマスクを用いて本発明の方法により作製されたブレーズフォトレジスト層を示す概略斜視図である。
【図11】図11は、図9のフォトレジスト層上に反射層を堆積するのに適切な装置を示す概略図である。
【図12】図12は、本発明における反射板を組み込んだ液晶装置を示す概略詳細図である。
【図13】図13は、本発明の別の実施形態における液晶ディスプレイ装置を示す概略斜視図である。
【符号の説明】
4 フォトレジスト層
5 基板
16 マスク
17 開口
18 第1の領域
19 第2の領域
40 凹部
41 ベース

Claims (22)

  1. 基板と、該基板上に設けられ、ブレーズ構造を有する微細構造層とを含み、該微細構造層の表面で光が反射されるよう、該微細構造層に反射層を形成した反射光学素子であって、
    該ブレーズ構造を有する微細構造層は、
    ブレーズ構造におけるクレストを、該基板の表面と実質的に平行な複数の区分的直線からなる折れ曲がった形状とし
    該微細構造層の表面を、該複数の区分的直線の各々に対応した複数のスロープであって、該個々の区分的直線と垂直な方向に傾斜した複数のスロープを含む傾斜面としたものであることを特徴とする反射光学素子。
  2. 前記反射層が導電性層である、請求項1に記載の反射光学素子。
  3. 前記反射層が金属層である、請求項1に記載の反射光学素子。
  4. 前記ブレーズ構造は、そのクレストにおける区分的直線の向きを所定の角度範囲にわたってランダムに変化させたものである、請求項1に記載の反射光学素子。
  5. 前記微細構造層がフォトレジスト層である、請求項1に記載の反射光学素子。
  6. 前記ブレーズ構造を有する微細構造層は、前記フォトレジスト層の第1の部分を露光する工程と、該フォトレジスト層の前記第1の部分に隣接する第2の部分を、前記第1の部分と異なる深度に露光する工程と、前記フォトレジストを現像する工程と、によって製造される、請求項5に記載の反射光学素子。
  7. 前記基板が、電気光学装置の一部を形成する、請求項1に記載の反射光学素子。
  8. 前記基板が、液晶装置用アクティブマトリクス基板である、請求項7に記載の反射光学素子。
  9. 前記微細構造層が、少なくとも1つのバイアを含む、請求項1に記載の反射光学素子。
  10. 前記バイアが導電性素子で充填され、前記導電性層と電気接続する、請求項9に記載の反射光学素子。
  11. 請求項1に記載の反射光学素子と、前方基板と、該前方基板と前記反射光学素子の前記微細構造層との間に配置された電気光学材料の層とを備えた電気光学ディスプレイ装置。
  12. 前記電気光学材料の層が液晶層であり、前記反射光学素子の前記基板上にアクティブスイッチング素子が設けられている、請求項11に記載の電気光学ディスプレイ装置。
  13. 前記反射層が導電性である、請求項11に記載の電気光学ディスプレイ装置。
  14. 前記反射層が金属性である、請求項11に記載の電気光学ディスプレイ装置。
  15. 前記反射層が画素電極である、請求項12に記載の電気光学ディスプレイ装置。
  16. 前記スイッチング素子が薄膜トランジスタである、請求項12に記載の電気光学ディスプレイ装置。
  17. 前記反射光学素子のブレーズ構造は、そのクレストにおける区分的直線の向きを所定の角度範囲にわたってランダムに変化させたものである、請求項11に記載の電気光学ディスプレイ装置。
  18. 前記前方基板上に平面前方電極が設けられている、請求項12に記載の電気光学ディスプレイ装置。
  19. 前記前方基板の前面に偏光子が設けられている、請求項12に記載の電気光学ディスプレイ装置。
  20. 前記前方基板の前面にリターダが設けられている、請求項19に記載の電気光学ディスプレイ装置。
  21. 前記液晶層の画素内に複数の独立カラーフィルタが設けられており、該独立カラーフィルタのそれぞれがサブ画素を形成する、請求項12に記載の電気光学ディスプレイ装置。
  22. 前記各サブ画素には独立反射電極が設けられ、該反射電極のそれぞれは、前記前方基板に対して2つ以上の角度で傾斜し、層の表面内における1つの方向に対して、方位角範囲にわたって変化する複数の区分的直線ブレーズ構造を形成する、請求項21に記載の電気光学ディスプレイ装置。
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