JP4302733B2 - プラズマの電磁波を生成および/または操作する装置 - Google Patents
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Description
3 プラズマ
5 ミラーデバイス
10 磁気手段
11 不均一な磁界
12 注入手段
15 噴出物
I1 第1の陽イオン
I2 第2の陽イオン
Claims (18)
- 半導体素子のリソグラフィーによる製造に用いる、プラズマからの電磁波を生成および/または操作する装置、特に、EUVリソグラフィーに用いるEUV放射線を生成および反射する装置であって、
電磁波を出射するためのプラズマ(3)を形成し、上記照射される電磁波放射を生成することおよび操作することの少なくとも一方に関連する、少なくとも一つの素子(5;12)を含む放射線システムと、
上記少なくとも1つの素子(5;12)をプラズマ(3)の電荷担体から遮蔽するための、少なくとも1つの不均一な磁界(11)を生成する磁界生成器(10)とを備え、
上記磁界生成器(10)は、上記素子(5;12)の上に、かつ、上記不均一な磁界(11)の磁界強度勾配が、上記プラズマ(3)から上記素子(5;12)に対してほぼ向かうように配置されていることを特徴とする装置。 - プラズマ(3)の電荷担体は、不均一な磁界(11)で反射されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 磁界(11)の磁力線が、ほぼ素子(5;12)からプラズマ(3)への方向に方向付けされていることを特徴とする請求項1または2に記載の装置。
- 磁界生成器(10)は、少なくとも1つの永久磁石、少なくとも1つのコイル、磁極片を有する少なくとも1つのコイル、および/または、少なくとも1つの電磁石を備えていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の装置。
- 少なくとも1つの磁界生成器(10)は、超伝導磁石を備えていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の装置。
- 少なくとも1つの磁界生成器(10)は、上記少なくとも一つの素子(5;12)としての、プラズマを形成する物質用の注入手段(12)に沿って配置されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の装置。
- 少なくとも1つの磁界生成器(10)は、プラズマを形成する物質の入力方向に対して同心円状に配置されていることを特徴とする請求項6に記載の装置。
- 少なくとも1つの磁界生成器(10)は、注入手段(12)の中心を外して備えられていることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の装置。
- プラズマ(3)によって放射されたEUV放射線をとらえる少なくとも1つのミラーデバイス(5)を上記少なくとも一つの素子(5;12)として備えていることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の装置。
- ミラーデバイス(5)は、少なくとも部分的に多層になっていることを特徴とする請求項9に記載の装置。
- 少なくとも1つの磁界生成器(10)は、プラズマ(3)から離れた側のミラーデバイス(5)の側面上に形成されていることを特徴とする請求項9または10に記載の装置。
- 複数の磁界生成器(10)は、プラズマ(3)から離れた、放射線源(1)のミラーデバイス(5)の側面に形成されており、少なくとも部分的にミラーデバイス(5)の形状に適合していることを特徴とする請求項11に記載の装置。
- ミラーデバイス(5)の形状に少なくとも部分的に適合した磁界生成器(10)は、ミラーデバイス(5)に対してわずかに間隔をあけて配置されていることを特徴とする請求項12に記載の装置。
- ミラーデバイス(5)の形状に少なくとも部分的に適合した磁界生成器(10)は、ミラーデバイス(5)との適合部の全ての部分において同じ磁気極性を有していることを特徴とする請求項12または13に記載の装置。
- 磁界生成器(10)は、刻々と変化する、特にパルス状の不均一な磁界(11)を生成する制御装置を備えていることを特徴とする請求項1〜14のいずれか1項に記載の装置。
- レーザー手段、および/または、気体、固体、または、液体の対象手段(特に、キセノン、リチウム、金、および/または、すず)からプラズマ(3)を生成する放電手段、を備えていることを特徴とする請求項1〜15のいずれか1項に記載の装置。
- レーザー手段は、パルス状のNd:YAGレーザーとして形成されていることを特徴とする請求項16に記載の装置。
- 上記少なくとも一つの素子(5;12)としての注入手段(12)の射出開口部の前で、特にノズルの前で、プラズマ(3)が形成されることを特徴とする請求項1〜17のいずれか1項に記載の装置。
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