JP4312193B2 - パチンコ遊技機の球発射装置 - Google Patents

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Description

本発明は、パチンコ遊技機の球発射装置に関し、特に塵などの異物の侵入によって発射強度が減少する不具合を解消することができる球発射装置に関する。
従来のパチンコ遊技機の球発射装置は、例えば下記特許文献1に記載されるように、長尺の発射レールが遊技盤の外レールの下端部の導入口に向けて傾斜して配設され、ロータリソレノイドの回動軸にレバー状の発射杆が軸着され、発射レールの下端部に遊技球が保持された状態で、発射杆が回動軸を軸に回動し、発射杆の先端に取り付けた弾発槌が遊技球を打撃して、弾発された遊技球が遊技領域に向けて発射される。
この種の球発射装置には、発射杆の発射位置と待機位置で発射杆の回動を制限するストッパ部が設けられ、発射杆は、この発射位置と待機位置で、それらのストッパ部に当接して停止する。また、従来の発射杆は、金属のレバー状に形成され、その金属製の発射杆がゴム製のストッパ部に衝突して、発射位置と待機位置に停止する。
特開平4−256766号公報
このため、長期の使用により、発射杆とストッパ部との間に或はロータリソレノイド内に塵などの異物が侵入した場合、発射位置と待機位置間における発射杆の回動範囲が狭く制限された状態となり、これによって、遊技球の適正な発射強度が得られなくなるという問題が発生していた。つまり、発射杆とストッパ部間に塵などの異物が侵入すると、発射杆が正常な待機位置に戻りきらない状態で、回動を開始するため、発射する際の発射杆の回動範囲が狭くなって、発射杆が正常な発射速度に達する手前で遊技球を打撃することになり、遊技球の発射強度が低下する課題があった。
本発明は、上述の課題を解決するものであり、塵などの異物の侵入などにより発射杆の回動範囲が制限された場合でも、遊技球を適正な発射強度で発射することができるパチンコ遊技機の球発射装置を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するために、本発明の球発射装置は、先端に打球部を設けた発射杆が回動軸に軸支され、該発射杆の発射位置と待機位置で発射杆の回動を制限するストッパ部が配設され、該発射杆の発射位置と待機位置間の往復回動動作により、先端の打球部を遊技球に打ち当て、遊技球を遊技領域に向けて発射するパチンコ遊技機の球発射装置において、該発射杆を待機位置から発射位置へ回転駆動する発射杆駆動手段と、該発射杆が該発射位置から該待機位置まで戻る際の該発射杆の戻り回転量の減少を検出する回転量検出手段と、該回転量検出手段が該戻り回転量の減少を検出したとき、該戻り回転量の減少量に応じて該発射杆駆動手段の駆動力を増大させるように制御する発射杆駆動制御手段と、を備えたことを特徴とする。
ここで、請求項2のように、上記発射杆駆動手段は、電磁回転駆動機構により発射杆を回転駆動するように構成され、前記発射杆駆動制御手段は、前記発射杆の戻り回転量の減少量が多くなるほど、該電磁回転駆動機構を駆動する駆動電流を増大させる構成とすることができる。
また、請求項3のように、上記回転量検出手段は、前記発射杆の一部または該発射杆に取り付けられた部分に設けられた待機位置被検出部と、該待機位置被検出部を検出する待機位置検出器と、を有して構成され、該待機位置検出器は、該発射杆が待機位置に戻ったときの該待機位置被検出部の被検出位置に応じて、戻り回転量を示す信号を出力するように構成することができる。
さらに、請求項4のように、上記待機位置被検出部は、前記発射杆の一部または該発射杆に取り付けられた部分に複数の孔または溝を回転方向に並設して形成され、前記待機位置検出器は、該孔または溝の位置を光の透過または反射により検出する光電検出器を用いて構成することができる。
上記構成の球発射装置は、発射杆駆動手段が発射杆を回転駆動したとき、回転量検出手段が、発射位置から待機位置まで戻る際の発射杆の戻り回転量の減少を検出する。そして、発射杆駆動制御手段は、回転量検出手段が戻り回転量の減少を検出したとき、戻り回転量の減少量に応じて発射杆駆動手段の駆動力を増大させるように制御する。
したがって、待機位置のストッパ部と発射杆の間或は発射杆駆動手段内に、塵などの異物が侵入し、発射杆が正常な待機位置に戻らない状態が発生した場合、回転量検出手段は戻り回転量が通常時より減少する減少量を検出する。このとき、発射杆駆動制御手段は、その戻り回転量の減少量に応じて発射杆駆動手段の駆動力を増大させるように制御するから、発射強度の低下を防止して通常の安定した強度で遊技球を発射することができる。
また、請求項2の発明によれば、発射杆の駆動に電磁回転駆動機構を使用し、発射杆駆動制御手段は、電磁回転駆動機構を駆動する駆動電流を制御して発射強度を増すように制御するため、発射強度の制御を正確に行うことができる。
また、請求項3の発明によれば、回転量検出手段は、発射杆の一部または発射杆に取り付けられた部分に設けられた待機位置被検出部と、待機位置被検出部を検出する待機位置検出器と、を有して構成され、待機位置検出器は、発射杆が待機位置に戻ったときの待機位置被検出部の被検出位置に応じて、戻り回転量を示す信号を出力するから、発射杆の戻り回転量の減少を正確に検出することができる。
さらに、請求項4の発明によれば、待機位置検出器として光電検出器を用いて構成し、待機位置被検出部に設けた孔または溝の位置を光の透過または反射により検出するから、検出器、被検出部共に小形化することができ、狭い発射装置のケース内にも設置することができる。
以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。図1はパチンコ遊技機の発射装置10の正面図を示し、図2はその斜視図を、図3はその分解斜視図を示している。発射装置10は、金属板などにより矩形に形成されたベース板11上に、発射口部材12、ロータリソレノイド14、第1・第2ストッパ部17,18などを取り付けて構成される。ベース板11の中央右寄りに軸孔が穿設され、その軸孔から回動軸14aを突き出すように、ロータリソレノイド14がベース板11の裏面に固定ねじなどで固定される。
ベース板11上には、合成樹脂製の発射口部材12が固定ねじなどにより固定されている。発射口部材12は、その略中央に発射通路12aが斜め上方に傾斜して形成され、その発射通路12aに向かって左側の側壁部に発射レール13が取り付けられている。
また、発射口部材12の発射通路12aは、後述の遊技盤2上の外レール3の下端部と内レール4間に斜め下方に傾斜して設けられた導入口5に向けて、傾斜して形成される。さらに、発射通路12a内の下端部には、側壁をせりだして通路を狭搾するように、球保持部12bが形成され、図示しない球送り機構から送られた1個の遊技球がこの球保持部12bに保持される。
発射通路12aの下側の側壁部を形成する発射レール13は、コ字状に曲折した金属板の接触面を略V字型に曲折して形成され、発射レール13の長さは遊技球の直径の略2倍の長さに形成されている。この発射レール13は遊技球の発射時のガイドとなるものであるが、発射レール13の傾斜角度より、少し大きい発射角度で遊技球を外レールの下端の導入口に向けて発射することにより、発射レールとの接触を少なくし、発射レール13の長さを従来のものより短縮している。
発射杆15は、概略的には、略L字型に形成され、その角部に回動軸を嵌着されるための軸孔が形成される。また、発射杆15の先端部には、遊技球を打撃するための打球部16が形成され、反打球部側の片部には、後述の第1・第2ストッパ部17,18に当接するための回動範囲制限部15aが形成されている。また、この発射杆15は、金属インサートの周囲に高反発弾性の合成樹脂を被覆するように、インサート成形して、合成樹脂の被覆層がその周囲に被覆・形成されている。合成樹脂材料としては、一般的なゴムとプラスチックの間の中間的な柔らかさを有し、高い耐衝撃性と反発弾性を有した熱可塑性エラストマーを使用することが好ましく、熱可塑性エラストマーとしては、ポリエステルエラストマーの使用が好ましい。
発射杆15は、このようなインサート成形により成形され、金属インサートの外周には、略全体を覆うように合成樹脂の被覆層が被覆・形成される。したがって、回動範囲制限部15aにも被覆層がその成形時に一体的に形成される。また、発射杆15の先端部の左側端面に、遊技球を打球する打球部16がインサート成形時に一体成形され、さらに、発射杆15の回動範囲制限部15aの先端に、待機位置被検出部20が設けられる。待機位置被検出部20は、後述の待機位置検出器19に発射杆15の待機位置を検出させるための部分であり、発射杆15の回動時の円周方向(円軌跡)に沿って3個の孔20aを穿設して形成されている。この待機位置被検出部20は合成樹脂の被覆層によって一体成形することができる。
図3などに示すように、発射杆15のL字形本体の角部には、軸孔が穿設され、その軸孔にロータリソレノイド14の回動軸14aの先端が嵌入され、固定ナット14bにより締め付け固定される。ロータリソレノイド14は、ベース板11の中央右寄りに形成された孔から回動軸14aを突き出すように、ベース板11の裏面に固定され、その回動軸14aの先端に発射杆15が固定ナット14bにより締め付け固定される。このとき、発射杆15の打球部16は、図6に示すように、発射杆15が正面視で略6時位置から略8時位置に向けて時計方向に回動したとき、球保持部12bの遊技球を打撃して、これを所定の発射方向に発射させるように形成されている。
さらに、発射杆15の反打球部側の片部には、回動範囲を制限するための回動範囲制限部15aが形成され、この回動範囲制限部15aに対向して、第1ストッパ部17、第2ストッパ部18が当接可能にベース板11上に固定されている。
第1ストッパ部17は、図6のように、発射杆15が発射側に回動されて打球を行なった際、回動範囲制限部15aが当接する位置のベース板11上に固定される。また、第2ストッパ部18は、発射杆15が打球動作後に待機位置に戻った際、回動範囲制限部15aが当接する位置のベース板11上に固定される。第1ストッパ部17及び第2ストッパ部18における、発射杆15の回動範囲制限部15aが当接する部分には、合成樹脂製の取付部に対してゴム状弾性を有する高分子エラストマーなどのゴム状弾性体を取り付け、ストッパ部に発射杆15が当った際の衝撃を緩衝させるようにしている。
さらに、発射杆15の回動範囲制限部15aが第2ストッパ部18に当接して待機位置に戻ったとき、その位置(待機位置被検出部20)を検出するために、待機位置検出器19が第2ストッパ部18の近傍に取り付けられている。待機位置検出器19は、受光素子と投光素子を対向して配置した透過式の光電検出器を用いて形成され、その検出空間内に待機位置被検出部20が進入したとき、投光素子の光軸が待機位置被検出部20の各孔20aと一致するように位置調整されている。なお、待機位置被検出部20の孔20aは、光軸を透過させればよいことから、溝またはスリットとすることもできる。
待機位置検出器19は、発射杆15の末端の待機位置被検出部20が待機位置に戻る際、光電検出器の光軸が、その待機位置被検出部20の孔20aと孔20a間の非透過部の通過によって遮断され、その後、受光素子が透過光を受光したとき、検出信号(例えば低レベルから高レベルに立ち上がる信号)を出力し、その検出信号の数に応じて、待機位置を検出することになる。つまり、光電検出器の光軸が3個の孔20aを全て通過し発射杆15が正常の待機位置に戻った場合、3個の検出信号が出力され、検出信号が2個または1個と少ない場合、発射杆15が正常な位置まで戻らず、発射杆15の回動範囲が塵などの異物により狭く制限されていることとなる。
このように構成された発射装置10は、図4に示すように、遊技機の前面枠1内における遊技盤2の下側中央位置に取り付けられる。遊技盤2は、前面枠1の中央部に着脱可能に取り付けられ、遊技盤2上には中央の遊技領域を囲うように外レール3と内レール4が配設されている。なお、図面上では、遊技盤2上に打設される障害釘、各種役物、表示装置、入賞口などは省略されている。
遊技盤2の正面視において、左下側の外レール3の下端部と内レール4の間に、発射された遊技球を導入するための導入口5が形成されている。この導入口5は左端部から遊技盤2の下側の中央部、つまり斜め下方の中央部に向けて開口して形成され、発射装置10がその遊技盤2の下側の略中央位置に設置される。
発射装置10のロータリソレノイド14は、図5に示すように、発射制御回路21の出力側に接続される。発射制御回路21は、遊技者の図示しない発射レバーへの接触を検出すると共に、発射レバーの回動時の回転量(回転角)を検出し、球送り機構(図示を省略)を動作させて、受け皿より送られた遊技球を1個づつ発射装置10の球保持部12bに送ると共に、ロータリソレノイド14を発射レバーの回転角に応じたトルクで回転駆動し、遊技球の発射動作を制御するように構成されている。
また、発射制御回路21の入力側には、上記の待機位置検出器19が接続され、待機位置検出器19の光電検出器が発射杆15の待機位置被検出部20の孔20a間を検出したとき、検出信号が発射制御回路21に送られる。発射制御回路21は、例えばCPU,RAM,ROM、入出力回路などを備えたマイクロコンピュータから構成され、CPUは、予めROMに記憶されたプログラムデータにより、入力した待機位置検出器19からの検出信号に基づき、ロータリソレノイド14の駆動電流を制御するように動作する。
つまり、発射制御回路21は、発射杆15が待機位置に戻ったとき、待機位置検出器19から入力された検出信号が3個の場合、正常の待機位置に達したものと判断して、通常の電流値でロータリソレノイド14を駆動し、これに対し、検出信号が2個または1個の場合、通常の電流値より高い電流値でロータリソレノイド14を駆動するように構成される。
次に、上記構成の球発射装置の動作を、図7のフローチャートを参照して説明する。遊技者が発射レバーを操作すると、図示しない球送り機構が動作して遊技球を1個づつ発射装置10の球保持部12bに送ると共に、ロータリソレノイド14が駆動して発射杆15が、図1の待機位置から図6の発射位置に向けて正面視で時計方向に回転駆動される。
すなわち、図7のフローチャートにおいて、発射制御回路21のCPUは、遊技球の発射時、先ず、ステップ100で、駆動電流の設定値として通常値の1.0Aをセットし、ステップ110にて、その1.0Aの電流値のパルス状電流をロータリソレノイド14に供給する。これにより、ロータリソレノイド14が発射杆15を図1の時計方向に回転駆動し、発射杆15の回動により、その先端の打球部16が球保持部12bの遊技球を打撃し、遊技球は発射通路12aを通り外レール3の下端部の導入口5に向けて発射される。
発射杆15は、このような発射動作時、その回動範囲制限部15aの一側が第1ストッパ部17に当接して停止する。ロータリソレノイド14の回転駆動を行なう駆動電流は、短い時間幅のパルス状電流であって、パルス状に供給され、これによって打球部16が遊技球に向けて回動して打撃し、回動範囲制限部15aが第1ストッパ部17に当接した時点で、駆動パルス電流は消失し、回転トルクはゼロとなる。このため、発射杆15は、打撃動作後、その自重により図1、図6の反時計方向に回動し、図1の待機位置まで戻る(ステップ120)。
このとき、発射制御回路21のCPUは、ステップ130にて、パルス状電流の出力時から所定の復帰動作時間が経過したか否かを判定し、復帰動作時間が経過するまでの間、ステップ140に進み、待機位置検出器19からの検出信号に基づき、発射杆15の末端の待機位置被検出部20の孔20aが検出されたか否かを判定する。
つまり、図1に示すように、発射杆15がその自重により待機位置まで戻り、待機位置検出器19の光電検出器が光軸の遮断から透過光の検出への移行を示す検出信号を出力したとき、1個の透過光を検出したとして、次のステップ150にて、検出個数をカウントするカウンタに1を加算する。
そして、このような動作は、発射杆15の回動範囲制限部15aが第2ストッパ18に当接して、発射杆15の戻り回動が完全に停止するまで、上記ステップ120〜ステップ150が繰り返し実施され、その結果、発射杆15が正常な待機位置まで完全に戻ったとき、待機位置検出器19から3個の検出信号が出力される。
一方、第2ストッパ部18の表面に塵などの異物が付着し、或はロータリソレノイド14の内部に塵などの異物が入って、発射杆15が待機位置に完全に戻りきらない状態となった場合、待機位置被検出部20の3個の孔20aが待機位置検出器19の光軸の位置まで到達することができず、2個または1個のみの検出信号が出力され、或は1個の検出信号も出力されずに、発射杆15が停止することとなる。
発射制御回路21のCPUは、発射時から所定時間が経過して発射杆14が停止した後、ステップ160に進み、待機位置検出器19が検出した待機位置被検出部20の孔20aの数つまり検出信号の数が3個であるか否かを判定し、検出信号の数が3個であったとき、発射杆15は正常に回動動作しているとして、次に、ステップ170に進み、駆動電流の設定値として通常値の1.0Aをセットする。
一方、待機位置被検出部20の孔20aが2個検出され、検出信号が2個出力された場合、ステップ180を経て、ステップ190に進み、駆動電流の設定値として通常値より1段上の1.2Aをセットする。そして、ステップ230にて、検出信号の数をカウントするカウンタをゼロにリセットした後、再びステップ110に戻り、セットされた通常時より少し高い1.2Aの電流値のパルス状駆動電流がロータリソレノイド14に供給される。これにより、発射杆15が回転駆動され、遊技球が発射される。
したがって、第2ストッパ部18の表面に塵などの異物が付着し、或はロータリソレノイド14の内部に塵などの異物が入って、発射杆15が待機位置に完全に戻りきらない位置から、回転駆動された場合、発射杆15の回動範囲が狭く制限され、発射杆15の先端の打球部16が遊技球を打撃して発射する際の発射強度が通常より低下するが、上記のように、検出信号が2個の場合、通常時より少し高い1.2Aの電流値のパルス状駆動電流がロータリソレノイド14に供給されて発射杆15が駆動されるため、このような発射強度の低下を防止して通常の強度で遊技球を発射することができる。
一方、待機位置被検出部20の孔20aが1個だけ検出され、検出信号が1個のみ出力された場合、ステップ200を経て、ステップ210に進み、駆動電流の設定値として通常値より2段上の1.4Aをセットする。そして、ステップ230にて、検出信号の数をカウントするカウンタをゼロにリセットした後、再びステップ110に戻り、セットされた通常時より高い1.4Aの電流値のパルス状駆動電流がロータリソレノイド14に供給される。これにより、発射杆15が回転駆動され、遊技球が発射される。
また、待機位置被検出部20の孔20aが1個も検出されず、検出信号が出力されない場合、ステップ200を経て、ステップ220に進み、駆動電流の設定値として通常値より3段上の1.6Aをセットする。そして、上記と同様に、ステップ230にて、検出信号の数をカウントするカウンタをゼロにリセットした後、再びステップ110に戻り、セットされた最も高い1.6Aの電流値のパルス状駆動電流がロータリソレノイド14に供給される。これにより、発射杆15が回転駆動され、遊技球が発射される。
このように、第2ストッパ部18の表面に塵などの異物が付着し、或はロータリソレノイド14の内部に塵などの異物が入って、発射杆15が待機位置に完全に戻りきらない位置から、回転駆動された場合、発射杆15の回動範囲が狭く制限され、発射杆15の先端の打球部16が遊技球を打撃して発射する際の発射強度が通常より低下するが、上記のように、検出された検出信号の数が1個またはゼロの場合、その数に応じてより高い1.4Aまたは1.6Aの電流値のパルス状駆動電流がロータリソレノイド14に供給されて発射杆15が駆動させるため、このような発射強度の低下を防止して通常の強度で遊技球を発射することができる。
そしてこの後、上記ステップ110〜ステップ230が繰り返し実行されることから、第2ストッパ部18の表面に塵などの異物が付着し、或はロータリソレノイド14の内部に塵などの異物が入って、発射杆15が待機位置に完全に戻りきらない位置から、回転駆動される状態が継続される場合であっても、上記のように、待機位置検出器19によって検出された検出信号の数に応じて、通常時より高い電流値のパルス状駆動電流がロータリソレノイド14に供給されて発射杆15が駆動されるため、このような発射強度の低下を防止して通常の安定した強度で遊技球を発射することができる。
なお、最も高い1.6Aの駆動電流にセットされた場合などには、塵などの異物を除去した方がよいことを考慮して、警告灯を点灯させ、或は音声などで警告音を発生させることもできる。
図8〜図10は他の実施形態を示している。この例では、発射杆15の軸心位置に円板22が固定され、その円板22の一部に待機位置被検出部23が形成され、その待機位置被検出部23と対向するベース板11上に待機位置検出器24が取り付けられる。この発射装置における上記実施形態と同様な部分については、図8〜図10に上記と同じ符号を付してその説明を省略する。
図8〜図10に示すように、円板22の一部に3個の孔23aが所定の間隔をおいて円周方向に並設された位置に穿設され、そこに待機位置被検出部23が形成される。円板22は発射杆15の軸心位置の外側に、同軸上に取着される。その円板22の待機位置被検出部23に対向して、待機位置検出器24がベース板11上に取り付けられる。
待機位置検出器24は、上記と同様に、受光素子と投光素子を対向して配置した透過式の光電検出器を用いて形成され、その検出空間内に待機位置被検出部23が進入したとき、投光素子の光軸が待機位置被検出部23の各孔23aと一致するように位置調整されている。したがって、待機位置検出器24は、上記同様に、発射杆15の末端の待機位置被検出部23が待機位置に戻る際、光電検出器の光軸が、その待機位置被検出部23の孔23aと孔23a間の非透過部の通過によって遮断され、その後、受光素子が透過光を受光したとき、検出信号(例えば低レベルから高レベルに立ち上がる信号)を出力し、その検出信号の数に応じて、待機位置を検出する。
このような円板22の待機位置被検出部23の孔23aを、発射杆15の待機位置の復帰時に検出する待機位置検出器24を使用することによっても、第2ストッパ部18の表面に塵などの異物が付着し、或はロータリソレノイド14の内部に塵などの異物が入って、発射杆15が待機位置に完全に戻りきらない位置から、回転駆動される状態を検出することができる。そして、発射杆15が待機位置に完全に復帰しない状態が検出された場合には、待機位置検出器24によって検出された検出信号の数に応じて、通常時より高い電流値のパルス状駆動電流がロータリソレノイド14に供給されて発射杆15が駆動されるため、発射強度の低下を防止して通常の安定した強度で遊技球を発射することができる。
なお、本発明の球発射装置は、上記実施形態に限定されるものではなく、以下のような態様でも実施可能である。
1.上記では、発射杆の回転駆動用にロータリソレノイドを使用したが、モータを使用することもできる。
2.上記では、待機位置検出器に透過式の光電検出器を使用したが、反射式の光電検出器を使用することもでき、その場合には、孔に代えて非反射部または反射部を設けることになる。また、光電検出器に代えて磁気的に待機位置を検出する磁気検出器を使用することもでき、この場合には、待機位置被検出部に磁性体を配置することになる。
本発明の一実施形態を示す発射装置の正面図である。 同発射装置の斜視図である。 発射装置の分解斜視図である。 パチンコ遊技機の前面枠の正面図である。 ロータリソレノイドの制御系の構成図である。 (a)は発射杆の発射動作時の正面図、(b)は同斜視図である。 発射動作時の発射制御回路のフローチャートである。 (a)は他の実施形態の発射装置の正面図、(b)は同斜視図である。 (a)は同発射装置の発射動作時の正面図、(b)は同斜視図である。 同発射装置の分解斜視図である。
符号の説明
10 発射装置
13 発射レール
14 ロータリソレノイド
15 発射杆
15a 回動範囲制限部
16 打球部
17 第1ストッパ部
18 第2ストッパ部
19 待機位置検出器
20 待機位置被検出部
20a 孔
21 発射制御回路

Claims (4)

  1. 先端に打球部を設けた発射杆が回動軸に軸支され、該発射杆の発射位置と待機位置で発射杆の回動を制限するストッパ部が配設され、該発射杆の発射位置と待機位置間の往復回動動作により、先端の打球部を遊技球に打ち当て、遊技球を遊技領域に向けて発射するパチンコ遊技機の球発射装置において、
    該発射杆を待機位置から発射位置へ回転駆動する発射杆駆動手段と、該発射杆が該発射位置から該待機位置まで戻る際の該発射杆の戻り回転量の減少を検出する回転量検出手段と、該回転量検出手段が該戻り回転量の減少を検出したとき、該戻り回転量の減少量に応じて該発射杆駆動手段の駆動力を増大させるように制御する発射杆駆動制御手段と、を備えたことを特徴とするパチンコ遊技機の球発射装置。
  2. 前記発射杆駆動手段は、電磁回転駆動機構により発射杆を回転駆動するように構成され、前記発射杆駆動制御手段は、前記発射杆の戻り回転量の減少量が多くなるほど、該電磁回転駆動機構を駆動する駆動電流を増大させることを特徴とする請求項1記載のパチンコ遊技機の球発射装置。
  3. 前記回転量検出手段は、前記発射杆の一部または該発射杆に取り付けられた部分に設けられた待機位置被検出部と、該待機位置被検出部を検出する待機位置検出器と、を有して構成され、該待機位置検出器は、該発射杆が待機位置に戻ったときの該待機位置被検出部の被検出位置に応じて、戻り回転量を示す信号を出力することを特徴とする請求項1記載のパチンコ遊技機の球発射装置。
  4. 前記待機位置被検出部は、前記発射杆の一部または該発射杆に取り付けられた部分に複数の孔または溝を回転方向に並設して形成され、前記待機位置検出器は、該孔または溝の位置を光の透過または反射により検出する光電検出器を用いて形成されたことを特徴とする請求項3記載のパチンコ遊技機の球発射装置。
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