JP4337610B2 - 電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法 - Google Patents
電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4337610B2 JP4337610B2 JP2004124435A JP2004124435A JP4337610B2 JP 4337610 B2 JP4337610 B2 JP 4337610B2 JP 2004124435 A JP2004124435 A JP 2004124435A JP 2004124435 A JP2004124435 A JP 2004124435A JP 4337610 B2 JP4337610 B2 JP 4337610B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shielding light
- electromagnetic wave
- window material
- wave shielding
- transmitting window
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
厚み3mmの珪酸塩ガラス基板上に、導電性ペースト(藤倉化成株式会社製XA9050、粒子材料は酸化銀粒子、粒子径は500nm程度)を用いて、線幅30μm、ピッチ250μmのペーストパターンを形成した。その後、250℃で30分加熱することにより、厚み5μmの導電性パターンを作製した。
実施例1で用いたものと同一の導電性ペーストを透明PET基材(厚み100μm)に直接スクリーン印刷し、線幅30μm、ピッチ250μmの格子状パターンを作成した。その後、120℃で60分加熱することにより、厚み7μmの光透過性導電材を作製した。
実施例1で用いたものと同一の導電性ペーストを透明PET基材(厚み100μm)に直接スクリーン印刷し、線幅30μm、ピッチ250μmの格子状パターンを作成した。その後、180℃で30分加熱することにより、厚み5μmの光透過性導電材を作製した。
実施例1で用いたものと同一の導電性ペーストを珪酸塩ガラス基材(厚み1.5mm)に直接スクリーン印刷し、線幅30μm、ピッチ250μmの格子状パターンを作成した。その後、250℃で30分加熱することにより、厚み5μmの光透過性導電材を作製した。
12 導電性パターン
12A 導電性ペースト
13 透明基材
14 粘着層
15 ポジ型感光性材料層
Claims (15)
- 透明基材の表面に金属よりなる導電性パターンが形成された電磁波シールド性光透過窓材を製造する方法において、
パターン形成用基板上に導電性ペーストよりなるパターンを形成するペーストパターン形成工程と、
焼成して該パターン形成用基板上に導電性パターンを形成する焼成工程と、
該導電性パターンと前記透明基材とを重ね合わせ、該透明基材の表面に該導電性パターンを転写する転写工程と
を備えたことを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。 - 請求項1において、前記ペーストパターン形成工程において、前記パターン形成用基板上に前記導電性ペーストを印刷することにより前記パターンを形成することを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
- 請求項2において、前記印刷は、スクリーン印刷、ロータリースクリーン印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、及びフレキソ印刷のいずれかであることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
- 請求項1ないし3のいずれか1項において、前記導電性パターンは、前記転写工程において前記パターン形成用基板から剥離することを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
- 請求項1ないし4のいずれか1項において、前記パターン形成用基板はガラス板であることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
- 請求項1ないし5のいずれか1項において、前記導電性ペーストは、平均粒径2〜500nmの金属及び/又は焼成により金属化する金属化合物の粒子を含むナノペーストであることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
- 請求項1ないし6のいずれか1項において、前記焼成温度は180℃〜300℃であることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
- 請求項1ないし7のいずれか1項において、前記透明基材は透明樹脂フィルムであることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
- 請求項1ないし8のいずれか1項において、前記転写工程において、前記透明基材の表面に粘着層が形成されており、該粘着層を介して該導電性パターンを該透明基材に付着させることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
- 請求項9において、前記粘着層は粘着剤層であることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
- 請求項9において、前記粘着層は熱硬化性樹脂層であり、該導電性パターンを該透明基材に付着させた後、加熱して該熱硬化性樹脂層を硬化させることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
- 請求項9において、前記粘着層は光硬化性樹脂層であり、該導電性パターンを該透明基材に付着させた後、光を照射して該光硬化性樹脂層を硬化させることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
- 請求項9において、前記転写工程において、前記粘着層はポジ型感光性材料層であり、
前記導電性パターンを前記透明基材の一方の面に転写させた後、該一方の面側から光を照射し、該導電性パターンで覆われていない露出部分のポジ型感光性材料層の溶解性を高めた後、現像液により該露出部分のポジ型感光性材料層を除去することを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。 - 請求項13において、前記露出部分のポジ型感光性材料層を除去した後、加熱することにより、該導電性パターンと透明基材との間のポジ型感光性材料層を硬化させることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
- 請求項1ないし14のいずれか1項の方法によって製造された電磁波シールド性光透過窓材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004124435A JP4337610B2 (ja) | 2004-04-20 | 2004-04-20 | 電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004124435A JP4337610B2 (ja) | 2004-04-20 | 2004-04-20 | 電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005310972A JP2005310972A (ja) | 2005-11-04 |
JP4337610B2 true JP4337610B2 (ja) | 2009-09-30 |
Family
ID=35439402
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004124435A Expired - Fee Related JP4337610B2 (ja) | 2004-04-20 | 2004-04-20 | 電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4337610B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101559605B1 (ko) | 2008-02-06 | 2015-10-13 | 나믹스 가부시끼가이샤 | 열 경화성 도전 페이스트, 및 그것을 이용하여 형성한 외부 전극을 갖는 적층 세라믹 전자 부품 |
JP5662985B2 (ja) * | 2011-11-02 | 2015-02-04 | 富士フイルム株式会社 | 導電性パターン形成用基材、回路基板及びそれらの製造方法 |
JP2014225494A (ja) * | 2013-05-15 | 2014-12-04 | 矢崎総業株式会社 | 回路基板の製造方法 |
KR101717983B1 (ko) * | 2013-07-05 | 2017-03-21 | 주식회사 잉크테크 | 전도성 투명기판 제조방법 및 전도성 투명기판 |
KR102303722B1 (ko) * | 2019-08-08 | 2021-09-17 | 재단법인 파동에너지 극한제어 연구단 | 스텔스용 투명필름 구조체 및 스텔스용 투명필름 구조체의 제조방법 |
-
2004
- 2004-04-20 JP JP2004124435A patent/JP4337610B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005310972A (ja) | 2005-11-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6599681B2 (en) | Electromagnetic filter for display screens | |
KR101379963B1 (ko) | 투명 전도성 기판 및 이의 제조방법 | |
TWI556699B (zh) | 導電膜及其製造方法 | |
JP5275442B2 (ja) | 発熱体およびその製造方法 | |
KR101674360B1 (ko) | 터치 패널용 적층체, 터치 패널 | |
US9226411B2 (en) | Making multi-layer micro-wire structure | |
TW201505037A (zh) | 導電圖型之製造方法及導電圖型形成基板 | |
JP2006261322A (ja) | 電磁波シールドフィルムおよびその製造方法 | |
WO2003045125A1 (fr) | Materiau de fenetre transmettant la lumiere et protege contre les ondes electromagnetiques et procede de fabrication de ce materiau | |
US20140239504A1 (en) | Multi-layer micro-wire structure | |
JP4337610B2 (ja) | 電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法 | |
JP2014081911A (ja) | タッチパネル及びその製造方法 | |
JPWO2010082514A1 (ja) | 電磁波シールド性前面フィルターのアース電極取り出し用導電性部材並びにそれを用いた構成体及びディスプレイ | |
WO2004039138A1 (ja) | 電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法 | |
JP2001053488A (ja) | 電磁波シールド材料並びにこの材料を用いた電磁波遮蔽構成体及びディスプレイ | |
KR101977852B1 (ko) | 전도성 구조체 및 이의 제조방법 | |
JP2008042021A (ja) | 光透過性電磁波シールド性窓材の製造方法、その製造装置、及び光透過性電磁波シールド性窓材、 | |
JPWO2003045127A1 (ja) | 電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法 | |
JP2006179683A (ja) | Pdpフィルタ | |
US9061463B2 (en) | Embossed micro-structure with cured transfer material method | |
JP4679092B2 (ja) | 透明面状発熱体及びその製造方法 | |
JP4662751B2 (ja) | 透明面状発熱体及びその製造方法 | |
JP2005101595A (ja) | Pdpフィルタ | |
JP2008130921A (ja) | めっき下地用導電性ペースト、電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法 | |
JP4258302B2 (ja) | 電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061220 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090521 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090609 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090622 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120710 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |