JP4302693B2 - Lid opening / closing mechanism of vacuum processing chamber and lid opening / closing method - Google Patents
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Description
本発明は、真空処理技術に関し、特に、液晶表示装置(LCD)やプラズマディスプレイ等の平面ディスプレイ用のガラス基板等の基板搬送工程や、前記ガラス基板に対してドライエッチング等の真空処理を施す真空処理装置等に適用して有効な技術に関する。 The present invention relates to a vacuum processing technique, and in particular, a substrate transfer process such as a glass substrate for a flat display such as a liquid crystal display (LCD) or a plasma display, or a vacuum for performing vacuum processing such as dry etching on the glass substrate. The present invention relates to a technique effective when applied to a processing apparatus or the like.
例えば、LCD製造プロセスにおいては、被処理基板であるLCDガラス基板に対して、ドライエッチングやスパッタリング、CVD(化学気相成長)等の真空処理が多用されている。 For example, in an LCD manufacturing process, vacuum processing such as dry etching, sputtering, and CVD (chemical vapor deposition) is frequently used for an LCD glass substrate that is a substrate to be processed.
このような真空処理を行う真空処理装置においては、真空に保持されて上記処理を行う真空処理室に隣接して真空予備室が設けられており、被処理基板の搬入出時に真空処理室内の雰囲気変動を極力小さくする構造となっている。 In a vacuum processing apparatus that performs such vacuum processing, a vacuum preliminary chamber is provided adjacent to a vacuum processing chamber that is held in a vacuum and performs the above processing, and the atmosphere in the vacuum processing chamber when a substrate to be processed is carried in and out. It has a structure that minimizes fluctuations.
具体的には、例えば、大気側に配置されたカセットとエッチング処理等を行う真空処理室との間に、真空予備室として、大気側と真空側とのインターフェイスの役割を有するロードロック室が設けられている。 Specifically, for example, a load lock chamber having a role of an interface between the atmosphere side and the vacuum side is provided as a vacuum preparatory chamber between a cassette disposed on the atmosphere side and a vacuum processing chamber for performing an etching process or the like. It has been.
このロードロック室では、被処理基板の通過の都度、大気開放と真空処理室と同等の高真空までの排気とが繰り返されるため、容積を可能な限り小さくして高真空までの排気所要時間を短縮することがスループットの向上の上で重要な要素となる。 In this load lock chamber, every time the substrate to be processed passes, the release of the atmosphere and evacuation up to the high vacuum equivalent to the vacuum processing chamber are repeated. Shortening is an important factor in improving throughput.
このため、ロードロック室内での基板搬送に用いられる基板搬送装置としては、設置場所であるロードロック室の容積を抑制することが可能なものが求められており、このような基板搬送装置として、例えば、特許文献1に示すような複数のアームを連結させた多関節タイプのものが知られている。また、退避状態で極力小さくしつつ大きな搬送距離を確保可能なものとして、複数のアームが直動して伸縮する多段伸縮式アームを有する基板搬送装置も検討されている。 For this reason, as a substrate transport device used for transporting a substrate in the load lock chamber, a device capable of suppressing the volume of the load lock chamber as an installation place is required. As such a substrate transport device, For example, a multi-joint type in which a plurality of arms are connected as shown in Patent Document 1 is known. Further, as a device capable of securing a large transport distance while minimizing as much as possible in the retracted state, a substrate transport apparatus having a multistage telescopic arm in which a plurality of arms linearly move to expand and contract has been studied.
ところで、近時、LCDガラス基板に対する大型化の要求が強く、一辺が1mを超え2mに届くような巨大なものが出現するに至っている。このような巨大な基板を、例えば真空処理室とロードロック室との間で水平方向に搬送する場合、特許文献1に記載されたような多関節タイプのものでは基板搬送装置が設置されるロードロック室を極力小さくしつつ、搬送のために十分なストロークを確保することが困難である。また、上述のような多段伸縮式アームでは、必要な搬送距離を確保するためにアームの積層段数を増加させざるを得ず、このため搬送装置の高さ寸法が大きくなってしまい、この結果、搬送装置が設置されるロードロック室の高さ寸法が高くなり、やはりロードロック室の小型化には限界がある。 By the way, recently, there is a strong demand for enlargement of the LCD glass substrate, and a huge one that exceeds 1 m and reaches 2 m has appeared. For example, when transferring such a huge substrate in a horizontal direction between a vacuum processing chamber and a load lock chamber, in a multi-joint type as described in Patent Document 1, a load on which a substrate transfer device is installed. It is difficult to secure a sufficient stroke for conveyance while making the lock chamber as small as possible. Further, in the multi-stage telescopic arm as described above, the number of stacking stages of the arm has to be increased in order to ensure a necessary transport distance, and thus the height dimension of the transport device becomes large. The height of the load lock chamber in which the transfer device is installed is increased, and there is a limit to downsizing the load lock chamber.
一方、真空処理装置の保守管理では、真空処理室の基体部から蓋体を取り外して内部の清掃を行う場合がある。複数の真空処理室(真空処理装置)を配列したマルチチャンバシステムの場合、個々の真空処理室が蓋体の開閉機構を備えた構成とすると、個々の装置の設置床面積が増大し、効率が悪い。特に、大型の基板を処理する真空処理装置では、単体の装置自体も大型化しているため、個々の真空処理室毎に蓋体の開閉機構を備えたのではマルチチャンバシステムでの上記床面積の増大は一層著しいものとなる。
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであって、複数の真空処理室(真空処理装置)に共通の蓋体開閉機構および蓋体開閉方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to provide a lid opening / closing mechanism and a lid opening / closing method common to a plurality of vacuum processing chambers (vacuum processing apparatuses).
上記課題を解決するために、本発明は、基体部と該基体部に着脱自在に設けられた蓋体とを有する真空処理室において前記蓋体を開閉する真空処理室の蓋体開閉機構であって、移動可能な台車と、前記台車上に備えられ、前記蓋体を支持する一対の支持部と、前記台車上に備えられ、前記一対の支持部を前記真空処理室と前記台車上との間で移動させるための一対のレールと、を具備し、前記蓋体を前記一対の支持部で支持した状態で前記台車上に移動させ、前記蓋体を前記台車上で前記一対の支持部を結ぶ線を中心に回転させるように構成されていることを特徴とする、真空処理室の蓋体開閉機構を提供する。
In order to solve the above problems, the present invention provides a lid opening / closing mechanism for a vacuum processing chamber that opens and closes the lid in a vacuum processing chamber having a base and a lid that is detachably provided on the base. A movable carriage, a pair of support parts provided on the carriage and supporting the lid, and provided on the carriage, the pair of support parts being provided between the vacuum processing chamber and the carriage. A pair of rails for moving between, and the lid body is moved on the carriage in a state of being supported by the pair of support parts, and the lid body is moved on the carriage. A lid opening / closing mechanism for a vacuum processing chamber is provided, which is configured to rotate around a connecting line .
また、本発明は、基体部と該基体部に着脱自在に設けられた蓋体とを有する真空処理室において前記蓋体を開閉する真空処理室の蓋体開閉方法であって、移動可能な台車を備え、複数の前記真空処理室に共通して設けられた請求項1に記載の蓋体開閉機構を、目的とする前記真空処理室に正対する位置に移動させ、次に、前記蓋体開閉機構により前記蓋体を上方に浮上させて前記基体部から離間させ、次に、前記蓋体を前記台車上に移動させて前記基体部を開放することを特徴とする、真空処理室の蓋体開閉方法を提供する。
The present invention is also a lid opening / closing method of a vacuum processing chamber for opening and closing the lid in a vacuum processing chamber having a base and a lid that is detachably provided on the base, and is a movable carriage. The lid opening / closing mechanism according to claim 1 provided in common to the plurality of vacuum processing chambers is moved to a position facing the target vacuum processing chamber, and then the lid opening / closing is performed. A lid for a vacuum processing chamber, wherein the lid is floated upward by a mechanism so as to be separated from the base, and then the base is opened by moving the lid onto the carriage. Provide an opening and closing method.
上記のように複数の真空処理室(真空処理装置)に対して共通の蓋体開閉機構を設けて、保守管理作業等における蓋体の開閉を行うことで、装置全体の省スペース化と蓋体開閉機構の共用によるコストダウンを実現することができる。 As described above, a common lid opening / closing mechanism is provided for a plurality of vacuum processing chambers (vacuum processing apparatuses), and the lid is opened and closed in maintenance management work, etc., thereby saving the space of the entire apparatus and the lid. Cost reduction can be realized by sharing the opening and closing mechanism.
以下、添付図面を参照して本発明の実施の形態について具体的に説明する。
[第1の実施形態]
図1は本発明の第1の実施形態に係る基板搬送装置が適用される真空処理装置の外観を示す斜視図、図2は本発明の第1の実施形態に係る基板搬送装置が適用される真空処理装置における真空予備室および真空処理室を示す断面図、図3は本発明の第1の実施形態に係る基板搬送装置を示す斜視図、図4および図5はその断面図である。
Embodiments of the present invention will be specifically described below with reference to the accompanying drawings.
[First Embodiment]
FIG. 1 is a perspective view showing an appearance of a vacuum processing apparatus to which a substrate transfer apparatus according to a first embodiment of the present invention is applied, and FIG. 2 is an application of the substrate transfer apparatus according to the first embodiment of the present invention. FIG. 3 is a perspective view showing a substrate transfer apparatus according to the first embodiment of the present invention, and FIGS. 4 and 5 are sectional views thereof.
図1に示すように、真空処理装置100は、真空雰囲気で透明のLCDガラス基板等の基板Gに対してプラズマエッチング処理や薄膜形成処理等の所望の真空処理を行う真空処理室10と、この真空処理室10に連設され、真空予備室として機能するロードロック室20と、真空処理室10とロードロック室20との間に設けられたゲートバルブ30と、ロードロック室20と外部の大気側搬送機構50とを隔てるゲートバルブ40を備えている。
As shown in FIG. 1, a
図1および図2に示すように、真空処理室10には、排気制御弁61を介して真空ポンプ60が接続されており、基板Gの所定の真空処理に必要な真空度までの真空排気が可能になっている。また、真空処理室10には、ガス制御弁11を介して処理ガス供給部12が接続されており、真空処理室10の内部に、所定の圧の処理ガス雰囲気を形成することが可能になっている。真空処理室10の内部には処理ステージ13が設けられ、処理対象の基板Gが載置される。
As shown in FIGS. 1 and 2, a
真空処理室10は、前記処理ステージ13が設けられた基体部14と、この基体部14に着脱自在に設けられ、当該真空処理室10内に反応エネルギを供給する図示しない電極や前記処理ガス雰囲気を形成するための図示しないガスノズル等が設けられた蓋体15で構成されている。蓋体15には、後述のような保守作業時に外部から当該蓋体15を基体部14から取り外すために、対称位置に一対の支持軸16が設けられている。
The
ロードロック室20には、排気制御弁62を介して真空ポンプ60が接続されており、真空処理室10と同等の真空度まで真空排気が可能になっている。
A
ゲートバルブ30には、真空処理室10とロードロック室20とを連通させ、後述の基板搬送装置70に支持された基板Gが通過可能な大きさの開口部31と、この開口部31の開閉動作を行う弁体32が設けられている。
The
ゲートバルブ40には、ロードロック室20と外部の大気側とを連通させ、前記大気側搬送機構50に支持された基板Gが通過可能な大きさの開口部41と、この開口部41の開閉動作を行う弁体42が設けられている。
The
ロードロック室20の内部には、基板搬送装置70が設けられている。図3〜図5に示すように、この基板搬送装置70は、ロードロック室20の底部に固定されたベースプレート71と、このベースプレート71の上に多段に積層された複数のスライドプレート72、スライドプレート73および基板Gが載置される基板支持台としてのスライドプレート74を備えている。
Inside the
ベースプレート71には、直上のスライドプレート72を支持して水平方向に案内する一対のスライドレール71aが設けられている。ベースプレート71には、一対のスライドレール71aの間の非対称な位置に当該スライドレール71aに平行な開口部71bが高さ方向に貫通して形成されている。この開口部71bの内部には、その軸を水平にして両端に設けられた一対のプーリ71cと、このプーリ71cに張架されたベルト71dが収容されている。ベルト71dの上部スパン(プーリ71c間の上側のベルト経路)は、固定部材71eを介して上側のスライドプレート72の底部に固定されている。
The
プーリ71cは、駆動ベルト70bを介して駆動モータ70aに接続されている。そして、この駆動モータ70aにてプーリ71cに張架されたベルト71dを往復動させることで、固定部材71eを介して上側のスライドプレート72に水平方向の推力を与えてスライドレール71aの上を往復動させることが可能になっている。
The
スライドプレート72には、直上のスライドプレート73を支持して水平方向に案内する一対のスライドレール72aが設けられている。スライドプレート72には、一対のスライドレール72aの間で、下側のベースプレート71の開口部71bと重なりあわない位置に当該スライドレール72aに平行な開口部72bが高さ方向に貫通して形成されている。この開口部72bの内部には、その軸を水平にして両端に設けられた一対のプーリ72cと、このプーリ72cに張架されたベルト72dが収容されている。
The
ベルト72dの上部スパンは、固定部材72eを介して上側のスライドプレート73の底部に固定され、ベルト72dの下部スパン(プーリ72c間の下側のベルト経路)は、固定部材71fを介して下側のベースプレート71に固定されている。
The upper span of the
スライドプレート73の両側面には、直上のスライドプレート74を支持して水平方向に案内する一対のスライドレール73aが設けられている。スライドプレート73には、一対のスライドレール73aの間で、下側のスライドプレート72の開口部72bと重なりあわない位置に、当該スライドレール73aに平行な開口部73bが高さ方向に貫通して形成されている。この開口部73bの内部には、その軸を水平にして両端に設けられた一対のプーリ73cと、このプーリ73cに張架されたベルト73dが収容されている。
On both sides of the
ベルト73dの上部スパンは、固定部材73eを介して上側のスライドプレート74の底部に固定され、ベルト73dの下部スパンは、固定部材72fを介して下側のスライドプレート72に固定されている。
The upper span of the
最上部のスライドプレート74には、下側のスライドプレート73の両側面に設けられた前記一対のスライドレール73aに嵌合する一対のスライドベアリング部74bが設けられている。このように、スライドプレート73の両側面にスライドレール73aを配置することで、スライドレール73aの高さ寸法分だけ基板搬送装置70の全体の高さを低くできる。また、スライドプレート74には、載置される基板Gの下面を支持する略コ字形のスライドピック部74aが設けられている。
The
上述のような構成の基板搬送装置70において、図5に例示される縮退状態から、駆動モータ70aにて、ベースプレート71のプーリ71cを時計周り方向に回転させると、ベルト71dの上部スパンに固定部材71eを介して固定された上側のスライドプレート72は、図5の右方向に伸長するように移動を開始する。
In the
このとき、スライドプレート72のベルト72dは、下部スパンが下側のベースプレート71に固定されているため、当該スライドプレート72の下側のベースプレート71に対する移動とともに時計周り方向に周回し、このベルト72dの上部スパンに固定部材72eを介して固定されたスライドプレート73は、スライドプレート72の上を図5の右方向に伸長するように移動を開始する。
At this time, since the
また、スライドプレート73のベルト73dは、下部スパンが固定部材72fを介して下側のスライドプレート72に固定されているため、スライドプレート73の下側のスライドプレート72に対する移動とともに時計周り方向に周回し、このベルト73dの固定部材73eを介して固定された最上部のスライドプレート74は、スライドプレート73の上を図5の右方向に伸長するように移動する。
Further, since the
これにより、図3および図4に例示されるように、スライドプレート72〜74は、ベルト71d〜73dの各々の上部スパンに固定された固定部材71e〜73eが図3の右端まで移動する距離だけ多段に伸長する。伸長距離(搬送距離)は、スライドプレートの積層段数に比例して長くなる。
Thereby, as illustrated in FIGS. 3 and 4, the
また、図3および図4の伸長状態から、駆動モータ70aを逆転させて個々のベルト71d〜73dを反時計周りに回転させることで、図5に例示される縮退状態となる。
Further, from the extended state of FIGS. 3 and 4, the
そして、基板搬送装置70は、上述のようにスライドプレート72〜74を水平方向に多段に伸長させて、スライドプレート74に支持された基板Gを真空処理室10内に持ち込む搬入動作、およびスライドプレート72〜74を水平方向に多段に縮退させて、真空処理室10内でスライドプレート74上に受け取った基板Gをロードロック室20に取り出す搬出動作を行う。
Then, the
上述のように、本実施形態の基板搬送装置70では、最上段のスライドプレート74に載置された基板Gの搬送動作を行うように多段に積層されたベースプレート71およびスライドプレート72〜73に開口部71bおよび開口部72b〜73bを形成し、その内部に、プーリ71c,プーリ72c〜73cおよびベルト71d,ベルト72d〜73dを収容する構成であるため、スライドプレートの積層段数を増やす場合でも、高さ方向ではスライドプレートの厚さだけの増加となり、プーリやベルト等の駆動機構の厚さによる高さ方向の寸法増加が生じない。
As described above, in the
すなわち、高さ方向の寸法を増大させることなく、スライドプレートの積層段数の増加による搬送距離の増加を達成できる。 That is, it is possible to achieve an increase in the conveyance distance due to an increase in the number of stacked slide plates without increasing the height direction dimension.
また、開口部71bおよび開口部72b〜73bの位置を高さ方向に互いに干渉しない位置に交互に配置することで、より高さ寸法を削減できる。
Further, the height dimension can be further reduced by alternately arranging the positions of the
ロードロック室20の内部において、基板搬送装置70を挟む位置には、バッファプレート81およびバッファプレート82と、このバッファプレート81および82を昇降させる図示しないバッファ昇降機構を備えた基板受け渡し機構80が設けられており、基板搬送装置70のスライドプレート74に載置された基板Gの周辺部をバッファプレート81および82にて下方から支持して、当該スライドプレート74から基板Gを浮上させる動作、および大気側搬送機構50から受け取った基板Gをスライドプレート74上に降下させる動作、等の基板受け渡し動作を行う。
Inside the
大気側搬送機構50は、旋回および伸縮が可能な搬送アーム51を備えており、複数の基板Gが収納された基板ラック55から、搬送アーム51から未処理の1枚の基板Gを取り出し、ゲートバルブ40を介してロードロック室20内の基板搬送装置70に渡す動作、および処理済の基板Gを、ロードロック室20内の基板搬送装置70から受け取ってゲートバルブ40を介して大気側に取り出し、基板ラック55に収納する動作を行う。
The atmosphere-
次に、本実施形態の動作について説明する。まず、基板搬送装置70は、ロードロック室20内に縮退状態とされ、ゲートバルブ30の弁体32が閉じられ、真空処理室10の内部は真空ポンプ60にて必要な真空度に排気される。
Next, the operation of this embodiment will be described. First, the
大気側搬送機構50は、搬送アーム51にて、未処理の基板Gを基板ラック55から取り出し、ゲートバルブ40の開口部41を通じてロードロック室20内に搬入し、基板搬送装置70のスライドプレート74の直上部に位置決めされる。
The atmosphere-
次に、バッファプレート81および82が上昇して基板Gの周辺部を両側から持ち上げることで、基板Gは搬送アーム51から浮上する。
Next, the
その後、搬送アーム51を大気側に引き抜いてロードロック室20の外部に退避させた後、バッファプレート81および82を下降させることで、基板Gは、基板搬送装置70のスライドプレート74(スライドピック部74a)上に移行して載置される。
Thereafter, the
そして、ゲートバルブ40の弁体42を閉じてロードロック室20を密閉状態にし、排気制御弁62を開いて真空処理室10と同程度の真空度まで排気した後、ゲートバルブ30の弁体32を開く。この時、ロードロック室20は真空排気されているため、真空処理室10の真空度や雰囲気が損なわれることはない。そして、ゲートバルブ30の開口部31を通じて、図3のように基板搬送装置70のスライドプレート72〜74を真空処理室10の内部に向けて多段に伸長させ、基板Gを真空処理室10の処理ステージ13の直上部に搬入し、真空処理室10内に設けられた図示しない突き上げピン等を介して処理ステージ13上に載置した後に、スライドプレート72〜74はロードロック室20内に縮退して退避し、ゲートバルブ30の弁体32を閉じて、真空処理室10を密閉する。
Then, the
その後、密閉された真空処理室10内に、処理ガス供給部12から必要なガスを導入して処理ガス雰囲気を形成し、基板Gに必要な処理を施す。
Thereafter, necessary gas is introduced from the processing gas supply unit 12 into the sealed
所定時間経過後、処理ガスの導入を停止して、ゲートバルブ30の弁体32を開き、ロードロック室20内の基板搬送装置70のスライドプレート72〜74を真空処理室10の内部に多段に伸長させ、上述の搬入動作と逆の手順で、真空処理室10の処理済の基板Gを処理ステージ13上からスライドプレート74上に移行させてスライドプレート72〜74を縮退させ、ロードロック室20内に搬出した後、ゲートバルブ30の弁体32を閉じ、真空処理室10を密閉する。
After the elapse of a predetermined time, the introduction of the processing gas is stopped, the
その後、ロードロック室20の排気を停止するとともに、バッファプレート81,82を上昇させて、基板Gの周辺部を支持して浮上させ、N2等を導入して大気に近い圧力としたのち、ゲートバルブ40の弁体42を開いて、大気側搬送機構50の搬送アーム51を浮上した基板Gの下側に挿入し、その状態でバッファプレート81,82を降下させることで、基板Gを搬送アーム51に移行させる。
Thereafter, the exhaust of the
そして、搬送アーム51を大気側に引き出すことで、処理済の基板Gをロードロック室20から大気側に搬出し、基板ラック55に収納する。
Then, by pulling the
ここで、以上のようなロードロック室20を経由した基板Gの真空処理室10に対する出し入れに際して、基板Gのサイズが大型化すると、ロードロック室20を経由した水平方向の搬送距離も増大し、基板搬送装置70のスライドプレートの積層段数を増やして搬送距離を延ばす必要があるが、本実施形態のような基板搬送装置70は、上述のようにスライドプレートの積層段数を増やして搬送距離を延ばしても高さ方向の寸法増加が抑制できる。
Here, when the size of the substrate G is increased when the substrate G is taken in and out of the
この結果、基板搬送装置70が収容されるロードロック室20の容積を小さくして、当該ロードロック室20の真空排気の所要時間を短縮でき、ロードロック室20の排気所要時間を含めた基板Gの真空処理工程におけるスループットが向上する。
As a result, the volume of the
特に、1辺が1mを超えるような大型の基板Gを収容するロードロック室20では水平断面積が大きくなり、ロードロック室20の高さ寸法の削減は、容積の削減効果が大きく、排気所要時間の短縮に大きく寄与する。
In particular, in the
次に、上述した真空処理装置100の保守管理技術の一例について説明する。真空処理装置100の保守管理では、真空処理室10の基体部14から蓋体15を取り外して内部の清掃を行う場合がある。
Next, an example of the maintenance management technique of the
一方、基板Gの処理工程では、図6に例示されるように複数の真空処理室10(真空処理装置100)を配列したマルチチャンバシステムとする場合がある。その場合、個々の真空処理室10が蓋体15の開閉機構を備えた構成とすると、個々の装置の設置床面積が増大し、効率が悪い。特に、大型の基板Gを処理する真空処理装置100では単体の装置自体も大型化しているため、個々の真空処理室毎に開閉機構を備えたのではマルチチャンバシステムでの上記床面積の増大は一層著しいものとなる。
On the other hand, the substrate G processing step may be a multi-chamber system in which a plurality of vacuum processing chambers 10 (vacuum processing apparatuses 100) are arranged as illustrated in FIG. In that case, if each
そこで、本実施形態では、図6に例示されるように、複数の真空処理室10(真空処理装置100)に共通の蓋体開閉機構200を備える構成とする。
Therefore, in the present embodiment, as illustrated in FIG. 6, the lid opening /
すなわち、蓋体開閉機構200は、車輪201aを備えて自走することで複数の真空処理装置100間を移動可能な台車201と、台車201上に設けられ、垂直状態と水平状態との間で屈曲可能な可動レール202aを備えた一対のレール202と、このレール202上を移動する可動軸受け部203を備えている。
That is, the lid opening /
そして、この共通の蓋体開閉機構200を用いて、図7のようにして、保守管理作業における個々の真空処理室10の蓋体15の開閉を行う。
Then, using the common lid opening /
すなわち、まず、目的の真空処理室10に正対する位置に蓋体開閉機構200を移動させ、図7の(a)に例示されるように、当該真空処理室10を挟むように可動レール202aを水平な位置に回動させ、一対の可動軸受け部203を蓋体15の一対の支持軸16に嵌合させ、蓋体15を鉛直上方に浮上させて基体部14から離間させる。
That is, first, the lid opening /
その後、図7の(b)に例示されるように、蓋体15を支持した可動軸受け部203を台車201上に移動させる。これにより、基体部14の上部が開放され、基体部14内の処理ステージ13の清掃等の保守作業が可能になる。
Thereafter, as illustrated in FIG. 7B, the
また、図7の(c)に例示されるように、台車201上において、蓋体15を、その開口部が外向きになるように90度回転させ、その位置でロックすることにより、蓋体15の内部の簡易な保守点検が可能になる。
Further, as illustrated in FIG. 7C, on the
さらに、図7の(d)に例示されるように、蓋体15を、その開口部が上向きになるように180度回転させ、その位置でロックすることにより、蓋体15の内部に存在する図示しないガス供給ヘッド等の重量物の吊り上げクレーン等による着脱作業が可能になる。
Further, as illustrated in FIG. 7D, the
また、上述と逆の手順で基体部14に対する蓋体15の装着が可能である。また、装着後は、蓋体開閉機構200は、可動アーム200aを垂直に畳んだ図6のような待機状態となる。
In addition, the
このように、複数の真空処理室10(真空処理装置100)に対して共通の蓋体開閉機構200を設けて、保守管理作業等における蓋体15の開閉を行うことで、装置全体の省スペース化と蓋体開閉機構の共用によるコストダウンを実現することができる。
As described above, the common lid opening /
[第2の実施形態]
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。
図8は本発明の第2の実施形態に係る基板搬送装置を示す垂直断面図、図9は本発明の第2の実施形態に係る基板搬送装置の縮退状態を示す図、図10は発明の第2の実施形態に係る基板搬送装置の伸長状態を示す図である。なお、図9および図10はいずれも(a)は側面図、(b)は平面図である。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment of the present invention will be described.
FIG. 8 is a vertical sectional view showing a substrate transfer apparatus according to the second embodiment of the present invention, FIG. 9 is a view showing a degenerated state of the substrate transfer apparatus according to the second embodiment of the present invention, and FIG. It is a figure which shows the expansion | extension state of the board | substrate conveyance apparatus which concerns on 2nd Embodiment. 9 and 10, both (a) is a side view and (b) is a plan view.
この基板搬送装置170は、第1の実施形態と同様、真空処理装置100のロードロック室20に設けられる。基板搬送装置170は、ロードロック室20の底部に設けられたベース部171と、ベース部171にスライド可能に設けられたスライドアーム172と、このスライドアーム172の上にスライド可能に設けられた基板を支持する支持台としてのスライドピック173と、ベース部171の下方に設けられスライドアーム172およびスライドピック173を駆動させる駆動源であるモータ174と、モータ174の駆動力をスライドアーム172およびスライドピック173に伝達する駆動伝達機構180とを備えている。
The
スライドアーム172は、鉛直に配置され間隔をおいて互いに対向して設けられた一対の側板172a,172bを有しており、その一方の端部は、所定長に亘って下部が切り欠かれた状態の突出部172c,172dとなっている。そして、これら側板172a,172bの間に駆動伝達機構180を有している。また、図8に示すように、これら一対の側板172a,172bの外面には、スライドアーム172に対してスライドピック173がスライドするためのガイド機構175およびベース部171に対してスライドアーム172がスライドするためのガイド機構176が設けられている。ガイド機構175は、側板172a,172bに取り付けられたガイドレール175aと、スライドピック173に取り付けられガイドレール175aにスライド可能に嵌合されたガイド部材175bとを有している。また、ガイド機構176は、側板172a,172bに取り付けられたガイドレール176aと、ベース部171に取り付けられガイドレール176aにスライド可能に嵌合されたガイド部材176bとを有している。
The
駆動伝達機構180は、スライドアーム駆動部181と、スライドピック駆動部182とからなる。スライドアーム駆動部181は、モータ174に直結し、水平に回転する駆動プーリ183と、駆動プーリ183に巻き掛けられ、スライドアーム172の側板172aに固定部材184a,184bにより固定された駆動ベルト184と、プーリ183の両側に設けられた一対のアイドラー185a,185bとを有している。スライドピック駆動部182は、一対の側板172a,172bの突出部172c,172dと反対側の端部近傍を連結するように設けられた軸186に固定されたプーリ187と、一対の側板172a,172bの中央部を連結するように設けられた軸188に固定されたプーリ189と、これらプーリ187および189に張架された第1ベルト190と、第1ベルト190の下部スパンをベース部171に係止する第1係止部材191と、前記軸187にプーリ187と隣接するように固定されプーリ187よりも大径のプーリ192と、一対の側板172a,172bの突出部172c,172d側の端部近傍を連結するように設けられた軸193に固定されたプーリ194と、これらプーリ192,194に張架された第2ベルト195と、第2ベルト195の上部スパンをスライドピックに係止する第2係止部材196とを有している。また、第2ベルト195を突出部172c,172dに沿って導くようにプーリ197,198が配置されている。
The
このように構成される基板搬送装置170においては、駆動源であるモータ174を駆動させることにより駆動伝達機構180を介してスライドアーム172およびスライドピック173を駆動させる。その際に、まずモータ174の回転駆動がスライドアーム駆動部182の駆動プーリ183を介して駆動ベルト184に伝達され、駆動ベルト184はスライドアーム172の側板172aに固定されているのでこれによりスライドアーム172が図9の状態から矢印Aに示す方向にスライドする。
In the
このとき、スライドピック駆動部182の第1係止部材191が第1ベルト190の下部スパンをベース部171に係止しているので、スライドアーム172のスライド移動にともなって第1ベルト190が矢印A方向に移動し、プーリ187が回転する。プーリ187が回転すると、それに固定された軸186を介して軸186に固定されたプーリ192が回転するとともに第2ベルト195が矢印A方向へ移動し、これにともなって、第2係止部材196により第2ベルト195の上部スパンに係止されたスライドピック173が矢印A方向に移動し、図9の縮退状態から図10の伸長状態となる。
At this time, since the
この場合に、プーリ187とプーリ192とは、同じ軸186に固定されているから、これらの径比によって第1ベルト190と第2ベルト195の移動距離の比、つまり、スライドアーム172とスライドピック173の移動距離の比が決まる。ここでは、プーリ192がプーリ187よりも大径であるから、その分、スライドアーム172の移動距離よりもスライドピック173の移動距離が長くなる。例えば、プーリ192の径がプーリ187の径のn倍とすると、図10の(a),(b)に示すように、スライドアーム172が距離L移動した際に、スライドピック173はスライドアーム172上をn×Lの距離だけ移動し、スライドピック173の合計移動距離は(n×L)+Lとなる。この場合のnは1より大きい任意の値に設定することが可能である。
In this case, since the
このようにスライドアーム172のスライドストロークに比べ、その上のスライドピック173のスライドストロークを長くとることができるため、ロードロック室20に収容されていることからスライドアーム172のストロークに制約があっても、プーリ187とプーリ192の径比を適宜設定することにより、スライドピック173のストロークを十分にとることができる。このため、一つのスライドアーム172と一つのスライドピック173だけで、ロードロック室20と真空処理室10との間の基板搬送に十分な距離のスライドストロークを確保することができ、第1の実施形態のような同じ大きさのプーリを用いた直動式基板搬送装置に比べてスライドアームの積層数を減らすことが可能となり、その分基板搬送装置の高さ寸法を小さくすることができる。
Thus, since the slide stroke of the
この結果、基板搬送装置170が収容されるロードロック室20の容積を小さくして、当該ロードロック室20の真空排気の所要時間を短縮することができ、ロードロック室20の排気所要時間を含めた基板Gの真空処理工程におけるスループットが向上する。特に、1辺が1mを超えるような大型の基板Gを収容するロードロック室20では水平断面積が大きくなり、ロードロック室20の高さ寸法の削減は、容積の削減効果が大きく、排気所要時間の短縮に大きく寄与する。
As a result, the volume of the
なお、さらなる搬送距離を確保する観点からスライドアームを2段以上積層して設けてもよい。図11、スライドアーム172の上にもう一つのスライドアーム172′を設けた例を示す。この場合に、スライドアーム172′としては、スライドアーム172と同様の構造のものを用いてもよいし、第1の実施形態のスライドプレート72,73と同様の構造であってもよい。スライドアーム172′をスライドアーム172と同様の構成とすることにより、著しく大きい搬送距離を確保することが可能となる。
Note that two or more slide arms may be stacked from the viewpoint of securing a further transport distance. FIG. 11 shows an example in which another
また、本実施形態の基板搬送装置は、スライドピックを2段に設けてそれぞれ独立して基板の出し入れを可能なタイプのものに適用することも可能である。図12はそのようなタイプの基板搬送装置を示す垂直断面図である。この基板搬送装置300は、下段搬送機構部270と上段搬送機構部270′とを有している。
Further, the substrate transfer apparatus of the present embodiment can be applied to a type in which slide picks are provided in two stages and the substrates can be taken in and out independently. FIG. 12 is a vertical sectional view showing such a type of substrate transfer apparatus. The
下段搬送機構部270は、ベース部271と、ベース部271にスライド可能に設けられたスライドアーム272と、このスライドアーム272の上にスライド可能に設けられた基板を支持する支持台としてのスライドピック273と、ベース部271の下方に設けられスライドアーム272およびスライドピック273を駆動させる駆動源であるモータ274と、モータ274の駆動力をスライドアーム272およびスライドピック273に伝達する駆動伝達機構280とを備えている。また、一対の側板272a,272bの外面には、スライドアーム272に対してスライドピック273がスライドするためのガイド機構275およびベース部271に対してスライドアーム272がスライドするためのガイド機構276が設けられている。
The
上段搬送機構部270′は、ベース部271′と、ベース部271′にスライド可能に設けられたスライドアーム272′と、このスライドアーム272′の上にスライド可能に設けられた基板を支持する支持台としてのスライドピック273′と、下段搬送機構部270のベース部271の下方に設けられスライドアーム272′およびスライドピック273′を駆動させる駆動源であるモータ274′と、駆動力をスライドアーム272′およびピック273′に伝達する第1駆動伝達機構280′と、モータ274′の駆動力を第1駆動伝達機構280′に伝達する第2駆動伝達機構290とを備えている。また、一対の側板272a′,272b′の外面には、スライドアーム272′に対してスライドピック273′がスライドするためのガイド機構275′およびベース部271′に対してスライドアーム272′がスライドするためのガイド機構276′が設けられている。上段搬送機構部270′のベース部271′は、下段搬送機構部270の上に設けられたスペーサ301の上に設けられている。
The
上記下段搬送機構部270の駆動伝達機構280および上段搬送機構部270′の第1駆動伝達機構280′は、その構成要素としてそれぞれ駆動プーリ283,283′しか描いていないが、実際には上記駆動伝達機構180と全く同様の構成を有しているため、他の部材は省略している。
The
一方、上記上段搬送機構部270′の第2駆動伝達機構290は、下段搬送機構部270のベース部271内に設けられモータ274′に直結する駆動プーリ291と、ベース部271内の端部に設けられたプーリ292とプーリ291および292に張架されたベルト293と、上段搬送機構部270′のベース部271′内のプーリ292に対応する位置に設けられ、プーリ292と軸294によって連結固定されたプーリ295と、ベース部271′内の駆動プーリ283′直下に設けられたプーリ296と、プーリ295および296に張架されたベルト297とを有している。そして、第2駆動伝達機構290においては、モータ274′の駆動が駆動プーリ291に伝達され、さらにベルト293を介してプーリ292に伝達される。プーリ292の回転駆動は軸294を介してプーリ295に伝達され、さらにベルト297を介してプーリ296に伝達され、このプーリ296の回転駆動が第1駆動伝達機構280′の駆動プーリ283′に伝達される。
On the other hand, the second
このような基板搬送装置300においては、モータ274を駆動させることにより駆動伝達機構280を介して下段搬送機構部270のスライドアーム272およびスライドピック273をスライドさせることにより上段搬送機構部270での基板搬送が達成され、モータ274′を駆動させることにより第2駆動伝達機構290および第1駆動伝達機構280′を介して上段搬送機構部270′のスライドアーム272′およびスライドピック273′をスライドさせることにより下段搬送機構部270とは全く独立に上段搬送機構部270′での基板搬送が達成される。
In such a
このように2段の搬送機構部を設けて2つのスライドピックにより全く独立に基板を搬送することができるので、基板搬送のスループットを著しく高めることができる。また、ベース部271に回転機能を持たせることで、真空予備室に複数の処理室が接続されたマルチチャンバータイプの処理装置にも適用可能である。さらに、本実施形態の基板搬送装置は、スライドアームの段数を少なくして高さを低く構成しているので、このように2段の搬送機構部を設けても高さ寸法を比較的小さく維持することができる。
As described above, since the two-stage transport mechanism portion is provided and the substrates can be transported completely independently by the two slide picks, the substrate transport throughput can be significantly increased. Further, by providing the
なお、本発明は上記実施の形態に限定されることなく本発明の思想の範囲内で種々変形可能である。たとえば、第1の実施形態のスライド駆動機構および第2の実施形態の駆動伝達機構としてベルトを用いたが、これに限らず、チェーン、リンク、ギヤなど他の伝達手段を用いてもよい。 It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment and can be variously modified within the scope of the idea of the present invention. For example, although a belt is used as the slide drive mechanism of the first embodiment and the drive transmission mechanism of the second embodiment, the present invention is not limited to this, and other transmission means such as a chain, a link, and a gear may be used.
また、基板として、LCDやプラズマディスプレイ等の平面ディスプレイ基板を用いた場合について示したが、その他の大型基板等にも適用することができる。 Further, although the case where a flat display substrate such as an LCD or a plasma display is used as the substrate has been described, the present invention can also be applied to other large substrates.
以上説明したように、本発明の基板搬送装置は、真空処理装置における真空処理室に隣接する真空予備室に設置される基板搬送装置として好適である。 As described above, the substrate transfer apparatus of the present invention is suitable as a substrate transfer apparatus installed in a vacuum preliminary chamber adjacent to a vacuum processing chamber in a vacuum processing apparatus.
10……真空処理室
14……基体部
15……蓋体
16……支持軸
20……ロードロック室
30,40……ゲートバルブ
50……大気側搬送機構
60……真空ポンプ
70,170,300……基板搬送装置
70a……駆動モータ
70b……駆動ベルト
71……ベースプレート
71a,72a〜73a……スライドレール
71b……開口部
71c,72c〜73c……プーリ
71d,72d〜73d……ベルト
71e……固定部材
72,73,74……スライドプレート
72b〜73b……開口部
72e〜73e,72f〜73f……固定部材
74a……スライドピック部
74b……スライドベアリング部
100……真空処理装置
171,271,271′……ベース部
172,272,272′……スライドアーム
173,273,273′……スライドピック
174,273,274′……モータ
180,280……駆動伝達機構
181……スライドアーム駆動部
182……スライドピック駆動部
183……駆動プーリ
184……駆動ベルト
186……軸
187……プーリ(第1プーリ)
190……第1ベルト
191……第1係止部材
192……プーリ(第2プーリ)
195……第2ベルト
196……第2係止部材
270……下段搬送機構部
270′……上段搬送機構部
280′……第1駆動伝達機構
290……第2駆動伝達機構
G……基板
DESCRIPTION OF
190...
195...
Claims (8)
移動可能な台車と、
前記台車上に備えられ、前記蓋体を支持する一対の支持部と、
前記台車上に備えられ、前記一対の支持部を前記真空処理室と前記台車上との間で移動させるための一対のレールと、を具備し、
前記蓋体を前記一対の支持部で支持した状態で前記台車上に移動させ、
前記蓋体を前記台車上で前記一対の支持部を結ぶ線を中心に回転させるように構成されていることを特徴とする、真空処理室の蓋体開閉機構。 A vacuum processing chamber lid opening / closing mechanism for opening and closing the lid in a vacuum processing chamber having a base and a lid detachably provided on the base,
A movable carriage,
A pair of support portions provided on the carriage and supporting the lid;
A pair of rails provided on the carriage for moving the pair of support portions between the vacuum processing chamber and the carriage;
Moving the lid on the carriage in a state of being supported by the pair of support portions;
A lid opening / closing mechanism for a vacuum processing chamber, wherein the lid is configured to rotate on a line connecting the pair of support portions on the carriage .
移動可能な台車を備え、複数の前記真空処理室に共通して設けられた請求項1に記載の蓋体開閉機構を、目的とする前記真空処理室に正対する位置に移動させ、
次に、前記蓋体開閉機構により前記蓋体を上方に浮上させて前記基体部から離間させ、
次に、前記蓋体を前記台車上に移動させて前記基体部を開放することを特徴とする、真空処理室の蓋体開閉方法。 A lid opening / closing method of a vacuum processing chamber for opening / closing the lid in a vacuum processing chamber having a base portion and a lid provided detachably on the base portion,
The lid opening / closing mechanism according to claim 1, comprising a movable carriage and provided in common to the plurality of vacuum processing chambers, is moved to a position facing the target vacuum processing chamber,
Next, the lid body is lifted upward by the lid opening / closing mechanism and separated from the base portion,
Next, the lid body opening / closing method of the vacuum processing chamber, wherein the lid body is moved onto the carriage to open the base portion.
8. The method of opening and closing a lid in a vacuum processing chamber according to claim 7 , wherein the lid is locked at a position rotated by 90 degrees or a position rotated by 180 degrees .
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