JP4326642B2 - クリーンガスの供給路における管継手構造 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハ,液晶の洗浄等に使用されるクリーンガス(窒素,空気,不活性ガス等)の供給路における管継手構造に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
例えば、クリーンガスの供給路においてフィルタとその二次側配管とを連結する場合、一般に、図3及び図4に示す管継手構造(以下「 第1従来構造」 という)や図5に示す管継手構造(以下「 第2従来構造」 という)が採用されている。
【0003】
第1従来構造は、図3及び図4に示す如く、フィルタ22と二次側配管23とを食い込み式継手により連結したものである。すなわち、フィルタ22の二次側出口部24に二次側配管23の管端部25を差し込んだ上、二次側出口部24に螺合させたナット部材27aを締め付けて、二次側出口部24の先端テーパ面24aに衝合させた食い込みリング27bを二次側配管23の外周面に圧接又は食い込ませることにより、二次側出口部24と二次側配管23とを食い込みリング27によるシール状態で連結している。そして、二次側出口部24の先端部内周面に形成した環状凹部24bに二次側配管23の管端部24を嵌合させることにより、二次側出口部24の内周面と二次側配管23の内周面とが面一状に連なるように工夫している。
【0004】
また、第2従来構造は、図5に示す如く、フィルタ32と二次側配管33とをシール式継手により連結したものである。すなわち、フィルタ32の二次側出口部34の内径を二次側配管33の内径とを同一として、両者33,34の先端面を環状のパッキン37を介在した状態で突き合わせ、二次側配管33の管端部35に係合保持させたナット部材38を二次側出口部34の外周部に設けたねじ部34aに螺合させて、締め付けることにより、二次側出口部34と二次側配管33とをパッキン37によるシール状態で連結している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、第1従来構造にあっては、二次側配管23の管端部25を二次側出口部24の環状凹部24bに嵌合させることにより、両部23,24の内周面が面一状に連なるように工夫しているものの、二次側配管23の管端部25を二次側出口部24に差し込む構造である以上、管端部25と環状凹部24bとを完全に密接させておくことはできず、図4に示す如く、両部24,25間に隙間26が生じる。そして、この隙間26は、二次側出口部24の内周面と二次側配管23の内周面との境界部分から食い込みリング27bによるシール部分に至る空間を構成し、クリーンガス29がフィルタ22から二次側配管23へと流動する上でのデッドスペースとなっている。
【0006】
また、第2従来構造にあっては、二次側出口部34と管端部35とをそれらの先端面を突き合わせた状態で連結しているため、上記のような隙間26は生じない。しかし、両部34,35の先端面には、一般に、図5に示す如く、パッキン37の締付面圧を増大してシール機能を向上させるために、環状突起34a,35bが形成されていることから、両部34,35の先端にはそれらの内周面との間に段差が生じている。また、環状のパッキン37を、その内周面を両部34,35の内周面と合致させた状態でセットしておくことは困難である。また、仮に、このような状態でセットしておくことができたとしても、ナット部材36の締め付けによりパッキン37が圧縮されることにより、その内径が変化して、パッキン内周面が両部34,35の内周面に合致しなくなる。したがって、これらのことから、二次側配管33の内周面と二次側出口部34の内周面との境界部分には、図5に示す如く、必然的に又は不可避的に凹部36が生じる。そして、この凹部36は、上記した隙間26と同様に、クリーンガス39がフィルタ32から二次側配管33へと流動する上でのデッドスペースとなっている。
【0007】
したがって、第1及び第2従来構造にあっては、管端部25の二次側出口部34への差込み時に発生する摩耗粉やパッキン37のセット時,締め付け時に発生する塵埃等のダストがデッドスペース26,36に滞留し、これらのダストがフィルタ22,32から二次側配管23,33へと流動するクリーンガス29,39に同伴して、クリーンガス29,39を汚染してしまう虞れがある。このため、二次側配管23,33の連結後、クリーンガス29,39の供給を開始する前に、予め、フィルタ22,32から二次側配管23,33へとクリーンガス29,39を流動させて、デッドスペース26,36に滞留するダストを排除させるブロー工程を行う必要がある。また、長時間のブロー工程を行っても、管継手構造の組み立て時にデッドスペース26,36に滞留するダストや大気(クリーンガスに比して汚染された空気であり、以下「汚染空気」 という)を完全に排除することは困難である。特に、加圧されたクリーンガス29,39を高速(一般に50m/sec以上)で流動させる場合には、二次側出口部24,34と管端部25,35との内周面境界部分における隙間26や凹部36の開口部にクリーンガス29,39が衝突することにより、当該開口部における微細なバリが剥がれる等により、デッドスペース26,36が新たなダスト発生源となり、長時間のブロー工程を行った後においてもクリーンガス汚染を完全に回避することができない。
【0008】
本発明は、このような点に鑑みてなされたもので、長時間のブロー工程を行う必要がなく、クリーンガスを汚染させることになく良好に供給することができるクリーンガスの供給路における管継手構造を提供することを目的とするものであえる。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明のクリーンガスの供給路における継手構造にあっては、上記の目的を達成すべく、クリーンガスの供給路における上流部分の管端部と下流側部分の管端部とを、一方の管端部に他方の管端部が挿入されており且つ両管端部の対向周面間に当該供給路に連通する排気空間が形成された状態で、連結し、前記一方の管端部に、当該供給路を流動するクリーンガスの一部を、常時、排気空間から当該供給路外へと漏出させる排気口を設けておくことを提案する。かかる管継手構造にあっては、一般に、下流側部分の管端部がこれより大径とした上流側部分の管端部に同心状に挿入されることになる。また、本発明の管継手構造は、上流側部分の管端部がフィルタの二次側出口部である場合、下流側部分が、ドライブガス供給口部から供給されたクリーンガスをドライブガスとして洗浄液を噴出させる洗浄ノズルであり、下流側部分の管端部が当該洗浄ノズルのドライブガス供給口部である場合、また加圧されたクリーンガスが50m/sec以上の高速で下流側部分を流動する場合において、好適に使用される。また排気口は、排気空間に連通し且つ当該供給路外に開口された細管で構成されていることが好ましい。
【0010】
本発明の管継手構造にあっては、常時、上流側部分から下流側部分へと流動するクリーンガスの一部が両部分の連結部分に形成される排気空間から漏出されることから、つまりクリーンガスの供給路から排気空間を経て当該供給路外へと向かうガス流が発生することから、上流側部分と下流側部分との連結部分にダストが滞留するような澱み(デッドスペース)が生じない。したがって、管継手構造の組み立て時に当該連結部分にダスト(管端部等に付着している塵埃や汚染空気等)が存在していたとしても、かかるダストはクリーンガスの供給に伴って完全に排気口から排除されて、クリーンガスを汚染するようなことがない。また、加圧されたクリーンガスが高速で流動する場合にも、当該連結部分が新たなダスト発生源となってクリーンガスを汚染するようなことがない。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の構成を図1又は図2に示す実施の形態に基づいて具体的に説明する。
【0012】
図1は第1の実施の形態を示すもので、この実施の形態は、半導体の製造装置等に使用されるクリーンガスの供給路1における管継手構造に本発明を適用したものであり、上流側部分を構成するフィルタ2とその下流側部分を構成する二次側配管3とを次のように連結している。
【0013】
すなわち、この実施の形態における本発明に係る管継手構造(以下「第1管継手構造」という)にあっては、図1に示す如く、上流側部分の管端部であるフィルタ2の二次側出口部4と下流側部分である二次側配管3の管端部(以下「 配管端部」 という)5とを、二次側出口部4にこれより小径の配管端部5を同心状に挿入して両部4,5の対向周面間に当該供給路1に連通する排気空間6が形成される状態で、連結すると共に、二次側出口部4に、フィルタ2から二次側配管3に流入するクリーンガス7の一部7aを、常時、排気空間6から当該供給路1外へと微量漏出させる排気口8を設けてある。
【0014】
フィルタ2は、フィルタハウジング9内を、適宜のフィルタ部材9cにより、図示しない一次側配管から使用目的に応じた加圧ガス(窒素,空気,不活性ガス等)7bが流入する一次側空間9aと、フィルタ部材9cを通過した加圧ガス7bつまりフィルタ部材9cにより清浄化処理(含有パーティクルの除去等)を施されたクリーンガス7が流出する二次側空間9bとに区画してなるものである。
【0015】
フィルタ2の二次側出口部4は、図1に示す如く、円筒状をなすもので、フィルタハウジング9に一体形成されて二次側空間9bに連通する円筒状の口金4aと、口金4aの先端外周部に固着された連結リング4bと、口金4a及び連結リング4bの先端面に固着された排気筒4cと、排気筒4cの先端部に一体形成された継手リング4dとからなる。口金4aの内周面と排気筒4cの内周面は面一状に連なっており、それらの内径は二次側配管3の外径より所定量大径とされている。継手リング4dは、外周面にねじ部を形成すると共に先端面を内方へ窄まる円錐状のカム面4eに構成したものである。
【0016】
而して、二次側出口部4と配管端部5とは、図1に示す如く、継手リング4dに断面楔状の食い込みリング10bを内装したユニオンナット10aを螺合させると共に、配管端部5をユニオンナット10a及び食い込みリング10bを貫通して二次側出口部4に同心状に挿入させた上、ユニオンナット10aを締め付けて、食い込みリング10bを継手リング4dのカム面4eにより縮径変形させて二次配管3の外周面に圧接させ若しくは食い込ませることにより、軸線方向に相対変位不能に連結されている。かかる食い込みリング10bによる連結構造は、冒頭で述べた第1従来構造における食い込みリング27bによる連結構造と同一である。また、配管端部5は、二次側出口4を貫通して、フィルタハウジング9の二次側空間9bに若干突入されている。このように、二次側出口部4と配管端部5とは、二次側出口部4の内周面と配管端部5の外周面との間に当該供給路1(より具体的には、二次側空間9b)に連通する環状の排気空間6を形成させた状態で、連結されている。なお、この例では、供給路1におけるクリーンガス供給条件を、クリーンガス7が二次側配管4を50m/sec以上の所定流速で流動するように、設定してある。
【0017】
排気口8は、図1に示す如く、二次側出口部4の排気部4cに設けた適宜長さの細管で構成されている。この排気口たる細管8は、一端部が排気空間6に連通し且つ他端部が当該供給路1外に開口するものであり、二次側空間9bから二次側配管3へと流入するクリーンガス7の一部7aを排気空間6から当該供給路1外へと漏出(排気)させるものである。排気口(細管)8には、図示していないが、漏洩ガス7aの排出管が接続される。排気口8から漏出されるクリーンガス7aの流量(以下「漏出量」という)は、排気口8の径(細管の内径)又は排出管に設けた流量制御弁(例えばニードル弁)によって制御することができ、フィルタ2から二次側配管3へのクリーンガス流入量ないし二次側配管3におけるクリーンガス流量(以下「主流量」という)が排気口8からの漏出により所定の設定範囲を下回るようなことがないように(つまり、漏出量が主流量に悪影響を与える程度にまで大きくならないように)、上記設定範囲等のクリーンガス使用条件に応じて適宜に設定される。一般には、漏出量は、主流量に比して微量(数l/min〜数十l/min)となるように設定しておくことが好ましい。この例では、漏出量を5l/min程度に設定してある。
【0018】
また、図2は第2の実施の形態を示すもので、この実施の形態は、半導体ウエハ,液晶等の洗浄装置に使用されるクリーンガスの供給路11における管継手構造に本発明を適用した例に関し、クリーンガスの供給路11における上流側部分を構成するフィルタ12とその下流側部分を構成する洗浄ノズル13とを次のように連結している。
【0019】
すなわち、この実施の形態における本発明に係る管継手構造(以下「第2管継手構造」という)にあっては、図2に示す如く、上流側部分の管端部であるフィルタ12の二次側出口部14と下流側部分の管端部である洗浄ノズル13のドライブガス供給口部15とを、第1継手構造におけると同様に、二次側出口部14にドライブガス供給口部15を挿入して両者14,15の対向周面間に当該供給路11に連通する排気空間16が形成される状態で、連結すると共に、二次側出口部14に、フィルタ12から二次側配管13に流入するクリーンガス17の一部17aを、常時、排気空間16から当該供給路11外へと微量漏出させる排気口18を設けてある。
【0020】
フィルタ12は、フィルタハウジング19内を、適宜のフィルタ部材19cにより、図示しない一次側配管から被処理ガス(窒素,空気等)17bが供給される一次側空間19aと、フィルタ部材19cを通過した被処理ガス17bつまりフィルタ部材19cにより清浄化処理(含有パーティクルの除去等)を施されたクリーンガス17が流入する二次側空間19bとに区画してなるものである。
【0021】
フィルタ12の二次側出口部14は、図2に示す如く、フィルタハウジング19に一体形成された円筒状の口金14aと、口金14aの先端外周部に固着された連結リング14bと、口金14a及び連結リング14bの先端面に固着された排気筒14cとからなる。口金14aの内周面と排気筒14cの内周面は面一状に連なっており、それらの内径はドライブガス供給口部15の外径より所定量大径とされている。排気筒14cの先端部内周面には、テーパ状の雌ねじ部14dが形成されている。
【0022】
洗浄ノズル13は、図2に示す如く、ノズル本体13aと、ノズル本体13aの先端に突設された細管状のノズル部13bと、ノズル本体13aの基端に突設された円筒状のドライブガス供給口部15と、ノズル本体13aの基端部外周面にドライブガス供給口部15と同心をなすテーパ状の雄ねじ部13cと、ノズル本体13aを貫通してノズル部13bとドライブガス供給口部15とを直線状に連通接続する連通孔13dと、ノズル本体13aに形成されており、連通孔13dに連通接続された洗浄液供給孔13eとを具備して、クリーンガスであるドライブガス17をドライブガス供給口15から連通孔13dへと供給することにより、洗浄液供給孔13eから供給させた洗浄液20を連通孔13dへと吸引導入させ、洗浄液20をドライブガス17と共にノズル部13bから噴出させるようになっている。なお、洗浄液20としては、超純水等のクリーンな液体が使用される。
【0023】
而して、二次側出口部14と洗浄ノズル13とは、図2に示す如く、ノズル本体13aの雄ねじ部13dを排気筒14cの雌ねじ部14dにねじ込むことにより、ドライブガス供給口部15を二次側出口部14を同心状に貫通して二次側空間19bに若干突出する状態で連結されている。すなわち、フィルタ12の二次側出口部14と洗浄ノズル13のドライブガス供給口部15とは、二次側出口部14の内周面とドライブガス供給口部15の外周面との間に当該供給路11(より具体的には、二次側空間19b)に連通する環状の排気空間16を形成させた状態で、軸線方向に相対変位不能に且つ密に連結されている。なお、供給路11におけるクリーンガス供給条件は、洗浄ノズル13に供給されたクリーンガスたるドライブガス17により洗浄液20の連通孔13dへの吸引作用(エジェクタ作用)及びノズル部13bからの噴出作用が良好に行われるように設定されるが、この例では、洗浄ノズル13内をドライブガス17が50m/sec以上の所定流速で流動するように、設定されている。
【0024】
排気口18は、図2に示す如く、第1管継手構造におけると同様に、二次側出口部14の排気部14cに設けた適宜長さの細管で構成されている。すなわち、この排気口たる細管18は、一端部が排気空間16に連通し且つ他端部が当該供給路11外に開口するものであり、二次側空間19bからドライブガス供給口部15へと流入するドライブガス17の一部17aを排気空間16から当該供給路11外へと漏出(排気)させるものである。排気口(細管)18には、図示していないが、漏洩ガス17aの排出管が接続される。排気口18から漏出されるクリーンガス17aの流量(漏出量)は、排気口18の径(細管の内径)又は排出管に設けた流量制御弁(例えばニードル弁)によって制御することができ、フィルタ12から洗浄ノズル13へのドライブガス流入量ないし洗浄ノズル13内におけるクリーンガス流量(主流量)が排気口18からの漏出により所定の設定範囲を下回るようなことがないように(つまり、漏出量が主流量をに悪影響を与える程度(ドライブガス17による上記した吸引作用及び噴出作用が損なわれる程度)にまで大きくならないように)、上記設定範囲等のクリーンガス使用条件に応じて適宜に設定される。一般に、漏出量は、主流量に比して微量(一般に、数l/min〜数十l/min)となるように設定しておくことが好ましい。この例では、第1管継手構造におけると同様に、漏出量を5l/min程度に設定してある。
【0025】
以上のように構成された第1又は第2管継手構造にあっては、フィルタ2,12から二次側配管3又は洗浄ノズル13に供給されるクリーンガス7,17の一部7a,17aが、常時、排気空間6,16に流入して排気口8,18から漏出される。すなわち、上流側部分たるフィルタ2,12と下流側部分たる二次側配管3又は洗浄ノズル13との連結部分には、常時、供給路1,11(フィルタ2,12から二次側配管3又はノズル部13bに至るクリーンガス7,17の流動路)から排気空間6,16を経て当該供給路1,11外へと向かうガス流が発生することになる。したがって、両部分2,3又は12,13の連結部分にダストが滞留するような澱み(デッドスペース)が生じず、管継手構造の組み立て時に当該連結部分にダスト(管端部等に付着している塵埃や汚染空気等)が存在していたとしても、かかるダストはクリーンガス7,17の供給に伴って排気口8,18から完全に排除されることになり、クリーンガス7,17を汚染するようなことがない。したがって、第1又は第2従来構造による場合のような長時間のブロー工程は全く必要としない。また、加圧されたクリーンガス7,17が上記した如く50m/sec以上の高速で流動しても、当該連結部分が新たなダスト発生源となるようなことがなく、クリーンガスを汚染させることなく安定して供給させることができる。ところで、第2管継手構造のように、下流側部分13を、これにねじ部分13cを形成して、直接、上流側部分12の管端部14に螺合連結させるようにすると、第1従来構造のように差し込みにより連結した場合以上に大量のダスト(螺合接触により発生する摩耗粉等)が生じる虞れがあるが、このような場合にもダストは排気口18から排除されて、或いは排除されないまでも上記ガス流によって供給路11への侵入を阻止されて、クリーンガス17を汚染することがない。翻れば、クリーンガス汚染を防止するための格別の工夫を必要とせず、管継手構造設計の自由度が高くなり、第2管継手構造のように洗浄ノズル13等のクリーンガス使用機器にフィルタ12を簡便なねじ込み手段により直接に接続しておくことができる。
【0026】
ところで、上記したクリーンガス汚染防止効果は、次のような実験により確認された。
【0027】
すなわち、図1に示す第1管継手構造において、その組立後にブロー工程を行うことなく、フィルタ2の一次側空間19aに200Nl/minの乾燥空気を供給して、フィルタ部材9cを通過した乾燥空気(クリーンガス)を、排気口8からの漏出量を10l/minとした状態で、内径4.35mmの二次側配管3から半導体ウエハの表面に吹き付けて、ウエハ表面上におけるダスト数を測定した。そして、クリーンガス吹き付け前において測定しておいたウエハ表面上のダスト数との比較を行い、クリーンガス吹き付けによるダスト増加数を求めた。その結果、クリーンガス吹き付けによるダストの増加数は2〜5個であった。
【0028】
また、上記と同一のフィルタ部材を使用したフィルタに上記と同一条件の乾燥空気(200Nl/min)を供給して、フィルタ部材を通過した乾燥空気を、フィルタの二次側出口部(内径:4.35mm)から、直接、半導体ウエハの表面に吹き付けて、ウエハ表面上のダスト数を測定し、乾燥空気吹き付け前におけるウエハ表面上のダスト数との差を求めた。その結果、フィルタから直接吹き付けた場合におけるダスト増加数は2〜5個であった。
【0029】
また、図3及び図4に示す第1従来構造(フィルタ22のフィルタ部材として上記フィルタ部材9cと同一のものを使用し、フィルタ22の二次側出口部24及び二次側配管23の内径を4.35mmとした)において、その組立後にブロー工程を行うことなく、フィルタ22に上記と同一条件の乾燥空気(200Nl/min)を供給して、フィルタ22を通過した乾燥空気を二次側配管23から半導体ウエハの表面に吹き付けて、ウエハ表面上のダスト数を測定し、乾燥空気吹き付け前におけるウエハ表面上のダスト数との差を求めた。その結果、ダスト増加数は800〜1000個であった。さらに、上記と同一条件で乾燥空気をフィルタ22から二次側配管23へと24時間流動させてブロー工程を行った後、引き続き、乾燥空気を二次側配管23から半導体ウエハの表面に吹き付けて、ウエハ表面上のダスト数を測定し、乾燥空気吹き付け前におけるウエハ表面上のダスト数との差を求めた。その結果、ダスト増加数は10〜30個であった。
【0030】
なお、何れの場合にも、ダストは0.12μm以上のものであり、半導体ウエハとしては8インチ径のものを使用した。
【0031】
以上の実験結果から明らかなように、第1従来構造にあっては、プロー工程を行わない場合には勿論、長時間(24時間)のブロー工程を行っても、管継手構造によるクリーンガス汚染が回避できないが、第1管継手構造にあっては、ブロー工程を行わずとも、フィルタから直接ウエハ表面にクリーンガスを吹き付けた場合とダスト増加数が変わらず(2〜5個)であり、管継手構造によるクリーンガス汚染が完全に回避されていることが理解される。
【0032】
なお、本発明は上記した各実施の形態に限定されるものではなく、本発明の基本原理を逸脱しない範囲において、適宜に改良,変更することができる。
【0033】
例えば、クリーンガスの供給路における上流側部分(フィルタ,弁,配管等)と下流側部分(配管,洗浄ノズル等のクリーンガス使用機器)との連結手段は、上流側部分の管端部(フィルタ等の二次側出口部,配管の管端部等)と下流側部分の管端部(配管の管端部,クリーンガス使用機器のガス供給口部)との対向周面間に排気空間が形成される二重管構造を確保できるものである限りにおいて、任意であり、格別の制限はない。また、排気口の構成も任意であり、排気空間からクリーンガスを微量漏出させるものであればよい。また、排気空間は、クリーンガス7a,17aの円滑な流れが生じるものであればよく、必要以上に大きくする必要はない。
【0034】
【発明の効果】
以上の説明から容易に理解されるように、本発明の管継手構造にあっては、クリーンガスの供給路の上流側部分と下流側部分との連結部分に、排気空間及び排気口を設けて当該供給路の内部から外部へのガス流を生じさせるようにしたから、当該連結部分からクリーンガスへのダスト侵入が効果的に防止され、長時間のプロー工程を行わずとも、クリーンガスを汚染させることなく良好に供給させることができる。また、当該連結部分に冒頭で述べたようなデッドスペースが生じないため、これが新たなダスト発生源となるような不都合もない。したがって、本発明の管継手構造は、高度のクリーン性が要求とされる半導体製造装置等における配管系に好適に使用することができるものであり、その実用的価値極めて大なるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1管継手構造を示す縦断側面図である。
【図2】第2管継手構造を示す縦断側面図である。
【図3】第1従来構造を示す縦断側面図である。
【図4】図3の要部を拡大して示す詳細図である。
【図5】第2従来構造を示す縦断側面図である。
【符号の説明】
1,11…クリーンガスの供給路、2,12…フィルタ(クリーンガスの供給路の上流側部分)、3…二次側配管(クリーンガスの供給路の下流側部分)、4,14…二次側出口部(上流側部分の管端部)、5…配管端部(下流側部分の管端部)、6,16…排気空間、7,17…クリーンガス、7a,17a…排気口から漏出するクリーンガス、8,18…排気口。
Claims (6)
- クリーンガスの供給路における上流部分の管端部と下流側部分の管端部とを、一方の管端部に他方の管端部が挿入されて両管端部の対向周面間に当該供給路に連通する排気空間が形成される状態で、連結し、前記一方の管端部に、当該供給路を流動するクリーンガスの一部を、常時、排気空間から当該供給路外へと漏出させる排気口を設けてあることを特徴とするクリーンガスの供給路における管継手構造。
- 下流側部分の管端部がこれより大径とした上流側部分の管端部に同心状に挿入されていることを特徴とする、請求項1に記載するクリーンガスの供給路における管継手構造。
- 下流側部分におけるクリーンガスの流速が50m/sec以上であることを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載するクリーンガスの供給路における管継手構造。
- 排気口が、排気空間に連通し且つ当該供給路外に開口された細管で構成されていることを特徴とする、請求項1、請求項2、又は、請求項3に記載するクリーンガスの供給路における管継手構造。
- 上流側部分の管端部がフィルタの二次側出口部であることを特徴とする、請求項1、請求項2、請求項3、又は、請求項4に記載するクリーンガスの供給路における管継手構造。
- 下流側部分が、ドライブガス供給口部から供給されたクリーンガスをドライブガスとして洗浄液を噴出させる洗浄ノズルであり、下流側部分の管端部が当該洗浄ノズルのドライブガス供給口部であることを特徴とする、請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、又は、請求項5に記載するクリーンガスの供給路における管継手構造。
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