JP4313564B2 - Non-fixed side substrate manufacturing method of organic EL display panel and non-fixed side substrate manufacturing apparatus of organic EL display panel - Google Patents

Non-fixed side substrate manufacturing method of organic EL display panel and non-fixed side substrate manufacturing apparatus of organic EL display panel Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本願の発明は、フラットパネルディスプレイ(FPD)として最近有望視されている有機ELディスプレイの製造に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
有機ELディスプレイは、有機EL素子を利用したディスプレイである。有機EL素子は、有機薄膜を一対の電極で挟んだ構造であり、光を取り出す都合から、少なくとも一方はインジウム−錫酸化物(ITO)のような透明電極とされる。一対の電極に直流電圧を印加し、一方から電子を、他方からホールを有機薄膜に注入する。有機薄膜中でこれらのキャリアが再結合して励起し、これが基底状態に戻る際に発光が生ずる。
【0003】
有機ELディスプレイは、自発光であるため、液晶ディスプレイのようなバックライトは不要である。その上、高速応答性に優れ、薄型化や低駆動電圧化が容易である。また、液晶ディスプレイなどに比べると、製造工程がシンプルである。このようなことから、次世代のディスプレイ技術として注目されており、携帯電話などへの実用化が既に始まっている。
【0004】
現状の有機ELディスプレイパネルの構造について、図5を使用して説明する。図5は、現状の有機ELディスプレイパネルの断面概略図である。図5に示す有機ELディスプレイパネルは、一対の電極11,12とこの一対の電極11,12で挟まれた有機薄膜13より成るEL素子部1と、EL素子部1を内部に収納したパッケージ2とから成る。尚、有機ELディスプレイパネルとは、有機ELディスプレイのうち、駆動回路等を除いたパッケージ2とその内部の構成要素から成るものを指している。
【0005】
光を取り出す都合から、一対の電極11,12の少なくとも一方は、ITOのような透明電極とされる。また、画素一つ一つを駆動させるアクティブ型の場合、薄膜トランジスタ(TFT)が一方の電極として形成される。パッケージ2は、EL素子部1が固定される固定側基板21と、EL素子部1が固定されない側の非固定側基板22とから成る。現状の有機ELディスプレイは、いわゆるボトムエミッション型であり、図5に示す例もこれに属する。即ち、固定側基板21はガラス製で、透明である。EL素子部1からの光は、固定側基板21を透過して出射する。つまり、固定側基板21が、画像を見る人の側に位置している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
図5に示すようなボトムエミッション型の有機ELディスプレイパネルは、パッケージ2の固定側基板21を通して光を出射させるため、光の利用効率が悪いという問題がある。即ち、固定側基板21には、EL素子部1を駆動するための回路が形成されており、通常の単純な透明体に比べて光の透過率が悪い。この問題を解決するには、トップエミッション型の有機ELディスプレイパネルが有効であり、トップエミッション型が将来有望であると考えられている。図6は、トップエミッション型の有機ELディスプレイパネルの断面概略図である。
トップエミッション型では、図6に示すように、各EL素子部1からの光は、そのまま非固定側基板22を通して放出される。非固定側基板22は、EL素子部1を固定しないため、単純な透明体にすることができ、高い透過率にすることができる。このため、ボトムエミッション型に比べて光の利用効率も高い。
【0007】
ここで、図6に示すように、トップエミッション型では、非固定側基板22の周縁にリブを形成することが必要である。リブ形成は、非固定側基板22の基になる透明なガラス板を加工して形成する。現状では、サンドブラスト法によりリブ形成を行うことが検討されている(Semiconductor FPD World誌,2002年1月号,p116−118参照)。
しかしながら、サンドブラスト法によると、図6に拡大して示すように、加工後の表面の平坦度が悪いという欠点がある。特に、トップエミッション型のように、その部分を通して光を取り出す構造である場合、サンドブラスト加工された表面の凹凸が画像ムラや画質のチラツキ等を発生させる問題がある。また、サンドブラスト法によると、マイクロクラックが生じやすい。このため、強度上の問題や耐久性の点での問題を生じやすい。この点は、ボトムエミッション型であっても変わらない。
【0008】
本願の発明は、かかる課題を解決するためになされたものであり、画質の優れたトップエミッション型の有機ELディスプレイパネルに採用されると好適な非固定側基板の加工技術を提供する技術的意義を有するものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本願の請求項1記載の発明は、内部にEL素子部を収めた有機ELディスプレイパネルのパッケージのうち、EL素子部を固定しない側である非固定側基板を製造する方法であって、
ガラス板に所定のパターンでレジストを塗布する工程と、
レジスト塗布されたガラス板にフッ酸系のエッチング液をノズルから霧状に噴射して供給してエッチングすることで周縁がリブである凹部を形成する工程とを含む方法であり、
前記エッチング液をノズルから霧状に噴射する際の圧力は、0.15MPa以上0.25MPa以下であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項記載の発明は、内部にEL素子部を収めたトップエミッション型の有機ELディスプレイパネルのパッケージのうち、EL素子部を固定しない側である透明な非固定側基板を製造する方法であって、
ガラス板に所定のパターンでレジストを塗布する工程と、
レジスト塗布されたガラス板にフッ酸系のエッチング液をノズルから霧状に噴射して供給してエッチングすることで周縁がリブである凹部を形成する工程とを含む方法であり、前記エッチング液をノズルから霧状に噴射する際の圧力は、0.15MPa以上0.25MPa以下であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項記載の発明は、内部にEL素子部を収めた有機ELディスプレイのパッケージのうち、EL素子部を固定しない側である非固定側基板を製造する装置であって、
レジストが塗布されて所定位置に位置したガラス板の表面を臨む位置に設けられたノズルと、ガラス板の表面にフッ酸系のエッチング液をノズルから霧状に噴射させて供給することでエッチングするエッチング液供給系とを備えており、
周縁がリブである凹部をエッチングによってガラス板の表面に形成するものであり、
前記エッチング液供給系は、前記エッチング液を0.15MPa以上0.25MPa以下の圧力でノズルから噴射させるものであるであるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項記載の発明は、内部にEL素子部を収めたトップエミッション型の有機ELディスプレイのパッケージのうち、EL素子部を固定しない側である透明な非固定側基板を製造する装置であって、
レジストが塗布されて所定位置に位置したガラス板の表面を臨む位置に設けられたノズルと、ガラス板の表面にフッ酸系のエッチング液をノズルから霧状に噴射させて供給することでエッチングするエッチング液供給系とを備えており、
周縁がリブである凹部をエッチングによってガラス板の表面に形成するものであり、
前記エッチング液供給系は、前記エッチング液を0.15MPa以上0.25MPa以下の圧力でノズルから噴射させるものであるであるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項記載の発明は、前記請求項3又は4の構成において、前記ノズルは、所定位置に位置したガラス板の下方に設けられており、上方にエッチング液を噴射させてガラス板の下面に付着させてエッチングするものであるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項記載の発明は、前記請求項3、4又は5の構成において、前記ノズル又は前記ガラス板を相対的に移動させてエッチング液を均一に供給する移動機構を備えているという構成を有する。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、本願発明の実施の形態(以下、実施形態)について説明する。
まず、有機ELディスプレイパネルの発明の実施形態について説明する。図1は、本願発明の有機ELディスプレイパネルの断面概略図である。図1に示す有機ELディスプレイパネルは、トップエミッション型であり、基本的な構造は、図6に示すものと同様である。違いは、非固定側基板22にある。この実施形態のものは、エッチング液を霧状にして供給することで行うミストエッチング法により凹部が形成されている。図6に示すサンドブラスト法により形成されたものと比べると、リブ220の断面形状が異なっている。即ち、本実施形態では、リブ220は内側(パネルの中心に近い側)の側面がテーパ面となっている。テーパ面の角度(図1中に拡大してθで示す)は、80〜87度程度とすることが好ましい。この程度のテーパ面にしておくと、凹部底部の面積を充分に取りつつ、リブ220の強度を高くできる。
【0011】
図1に示す実施形態のものは、図1中に拡大して示すように、非固定側基板22の内側面221の平坦度が非常に高くなっている。これは、ミストエッチング法による効果である。非固定側基板22の外側面222は、各種の研磨法を任意に選択して平坦度を確保することができる。内側面は、リブ220があるために研磨が難しい。本実施形態では、ミストエッチング法によるため、非常に平坦度が高い。
本実施形態の非固定側基板22は、トップエミッション型有機ELディスプレイ用であるため、透明であってそれを通して光を出射する部材である。本実施形態のものは、表面221,222の平坦度が高いため、表示される画像の質が高くなる。
【0012】
次に、非固定側基板の製造方法の発明の実施形態及び非固定側基板の製造装置の発明の実施形態について説明する。
図2は、実施形態に係る非固定側基板の製造装置の概略構成を示す図である。図2に示す装置は、内部でエッチング処理が行われる処理容器3と、処理容器3にガラス板Gを搬入するとともに処理後にガラス板Gを搬出する搬送系4と、処理容器3内に位置したガラス板Gの表面を臨む位置に設けられたノズル5と、ノズル5を通してガラス板Gの表面にフッ酸系のエッチング液Lを霧状にして供給することでエッチングするエッチング液供給系6とを備えている。
【0013】
搬送系4は、本実施形態ではコロ方式となっている。即ち、搬送ラインに沿って設けられた多数の搬送コロ41によって搬送系4は構成されている。本実施形態では、ガラス板Gのエッチングする面を下側にしながらガラス板Gを搬送するようになっている。ガラス板Gは、エッチングする必要のない端部の位置で各搬送コロ41に乗るようになっている。
【0014】
ノズル5は、処理容器3内の搬送ラインの下方に設けられている。エッチング液供給系6は、エッチング液Lを溜めた液溜め61と、液溜め61とノズル5とをつなぐ配管62と、配管62上に設けられたバルブ63や送液ポンプ64などから構成されている。また、処理容器3の底部は漏斗状になっており、そこには使用済みのエッチング液Lを回収するエッチング液回収部7が設けられている。
【0015】
図3は、図2に示すノズル5の形状について示した斜視図である。図3に示すように、本実施形態では、ガラス板Gの搬送方向に対して垂直に複数のノズル5が並べられている。各ノズル5は上部に噴射孔50を設けた管状であり、水平な面内に等間隔で互いに平行に設けられている。各噴射孔50も、各ノズル5において等間隔である。
各噴射孔50は、ガラス板Gの搬送方向に対して斜めの45度の方向に細長い。従って、各噴射孔50から噴射されるエッチング液Lは、図3に示すように、この方向に長い逆錐状に広がるようになっている。
図3に示す各噴射孔50の配置は、ガラス板Gに対して均一にエッチング液Lが供給されるよう工夫されている。この点について、図4を使用して説明する。図4は、各噴射孔50が、ガラス板Gに対してエッチング液Lが均一に供給されるようにしている点を示した図である。
【0016】
図4の中ほどに、一つのノズル5の各噴射孔50から噴射されるエッチング液Lを示す。図4の下部には、ガラス板Gの幅方向で見た各噴射孔50からのエッチング液Lの噴射量の分布を示す。ノズル5の上方をガラス板Gが通過する際、ガラスGの下面の各点は、いずれかの噴射孔50からエッチング液Lの供給を受ける。この際、この際、隣り合う二つの噴射孔50の丁度中間の位置の真下を通る点Pは、その隣り合う二つの噴射孔50からエッチング液Lの供給を受けることになる。この場合、この点Pは、逆推状のエッチング液Lの広がりの端部に位置するので、図4の下部に示すように、一つの噴射孔50から受け取るエッチング液Lの量は、他の点の1/2程度であり、両隣の噴射孔50で一つの噴射孔50分のエッチング液Lの供給を受ける。従って、ガラス板Gの各点のエッチング液Lの供給量は、均一である。
【0017】
尚、処理容器3の搬送ライン上の手前側には、不図示のレジスト塗布機が設けられている。また、処理容器3の搬送ライン上の後方には、不図示の洗浄機が設けられている。レジスト塗布機や洗浄機は、現状の物を任意に選択して採用し得る。
図2に示す装置は、エッチング液Lを均一にガラス板Gに供給するため、静止したノズル5に対してガラス板Gを移動させる移動機構を備えている。移動機構は、搬送系4によって兼用されている。即ち、搬送系4を構成する搬送コロ41のうち、処理容器3内に設けられたものが移動機構を構成している。
【0018】
図2において、不図示のレジスト塗布機により所定のパターンでレジストが塗布された所定の形状のガラス板Gが、搬送系4により処理容器3内に搬入される。エッチング液Lを各ノズル5から噴射させながら、処理容器3内の搬送コロ41がガラス板Gを移動させて各ノズル5の上方を通過させる。この際、霧状になったエッチング液Lがガラス板Gの下面に付着する。これにより、ガラス板Gの下面が少しエッチングされる。
【0019】
処理容器3内の搬送コロ41は、ガラス板Gが各ノズル5の上方を通過した後、ガラス板Gを停止させ、今度は逆方向に移動させる(後退させる)。そして、再びガラス板Gが各ノズル5の上方を通過する際、霧状になったエッチング液Lが付着する。これにより、ガラス板Gの下面がさらに少しエッチングされる。処理容器3内の搬送コロ41は、ガラス板Gを各ノズル5の上方を通過させた後、一旦停止させ、逆転させて再び搬送方向に移動させる(前進する)。このような往復運動を数回繰り返し、霧状のエッチング液Lを少しずつ付着させながら少しずつエッチングしていく。所定の深さのエッチングが行える回数だけ往復運動を行ったら、ガラス板Gは処理容器3から搬出される。その後、ガラス板Gは、不図示の洗浄機に搬入される。洗浄機では、純水がガラス板Gの表面に供給され、残留したエッチング液L等が洗い流される。尚、大きなガラス版Gを一括して加工し、その後切断して1つ1つの非固定側基板22とすることがある。
【0020】
このようなエッチング液Lを霧状に供給するミストエッチング法によると、エッチングされた面の平坦度が高くなる。ウェットエッチング法としては、対象物をエッチング液に浸けるディップ法が多く採用されるが、発明者の研究によると、ディップ法では平坦度が悪く、トップエミッション型有機ELディスプレイパネルの非固定側基板の製造には採用できない。エッチング液を霧状にして付着させることでエッチングするミストエッチング法によると、トップエミッション型有機ELディスプレイパネルの非固定側基板製造用として充分に平坦度の高いエッチングが行える。尚、前述したようにリブ220の内側面がテーパ面となるのは、ウェットエッチングによるためである。ウェットエッチングは等方的に進行するため、好適なテーパ面が得られる。
【0021】
また、本実施形態では、ガラス板Gのエッチングする面を下側に向け、エッチング液Lを下方から噴射させて付着させている。この点も、平坦度の高いエッチングに貢献している。上方から噴射させるタイプであると、万が一、送液ポンプ64の圧力等の異常により、ある程度の大きさの液滴が放出された場合に問題を生ずる。即ち、ある程度の大きさの液滴の状態でエッチング液が被エッチング面に付着してしまい、液滴が付着した箇所でエッチングが異常に多く進行し、平坦度が低下してしまう。下方から噴射させるタイプであると、このような問題はない。
【0022】
上記構成に係る装置及び方法の細部について説明する。
エッチング液は、対象物であるガラス板Gの材質により若干異なるが、基本的にはフッ酸系である。例えば、森田化学株式会社から販売されているものが使用できる。ガラス板Gとしては、いわゆる青板や白板、ソーダライムガラス、ホウ珪酸ガラス等が考えられるが、フッ酸系のエッチング液ですべてエッチング可能である。
【0023】
レジストは、フッ酸に対して耐食性があることが必要であるが、例えばフジ写真フィルムアーチ株式会社のFH−890K等が使用できる。レジストの塗布は、例えばスクリーン印刷等の周知の方法を採用することができる。
エッチング液を霧状に噴射するノズル5の孔の大きさは、例えば幅(図3にWで示す)は、80〜150mm程度、長さ(図3にLgで示す)は、100〜150mm程度で良い。噴射圧力は、0.15MPa〜0.25MPa程度で良い。
【0024】
上記実施形態では、ガラス板Gを移動させながらエッチング液Lを均一に供給したが、静止したガラス板Gに対して、ガラス板Gに平行な面内でノズル5を移動させるようにしてもよく、ガラス板Gの移動とノズル5の移動とを併用したりしても良い。
尚、有機ELディスプレイの構成としては、RGBの三色のEL素子部を個別に形成したもの、青色のEL素子部と色変換膜の組み合わせでRGBの各色を発光させるもの、白色のEL素子部とカラーフィルタの組み合わせたもののいずれでも良い。
また、上記実施形態では、トップエミッション型を採り上げたが、本願発明は、ボトムエミッション型についても実施できる。この場合でも、パッケージを構成する非固定側基板の加工がサンドブラスト法でなく、ウェットエッチング法により行われるので、強度上の問題や耐久性の点での問題が生じないという効果が得られる。
【0025】
【発明の効果】
以上説明した通り、本願の請求項1記載の方法又は請求項3記載の装置によれば、パッケージを構成する非固定側基板の加工がサンドブラスト法でなく、ウェットエッチング法により行われるので、強度上の問題や耐久性の点での問題が生じない有機ELディスプレイを製造することができる
また、請求項2記載の方法又は請求項4記載の装置によれば、上記効果に加え、トップエミッション型であるために光の利用効率が高い有機ELディスプレイを製造することができる。従って、小消費電力でありながら明るい画像が得られる。また、非固定側基板は、EL素子部からの光を透過させる面を底面とする凹部が、エッチング液を霧状にして供給することで行うエッチングにより形成されているので、凹部底面の平坦度が高い。このため、画質ムラやチラツキの無い高品質の画像が表示できる有機ELディスプレイが製造できる
また、請求項記載の装置によれば、ノズルが下方からエッチング液を噴射させてガラス板に供給するので、さらに平坦度の高いエッチングが行える。このため、画質ムラやチラツキがさらに低減した高品質の画像表示に貢献できる。
また、請求項記載の発明によれば、ノズル又はガラス板を相対的に移動させる移動機構が設けられているので、より均一なエッチング液の供給が行える。このため、画質ムラやチラツキがさらに低減した高品質の画像表示に貢献できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本願発明の有機ELディスプレイパネルの断面概略図である。
【図2】実施形態に係る非固定側基板の製造装置の概略構成を示す図である。
【図3】図2に示すノズル5の形状について示した斜視図である。
【図4】各噴射孔50が、ガラス板Gに対してエッチング液Lが均一に供給されるようにしている点を示した図である。
【図5】現状の有機ELディスプレイパネルの断面概略図である。
【図6】トップエミッション型の有機ELディスプレイパネルの断面概略図である。
【符号の説明】
1 EL素子部
2 パッケージ
21 固定側基板
22 非固定側基板
3 処理容器
4 搬送系
41 搬送コロ
5 ノズル
50 噴射孔
6 エッチング液供給系
G ガラス板
L エッチング液
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to the manufacture of an organic EL display that has recently been viewed as a promising flat panel display (FPD).
[0002]
[Prior art]
An organic EL display is a display using an organic EL element. The organic EL element has a structure in which an organic thin film is sandwiched between a pair of electrodes, and at least one of them is a transparent electrode such as indium-tin oxide (ITO) for the purpose of extracting light. A DC voltage is applied to the pair of electrodes, and electrons are injected from one side into the organic thin film from the other. In the organic thin film, these carriers are recombined and excited, and light emission occurs when this carrier returns to the ground state.
[0003]
Since the organic EL display is self-luminous, a backlight like a liquid crystal display is unnecessary. In addition, it has excellent high-speed response and can be easily reduced in thickness and driving voltage. In addition, the manufacturing process is simple compared to a liquid crystal display or the like. For this reason, it is attracting attention as a next-generation display technology, and its practical application to mobile phones has already begun.
[0004]
The structure of the current organic EL display panel will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a current organic EL display panel. The organic EL display panel shown in FIG. 5 includes a pair of electrodes 11 and 12, an EL element portion 1 composed of an organic thin film 13 sandwiched between the pair of electrodes 11 and 12, and a package 2 in which the EL element portion 1 is housed. It consists of. The organic EL display panel refers to an organic EL display composed of a package 2 excluding a drive circuit and the like and components inside the package 2.
[0005]
For convenience of extracting light, at least one of the pair of electrodes 11 and 12 is a transparent electrode such as ITO. In the active type in which each pixel is driven, a thin film transistor (TFT) is formed as one electrode. The package 2 includes a fixed side substrate 21 to which the EL element unit 1 is fixed and a non-fixed side substrate 22 on the side to which the EL element unit 1 is not fixed. The current organic EL display is a so-called bottom emission type, and the example shown in FIG. 5 also belongs to this. That is, the fixed side substrate 21 is made of glass and is transparent. The light from the EL element unit 1 passes through the fixed substrate 21 and is emitted. That is, the fixed substrate 21 is located on the side of the person viewing the image.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
Since the bottom emission type organic EL display panel as shown in FIG. 5 emits light through the fixed-side substrate 21 of the package 2, there is a problem that the light use efficiency is poor. That is, a circuit for driving the EL element unit 1 is formed on the fixed substrate 21, and light transmittance is worse than that of a normal simple transparent body. In order to solve this problem, a top emission type organic EL display panel is effective, and the top emission type is considered promising in the future. FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a top emission type organic EL display panel.
In the top emission type, as shown in FIG. 6, the light from each EL element unit 1 is directly emitted through the non-fixed side substrate 22. Since the non-fixed side substrate 22 does not fix the EL element unit 1, it can be a simple transparent body and can have a high transmittance. For this reason, the light use efficiency is higher than the bottom emission type.
[0007]
Here, as shown in FIG. 6, in the top emission type, it is necessary to form ribs on the periphery of the non-fixed side substrate 22. The ribs are formed by processing a transparent glass plate that is the basis of the non-fixed side substrate 22. At present, it is considered that ribs are formed by sandblasting (see Semiconductor FPD World, January 2002, p. 116-118).
However, according to the sandblasting method, as shown in an enlarged view in FIG. In particular, in the case of a structure in which light is extracted through the portion as in the top emission type, there is a problem that unevenness on the surface subjected to sandblasting causes image unevenness, flicker in image quality, and the like. Moreover, according to the sandblasting method, microcracks are likely to occur. For this reason, it is easy to produce the problem in terms of strength and durability. This point does not change even if it is a bottom emission type.
[0008]
The invention of the present application has been made to solve such a problem, and is technically significant to provide a processing technology for a non-fixed side substrate that is suitable for use in a top emission type organic EL display panel with excellent image quality. It is what has.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 1 of the present application manufactures a non-fixed side substrate which is a side on which an EL element part is not fixed, among packages of an organic EL display panel in which the EL element part is housed. A method,
Applying a resist to the glass plate in a predetermined pattern;
Forming a recess whose peripheral edge is a rib by etching by supplying and etching a hydrofluoric acid-based etching solution in a mist form from a nozzle onto a resist-coated glass plate ,
The pressure at which the etching solution is sprayed from the nozzle in a mist form is 0.15 MPa or more and 0.25 MPa or less .
In order to solve the above-mentioned problem, the invention described in claim 2 is a transparent non-transparent non-fixed side of the top emission type organic EL display panel package in which the EL element portion is housed. A method of manufacturing a stationary side substrate,
Applying a resist to the glass plate in a predetermined pattern;
Forming a recess having a peripheral edge as a rib by spraying and supplying a hydrofluoric acid-based etching solution in a mist form from a nozzle onto a resist-coated glass plate , and the etching solution The pressure when spraying from the nozzle in the form of a mist has a configuration of 0.15 MPa or more and 0.25 MPa or less .
Further, in order to solve the above-mentioned problems, the invention described in claim 3 is an apparatus for manufacturing a non-fixed side substrate which is a side where an EL element part is not fixed, among packages of an organic EL display in which the EL element part is housed. Because
Etching is carried out by spraying a hydrofluoric acid-based etching solution onto the surface of the glass plate by spraying it in the form of a mist onto the surface of the glass plate, where the resist is applied and facing the surface of the glass plate located at a predetermined position. An etchant supply system,
The peripheral edge is a rib formed on the surface of the glass plate by etching ,
The etching solution supply system has a configuration in which the etching solution is sprayed from a nozzle at a pressure of 0.15 MPa to 0.25 MPa .
In order to solve the above-mentioned problem, the invention described in claim 4 is a transparent non-fixing which is a side where the EL element part is not fixed in a package of a top emission type organic EL display in which the EL element part is accommodated. An apparatus for manufacturing a side substrate,
Etching is carried out by spraying a hydrofluoric acid-based etching solution onto the surface of the glass plate by spraying it in the form of a mist onto the surface of the glass plate, where the resist is applied and facing the surface of the glass plate located at a predetermined position. An etchant supply system,
The peripheral edge is a rib formed on the surface of the glass plate by etching ,
The etching solution supply system has a configuration in which the etching solution is sprayed from a nozzle at a pressure of 0.15 MPa to 0.25 MPa .
In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 5 is the configuration according to claim 3 or 4 , wherein the nozzle is provided below a glass plate positioned at a predetermined position, and an etching solution is provided above the nozzle. Is sprayed to adhere to the lower surface of the glass plate and etched.
In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 6 is the movement of supplying the etching solution uniformly by relatively moving the nozzle or the glass plate in the configuration of claim 3, 4 or 5. It has the structure of having a mechanism.
[0010]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention (hereinafter referred to as embodiments) will be described.
First, an embodiment of the organic EL display panel will be described. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an organic EL display panel of the present invention. The organic EL display panel shown in FIG. 1 is a top emission type, and the basic structure is the same as that shown in FIG. The difference is in the non-fixed side substrate 22. In this embodiment, the concave portion is formed by a mist etching method performed by supplying the etching solution in a mist form. The cross-sectional shape of the rib 220 is different from that formed by the sandblast method shown in FIG. That is, in the present embodiment, the rib 220 has a tapered surface on the inner side (side closer to the center of the panel). The angle of the taper surface (enlarged and indicated by θ in FIG. 1) is preferably about 80 to 87 degrees. If the taper surface has such a degree, the strength of the rib 220 can be increased while taking a sufficient area of the bottom of the recess.
[0011]
In the embodiment shown in FIG. 1, the flatness of the inner side surface 221 of the non-fixed side substrate 22 is very high as shown in an enlarged manner in FIG. This is an effect of the mist etching method. The outer surface 222 of the non-fixed side substrate 22 can ensure flatness by arbitrarily selecting various polishing methods. The inner surface is difficult to polish due to the presence of the ribs 220. In this embodiment, the flatness is very high because of the mist etching method.
Since the non-fixed side substrate 22 of the present embodiment is for a top emission type organic EL display, it is a transparent member that emits light through it. Since the flatness of the surfaces 221 and 222 is high in the present embodiment, the quality of the displayed image is high.
[0012]
Next, an embodiment of the invention of the non-fixed side substrate manufacturing method and an embodiment of the non-fixed side substrate manufacturing apparatus will be described.
FIG. 2 is a diagram illustrating a schematic configuration of the non-fixed-side substrate manufacturing apparatus according to the embodiment. The apparatus shown in FIG. 2 is located in the processing container 3 in which the etching process is performed inside, the conveyance system 4 that carries the glass plate G into the processing container 3 and unloads the glass plate G after processing, and the processing container 3. A nozzle 5 provided at a position facing the surface of the glass plate G, and an etching solution supply system 6 for etching by supplying the hydrofluoric acid-based etching solution L in the form of a mist to the surface of the glass plate G through the nozzle 5 I have.
[0013]
The transport system 4 is a roller system in this embodiment. That is, the transport system 4 is constituted by a large number of transport rollers 41 provided along the transport line. In this embodiment, the glass plate G is conveyed while the surface to be etched of the glass plate G is on the lower side. The glass plate G rides on each conveyance roller 41 at the position of the end portion that does not need to be etched.
[0014]
The nozzle 5 is provided below the transfer line in the processing container 3. The etchant supply system 6 includes a liquid reservoir 61 that stores an etchant L, a pipe 62 that connects the liquid reservoir 61 and the nozzle 5, a valve 63 and a liquid feed pump 64 that are provided on the pipe 62. Yes. Further, the bottom of the processing vessel 3 has a funnel shape, and an etching solution recovery unit 7 for recovering the used etching solution L is provided there.
[0015]
FIG. 3 is a perspective view showing the shape of the nozzle 5 shown in FIG. As shown in FIG. 3, in the present embodiment, a plurality of nozzles 5 are arranged perpendicular to the conveying direction of the glass plate G. Each nozzle 5 has a tubular shape with an injection hole 50 provided in the upper part, and is provided in parallel to each other at equal intervals in a horizontal plane. The injection holes 50 are also equally spaced in each nozzle 5.
Each injection hole 50 is elongated in a 45-degree direction oblique to the conveyance direction of the glass plate G. Therefore, as shown in FIG. 3, the etchant L sprayed from each spray hole 50 spreads in a long inverted cone shape in this direction.
The arrangement of the injection holes 50 shown in FIG. 3 is devised so that the etching solution L is uniformly supplied to the glass plate G. This point will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a view showing that each of the injection holes 50 allows the etching liquid L to be uniformly supplied to the glass plate G.
[0016]
The middle part of FIG. 4 shows the etching solution L sprayed from each spray hole 50 of one nozzle 5. In the lower part of FIG. 4, the distribution of the injection amount of the etching liquid L from each injection hole 50 viewed in the width direction of the glass plate G is shown. When the glass plate G passes above the nozzle 5, each point on the lower surface of the glass G is supplied with the etching solution L from any of the injection holes 50. At this time, the point P passing just below the intermediate position between the two adjacent injection holes 50 is supplied with the etching solution L from the two adjacent injection holes 50. In this case, since this point P is located at the end of the reverse-propagating etching solution L, the amount of the etching solution L received from one injection hole 50 is different from that shown in FIG. About half of the point, the supply of the etching solution L for one injection hole 50 is received by the injection holes 50 on both sides. Therefore, the supply amount of the etching liquid L at each point of the glass plate G is uniform.
[0017]
A resist coating machine (not shown) is provided on the front side of the processing container 3 on the transfer line. A cleaning machine (not shown) is provided behind the processing container 3 on the transfer line. As the resist coating machine and the cleaning machine, the present ones can be arbitrarily selected and employed.
The apparatus shown in FIG. 2 includes a moving mechanism that moves the glass plate G with respect to the stationary nozzle 5 in order to uniformly supply the etching solution L to the glass plate G. The moving mechanism is also used by the transport system 4. That is, among the transport rollers 41 constituting the transport system 4, the one provided in the processing container 3 constitutes a moving mechanism.
[0018]
In FIG. 2, a glass plate G having a predetermined shape coated with a resist in a predetermined pattern by a resist coating machine (not shown) is carried into the processing container 3 by the transport system 4. While the etching liquid L is sprayed from each nozzle 5, the transfer roller 41 in the processing container 3 moves the glass plate G to pass above each nozzle 5. At this time, the mist-like etching solution L adheres to the lower surface of the glass plate G. Thereby, the lower surface of the glass plate G is slightly etched.
[0019]
The conveyance roller 41 in the processing container 3 stops the glass plate G after the glass plate G has passed over the nozzles 5, and this time moves (retreats) in the opposite direction. Then, when the glass plate G passes through the nozzles 5 again, the mist-like etching solution L adheres. Thereby, the lower surface of the glass plate G is further slightly etched. The conveyance roller 41 in the processing container 3 passes the glass plate G over the nozzles 5 and then temporarily stops, reverses it, and moves it again in the conveyance direction (advances). Such reciprocating motion is repeated several times, and etching is performed little by little while adhering the mist-like etching solution L little by little. When the reciprocating motion is performed a number of times that etching can be performed at a predetermined depth, the glass plate G is unloaded from the processing container 3. Thereafter, the glass plate G is carried into a cleaning machine (not shown). In the cleaning machine, pure water is supplied to the surface of the glass plate G, and the remaining etching solution L and the like are washed away. A large glass plate G may be processed in a lump and then cut into one non-fixed side substrate 22.
[0020]
According to such a mist etching method in which the etching solution L is supplied in a mist form, the flatness of the etched surface is increased. As the wet etching method, a dip method in which an object is immersed in an etching solution is often used. However, according to the research of the inventors, the dip method has poor flatness, and the non-fixed side substrate of the top emission type organic EL display panel is not suitable. It cannot be adopted for manufacturing. According to the mist etching method in which etching is performed by depositing an etching solution in the form of a mist, etching with sufficiently high flatness can be performed for manufacturing a non-fixed side substrate of a top emission type organic EL display panel. As described above, the inner surface of the rib 220 becomes a tapered surface because of wet etching. Since wet etching proceeds isotropically, a suitable tapered surface can be obtained.
[0021]
Further, in the present embodiment, the etching surface of the glass plate G is directed downward, and the etching solution L is sprayed from below to be attached. This point also contributes to etching with high flatness. If the liquid is ejected from above, a problem occurs when a droplet of a certain size is discharged due to an abnormality such as the pressure of the liquid feed pump 64. That is, the etching liquid adheres to the surface to be etched in the state of a droplet having a certain size, and the etching proceeds abnormally much at the portion where the droplet has adhered, resulting in a decrease in flatness. There is no such a problem if it is a type injecting from below.
[0022]
Details of the apparatus and method according to the above configuration will be described.
The etching solution is basically hydrofluoric acid based, although it varies slightly depending on the material of the glass plate G that is the object. For example, those sold by Morita Chemical Co., Ltd. can be used. As the glass plate G, so-called blue plate, white plate, soda lime glass, borosilicate glass, and the like can be considered, but all can be etched with a hydrofluoric acid-based etching solution.
[0023]
The resist needs to have corrosion resistance to hydrofluoric acid. For example, FH-890K manufactured by Fuji Photo Film Arch Co., Ltd. can be used. For the application of the resist, for example, a known method such as screen printing can be employed.
The size of the hole of the nozzle 5 for injecting the etching solution in the form of a mist is, for example, about 80 to 150 mm in width (indicated by W in FIG. 3) and about 100 to 150 mm in length (indicated by Lg in FIG. 3). Good. The injection pressure may be about 0.15 MPa to 0.25 MPa.
[0024]
In the above embodiment, the etching solution L is uniformly supplied while moving the glass plate G. However, the nozzle 5 may be moved in a plane parallel to the glass plate G with respect to the stationary glass plate G. The movement of the glass plate G and the movement of the nozzle 5 may be used in combination.
The organic EL display has a configuration in which EL element portions of three colors of RGB are individually formed, a combination of a blue EL element portion and a color conversion film emits each color of RGB, and a white EL element portion. And any combination of color filters.
Moreover, although the top emission type was taken up in the said embodiment, this invention can be implemented also about a bottom emission type. Even in this case, since the processing of the non-fixed side substrate constituting the package is performed not by the sandblasting method but by the wet etching method, there is an effect that the problem of strength and the problem of durability do not occur.
[0025]
【The invention's effect】
As described above , according to the method according to claim 1 or the apparatus according to claim 3 of the present application, since the processing of the non-fixed side substrate constituting the package is performed by the wet etching method instead of the sandblasting method, Thus, an organic EL display that does not cause the above-described problems and durability problems can be manufactured .
Moreover, according to the method of Claim 2 or the apparatus of Claim 4 , in addition to the said effect, since it is a top emission type, an organic electroluminescent display with high utilization efficiency of light can be manufactured. Therefore, a bright image can be obtained with low power consumption. In addition, the non-fixed side substrate has a recess having a bottom surface that transmits light from the EL element portion formed by etching performed by supplying an etching solution in a mist form. Is expensive. For this reason, an organic EL display capable of displaying a high-quality image free from image quality unevenness and flickering can be manufactured .
Further, according to the apparatus of the fifth aspect , since the nozzle sprays the etching solution from below and supplies it to the glass plate, etching with higher flatness can be performed. For this reason, it is possible to contribute to high-quality image display in which image quality unevenness and flicker are further reduced.
According to the sixth aspect of the present invention, since the moving mechanism for moving the nozzle or the glass plate relatively is provided, a more uniform etching solution can be supplied. For this reason, it is possible to contribute to high-quality image display in which image quality unevenness and flicker are further reduced.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an organic EL display panel of the present invention.
FIG. 2 is a diagram illustrating a schematic configuration of a non-fixed-side substrate manufacturing apparatus according to an embodiment.
3 is a perspective view showing the shape of the nozzle 5 shown in FIG. 2. FIG.
4 is a view showing that each injection hole 50 is configured to uniformly supply an etching solution L to a glass plate G. FIG.
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a current organic EL display panel.
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a top emission type organic EL display panel.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 EL element part 2 Package 21 Fixed side board | substrate 22 Non-fixed side board | substrate 3 Processing container 4 Conveyance system 41 Conveyance roller 5 Nozzle 50 Injection hole 6 Etching liquid supply system G Glass plate L Etching liquid

Claims (6)

内部にEL素子部を収めた有機ELディスプレイパネルのパッケージのうち、EL素子部を固定しない側である非固定側基板を製造する方法であって、
ガラス板に所定のパターンでレジストを塗布する工程と、
レジスト塗布されたガラス板にフッ酸系のエッチング液をノズルから霧状に噴射して供給してエッチングすることで周縁がリブである凹部を形成する工程とを含む方法であり、
前記エッチング液をノズルから霧状に噴射する際の圧力は、0.15MPa以上0.25MPa以下であることを特徴とする有機ELディスプレイパネルの非固定側基板の製造方法。
A method of manufacturing a non-fixed side substrate which is a side where an EL element part is not fixed among packages of an organic EL display panel containing an EL element part therein,
Applying a resist to the glass plate in a predetermined pattern;
Forming a recess whose peripheral edge is a rib by etching by supplying and etching a hydrofluoric acid-based etching solution in a mist form from a nozzle onto a resist-coated glass plate ,
The method for producing a non-fixed side substrate of an organic EL display panel, wherein the pressure when spraying the etching solution in a mist form from a nozzle is 0.15 MPa or more and 0.25 MPa or less .
内部にEL素子部を収めたトップエミッション型の有機ELディスプレイパネルのパッケージのうち、EL素子部を固定しない側である透明な非固定側基板を製造する方法であって、
ガラス板に所定のパターンでレジストを塗布する工程と、
レジスト塗布されたガラス板にフッ酸系のエッチング液をノズルから霧状に噴射して供給してエッチングすることで周縁がリブである凹部を形成する工程とを含む方法であり、前記エッチング液をノズルから霧状に噴射する際の圧力は、0.15MPa以上0.25MPa以下であることを特徴とする有機ELディスプレイパネルの非固定側基板の製造方法。
Among the top emission type organic EL display panel packages that house the EL element portion therein, a method for manufacturing a transparent non-fixed side substrate that is a side where the EL element portion is not fixed,
Applying a resist to the glass plate in a predetermined pattern;
Forming a recess having a peripheral edge as a rib by spraying and supplying a hydrofluoric acid-based etching solution in a mist form from a nozzle onto a resist-coated glass plate , and the etching solution A method for producing a non-fixed-side substrate of an organic EL display panel, wherein the pressure when sprayed in a mist form from a nozzle is from 0.15 MPa to 0.25 MPa .
内部にEL素子部を収めた有機ELディスプレイのパッケージのうち、EL素子部を固定しない側である非固定側基板を製造する装置であって、
レジストが塗布されて所定位置に位置したガラス板の表面を臨む位置に設けられたノズルと、ガラス板の表面にフッ酸系のエッチング液をノズルから霧状に噴射させて供給することでエッチングするエッチング液供給系とを備えており、
周縁がリブである凹部をエッチングによってガラス板の表面に形成するものであり、
前記エッチング液供給系は、前記エッチング液を0.15MPa以上0.25MPa以下の圧力でノズルから噴射させるものであるであることを特徴とする有機ELディスプレイパネルの非固定側基板の製造装置。
Among the organic EL display packages containing the EL element part inside, it is an apparatus for manufacturing a non-fixed side substrate which is a side where the EL element part is not fixed,
Etching is carried out by spraying a hydrofluoric acid-based etching solution onto the surface of the glass plate by spraying it in the form of a mist onto the surface of the glass plate, where the resist is applied and facing the surface of the glass plate at a predetermined position An etchant supply system,
The peripheral edge is a rib formed on the surface of the glass plate by etching ,
The apparatus for producing a non-fixed side substrate of an organic EL display panel, wherein the etching solution supply system is one for injecting the etching solution from a nozzle at a pressure of 0.15 MPa to 0.25 MPa .
内部にEL素子部を収めたトップエミッション型の有機ELディスプレイのパッケージのうち、EL素子部を固定しない側である透明な非固定側基板を製造する装置であって、
レジストが塗布されて所定位置に位置したガラス板の表面を臨む位置に設けられたノズルと、ガラス板の表面にフッ酸系のエッチング液をノズルから霧状に噴射させて供給することでエッチングするエッチング液供給系とを備えており、
周縁がリブである凹部をエッチングによってガラス板の表面に形成するものであり、
前記エッチング液供給系は、前記エッチング液を0.15MPa以上0.25MPa以下の圧力でノズルから噴射させるものであるであることを特徴とする有機ELディスプレイパネルの非固定側基板の製造装置。
Among top emission type organic EL display packages that house an EL element portion therein, an apparatus for manufacturing a transparent non-fixed side substrate that is a side where the EL element portion is not fixed,
Etching is carried out by spraying a hydrofluoric acid-based etching solution onto the surface of the glass plate by spraying it in the form of a mist onto the surface of the glass plate, where the resist is applied and facing the surface of the glass plate at a predetermined position An etchant supply system,
The peripheral edge is a rib formed on the surface of the glass plate by etching ,
The apparatus for producing a non-fixed side substrate of an organic EL display panel, wherein the etching solution supply system is one for injecting the etching solution from a nozzle at a pressure of 0.15 MPa to 0.25 MPa .
前記ノズルは、所定位置に位置したガラス板の下方に設けられており、上方にエッチング液を噴射させてガラス板の下面に付着させてエッチングするものであることを特徴とする請求項3又は4記載の有機ELディスプレイパネルの非固定側基板の製造装置。The nozzle is provided below the glass plate located in a predetermined position, according to claim 3 or 4 above etching solution is sprayed on to adhere to the lower surface of the glass plate and characterized in that the etching The manufacturing apparatus of the non-fixed side board | substrate of the organic electroluminescent display panel of description. 前記ノズル又は前記ガラス板を相対的に移動させてエッチング液を均一に供給する移動機構を備えていることを特徴とする請求項3、4又は5記載の有機ELディスプレイパネルの非固定側基板の製造装置。6. A non-fixed-side substrate of an organic EL display panel according to claim 3 , further comprising a moving mechanism that uniformly moves the nozzle or the glass plate to uniformly supply an etching solution. Manufacturing equipment.
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