JP2014072366A - Deposition processing apparatus - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a deposition processing apparatus both reduced in size and improved in productivity.SOLUTION: A deposition processing apparatus comprises: a deposition processing chamber 14 arranged adjacent to a load lock chamber; deposition means, a roller conveyer for conveying a substrate S in a horizontal direction in the deposition processing chamber 14; a two-stage conveyer 26; and elevation means 28. The two-stage conveyer 26 conveys the substrate S in a horizontal direction in the deposition processing chamber 14, and is arranged between the load lock chamber and the roller conveyer, and has a lower side conveyer 30A and an upper side conveyer 30B arranged so as to be vertically overlapped with each other. The elevation means 28 elevates and lowers the two-stage conveyer 26 between a lowered position at which the upper conveyer 30B is flush with the roller conveyer, and an elevated position at which the lower conveyer 30A is flush with the roller conveyer.

Description

本発明は、成膜処理装置に関する。   The present invention relates to a film forming apparatus.

特許文献1は、ロードロックチャンバと、成膜処理チャンバと、反転チャンバと、これらのチャンバ内を移動可能な基板保持具とを備える、インターバック型の基板処理装置を開示している。この基板処理装置においては、基板を保持する基板保持具は、ロードロックチャンバに搬入されると、往路搬送ラインに沿って、ロードロックチャンバ、成膜処理チャンバ、及び反転チャンバの順に移動する。基板保持具が反転チャンバに到達すると、その向きが反転される。その後、基板保持具は、往路搬送ラインとは異なる復路搬送ラインに沿って、反転チャンバ、成膜処理チャンバ、及びロードロックチャンバの順に移動した後、装置外へと搬出される。   Patent Document 1 discloses an inter-back type substrate processing apparatus including a load lock chamber, a film formation processing chamber, an inversion chamber, and a substrate holder that can move in these chambers. In this substrate processing apparatus, when a substrate holder for holding a substrate is carried into the load lock chamber, it moves in the order of the load lock chamber, the film formation processing chamber, and the inversion chamber along the forward transfer line. When the substrate holder reaches the reversing chamber, its orientation is reversed. Thereafter, the substrate holder is moved out of the apparatus after moving in the order of the reversing chamber, the film formation processing chamber, and the load lock chamber along a return path transfer line different from the forward path transfer line.

特開2002−203885号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-203885

インターバック型の基板処理装置によれば、往路及び復路で基板に成膜を行えるので、一方の側から基板を搬入して他方の側から基板を搬出する必要があるインライン型の基板処理装置と比較して、成膜処理チャンバの長さを短くできるという利点がある。しかしながら、特許文献1に記載の基板処理装置では、基板保持具が往路と復路とで異なる経路を移動しなければならないので、反転チャンバを要し、成膜処理チャンバが大型化してしまう。そのため、コストの増加を招いたり、成膜処理チャンバ内を真空排気するために時間を要して生産性の低下を招いていた。   According to the inter-back type substrate processing apparatus, since the film can be formed on the substrate in the forward path and the return path, it is necessary to carry in the substrate from one side and to carry out the substrate from the other side. In comparison, there is an advantage that the length of the film forming process chamber can be shortened. However, in the substrate processing apparatus described in Patent Document 1, since the substrate holder must move on different paths for the forward path and the return path, an inversion chamber is required, and the film formation processing chamber becomes large. For this reason, the cost is increased, and it takes time to evacuate the inside of the film forming chamber, resulting in a decrease in productivity.

往路搬送ライン及び復路搬送ラインを共有化して、同じライン上を基板保持具が往復移動するように構成することも考えられる。この場合、反転チャンバが不要となり、成膜処理チャンバの小型化を図ることができるが、基板を一枚処理するたびに成膜処理チャンバを大気開放して、処理済みの基板を取り出す必要がある。そのため、成膜処理チャンバ内の真空排気を繰り返して行わなければならないので、やはり生産性の低下を招いていた。   It is also conceivable that the forward transfer line and the return transfer line are shared so that the substrate holder reciprocates on the same line. In this case, the inversion chamber is not necessary, and the film formation processing chamber can be reduced in size. However, it is necessary to open the film formation processing chamber to the atmosphere and take out the processed substrate every time one substrate is processed. . For this reason, the evacuation inside the film forming chamber has to be repeated, resulting in a decrease in productivity.

そこで、本発明の目的は、小型化と生産性の向上との両立を図ることが可能な成膜処理装置を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a film forming apparatus capable of achieving both reduction in size and improvement in productivity.

本発明の一側面に係る成膜処理装置は、ロードロックチャンバに隣接して配置される成膜処理チャンバと、成膜処理チャンバ内の成膜対象物の表面に成膜を行わせる成膜手段と、成膜処理チャンバ内において成膜対象物を水平方向に搬送すると共に前記成膜手段に対向するように配置された第1のコンベアと、成膜処理チャンバ内において成膜対象物を水平方向に搬送すると共に、第1のコンベアとロードロックチャンバとの間に配置された第2のコンベアであって、上下方向に重なるように並べられた上側コンベア及び下側コンベアを有する第2のコンベアと、上側コンベアの高さが第1のコンベアの高さに合わせられた下降位置と、下側コンベアの高さが第1のコンベアの高さに合わせられた上昇位置とに、第2のコンベアを昇降させる昇降手段とを備える。   A film forming apparatus according to one aspect of the present invention includes a film forming process chamber disposed adjacent to a load lock chamber, and a film forming unit that forms a film on a surface of a film forming target in the film forming process chamber. A film forming object in the film forming chamber and transporting the film forming object in the horizontal direction and facing the film forming means, and a film forming object in the film forming chamber. And a second conveyor disposed between the first conveyor and the load lock chamber, the upper conveyor and the lower conveyor arranged so as to overlap in the vertical direction, The second conveyor is placed at a lowered position where the height of the upper conveyor is adjusted to the height of the first conveyor and an elevated position where the height of the lower conveyor is adjusted to the height of the first conveyor. Elevate And a descending means.

本発明の一側面に係る成膜処理装置では、上下方向に重なるように配置された上側コンベア及び下側コンベアを有する第2のコンベアが、昇降手段の動作により、上側コンベアの高さが第1のコンベアの高さに合わせられた下降位置と、下側コンベアの高さが第1のコンベアの高さに合わせられた上昇位置とに、昇降される。従って、例えば、成膜前の成膜対象物が上側コンベアに載置された状態で昇降手段が第2のコンベアを上昇位置に移動させることで、第1のコンベアから下側コンベアへと成膜後の成膜対象物の移動を行える。さらに、昇降手段が第2のコンベアを下降位置に移動させることで、上側コンベアから第1のコンベアへと成膜前の成膜対象物の移動を行える。その結果、第1及び第2のコンベアが水平方向に一列に並んで配置されたコンパクトな成膜処理装置を実現しつつ、成膜処理チャンバの真空状態を保持したまま連続して複数の基板を処理できる。よって、本発明の一側面によれば、成膜処理装置において、小型化と生産性の向上との両立を図ることが可能となる。   In the film forming apparatus according to one aspect of the present invention, the second conveyor having the upper conveyor and the lower conveyor arranged so as to overlap in the vertical direction has a first height of the upper conveyor by the operation of the lifting means. Are moved up and down to a lowered position matched to the height of the conveyor and a raised position where the height of the lower conveyor is matched to the height of the first conveyor. Therefore, for example, when the film formation target before film formation is placed on the upper conveyor, the lifting / lowering means moves the second conveyor to the raised position, thereby forming the film from the first conveyor to the lower conveyor. The film formation target can be moved later. Furthermore, the raising / lowering means moves the second conveyor to the lowered position, so that the film formation target before film formation can be moved from the upper conveyor to the first conveyor. As a result, while realizing a compact film forming apparatus in which the first and second conveyors are arranged in a line in the horizontal direction, a plurality of substrates can be continuously formed while maintaining the vacuum state of the film forming process chamber. It can be processed. Therefore, according to one aspect of the present invention, it is possible to achieve both reduction in size and improvement in productivity in a film forming apparatus.

上側コンベア及び下側コンベアはそれぞれ、成膜対象物を搬送するための搬送ローラと、搬送ローラが取り付けられた第1のシャフトと、第1のシャフトを回転駆動させる駆動手段とを有してもよい。この場合、上側コンベアと下側コンベアとがそれぞれ独立して駆動される。そのため、上側コンベアに載置された成膜対象物と、下側コンベアに載置された成膜対象物とを、それぞれ異なる方向に搬送することができる。   Each of the upper conveyor and the lower conveyor may include a transport roller for transporting the film formation target, a first shaft to which the transport roller is attached, and a driving unit that rotationally drives the first shaft. Good. In this case, the upper conveyor and the lower conveyor are driven independently. Therefore, the film-forming target placed on the upper conveyor and the film-forming target placed on the lower conveyor can be conveyed in different directions.

駆動手段は、成膜処理チャンバの外部に位置するモータと、成膜処理チャンバの外壁を上下方向に貫通すると共にモータに接続され、外壁に対して回転可能に取り付けられた円筒体と、軸方向に延びる凹溝又は突条が少なくとも一つ形成され、円筒体内をスライドできるように円筒体内に配置された第2のシャフトと、第2のシャフトの上端部に取り付けられた第1の歯車とを含み、第1のシャフトの端部には、第1の歯車と歯合する第2の歯車が取り付けられており、円筒体は、第2のシャフトの凹溝又は突条と係合しており、モータの回転力を第2のシャフトに伝達してもよい。この場合、第2のシャフトの凹溝又は突条と円筒体とが係合しているので、上側コンベア及び下側コンベアが昇降手段によって昇降しても、円筒体の回転に伴い第2のシャフトも回転される。そのため、上側コンベア及び下側コンベアの昇降にかかわらず、モータの駆動力を搬送ローラに伝達できる。   The driving means includes a motor located outside the film forming chamber, a cylindrical body that vertically passes through the outer wall of the film forming chamber and is connected to the motor and is rotatably attached to the outer wall, and an axial direction. A second shaft disposed in the cylindrical body so as to be slidable in the cylindrical body, and a first gear attached to the upper end of the second shaft. A second gear that meshes with the first gear is attached to the end of the first shaft, and the cylindrical body is engaged with a concave groove or protrusion of the second shaft. The torque of the motor may be transmitted to the second shaft. In this case, since the concave groove or the protrusion of the second shaft and the cylindrical body are engaged, even if the upper conveyor and the lower conveyor are moved up and down by the lifting means, the second shaft is accompanied by the rotation of the cylindrical body. Is also rotated. For this reason, the driving force of the motor can be transmitted to the transport rollers regardless of the elevation of the upper conveyor and the lower conveyor.

本発明によれば、小型化と生産性の向上との両立を図ることが可能な成膜処理装置を提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the film-forming processing apparatus which can aim at coexistence with size reduction and the improvement of productivity can be provided.

図1は、本実施形態に係る成膜処理装置を概略的に示す側面図である。FIG. 1 is a side view schematically showing a film forming apparatus according to this embodiment. 図2は、図1のII−II線断面図である。2 is a cross-sectional view taken along line II-II in FIG. 図3は、図2の昇降機構を拡大して示す図である。FIG. 3 is an enlarged view of the lifting mechanism of FIG. 図4は、図1のII−II線断面において、2段コンベアが上昇位置に位置している様子を示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a state in which the two-stage conveyor is located at the rising position in the section taken along the line II-II in FIG. 1. 図5は、成膜処理装置に基板を搬入してから搬出するまでの様子を説明するための図である。FIG. 5 is a diagram for explaining a state from when the substrate is loaded into the film forming apparatus to when it is unloaded. 図6は、成膜処理装置に基板を搬入してから搬出するまでの様子を説明するための図である。FIG. 6 is a diagram for explaining a state from when the substrate is loaded into the film forming apparatus to when it is unloaded.

本発明の実施形態について図面を参照して説明するが、以下の本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。   Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the following embodiments are exemplifications for explaining the present invention and are not intended to limit the present invention to the following contents. In the description, the same reference numerals are used for the same elements or elements having the same function, and redundant description is omitted.

[成膜処理装置の構成]
成膜処理装置10は、図1に示されるように、ロードロックチャンバ12と、ロードロックチャンバ12に隣接して配置される成膜処理チャンバ14と、制御部(図示せず)を備える。ロードロックチャンバ12は、成膜処理チャンバ14内の真空状態を保持しつつ、成膜処理チャンバ14に対して基板S(例えばガラス基板)の出し入れを行うことを目的とする。ロードロックチャンバ12は、ローダ・アンローダ(図示せず)と、成膜処理チャンバ14との間に、ゲートバルブ(真空扉)16,18を介して配置されている。ゲートバルブ16が開放又は閉鎖されることで、ロードロックチャンバ12とローダ・アンローダとの間の空間が連通又は隔離される。ゲートバルブ16が開放又は閉鎖されることで、ロードロックチャンバ12と成膜処理チャンバ14との間の空間が連通又は隔離される。
[Structure of film forming apparatus]
As shown in FIG. 1, the film forming apparatus 10 includes a load lock chamber 12, a film forming process chamber 14 disposed adjacent to the load lock chamber 12, and a controller (not shown). The purpose of the load lock chamber 12 is to load and unload the substrate S (for example, a glass substrate) with respect to the film forming chamber 14 while maintaining the vacuum state in the film forming chamber 14. The load lock chamber 12 is disposed between a loader / unloader (not shown) and the film forming process chamber 14 via gate valves (vacuum doors) 16 and 18. When the gate valve 16 is opened or closed, the space between the load lock chamber 12 and the loader / unloader is communicated or isolated. By opening or closing the gate valve 16, the space between the load lock chamber 12 and the film forming process chamber 14 is communicated or isolated.

ロードロックチャンバ12の内部には、ローラコンベア20が設けられている。ローラコンベア20は、複数の搬送ローラと、各搬送ローラを回転駆動するための動力源とで構成されている。搬送ローラの回転方向に応じて、ローダ・アンローダから成膜処理チャンバへ(図1において左から右へ)、又は成膜処理チャンバからローダ・アンローダへ(図1において右から左)と、搬送ローラ上に載置された基板Sが水平方向(X方向)に沿って搬送される。   Inside the load lock chamber 12, a roller conveyor 20 is provided. The roller conveyor 20 includes a plurality of transport rollers and a power source for rotationally driving each transport roller. Depending on the rotation direction of the transport roller, the load roller / unloader from the film forming chamber (from left to right in FIG. 1), or from the film forming chamber to the loader / unloader (from right to left in FIG. 1), the transport roller The substrate S placed thereon is transported along the horizontal direction (X direction).

成膜処理チャンバ14は、成膜手段22と、図示しない真空ポンプと、ローラコンベア24a,24bと、二段コンベア26と、昇降手段28とを有する。成膜手段22は、成膜処理チャンバ14に位置する基板Sの表面に薄膜を成膜するためのものであり、例えばスパッタリング装置や化学蒸着(CVD)装置などが用いられる。真空ポンプは、成膜処理チャンバ14に接続されている。ゲートバルブ16又はゲートバルブ18が閉鎖された状態で真空ポンプが動作することで、成膜処理チャンバ14内の気体が外部に排出され、成膜処理チャンバ14内が真空状態(例えば0.001Pa以下)に維持される。   The film forming chamber 14 includes a film forming means 22, a vacuum pump (not shown), roller conveyors 24a and 24b, a two-stage conveyor 26, and an elevating means 28. The film forming means 22 is for forming a thin film on the surface of the substrate S located in the film forming processing chamber 14, and for example, a sputtering apparatus or a chemical vapor deposition (CVD) apparatus is used. The vacuum pump is connected to the film forming chamber 14. By operating the vacuum pump while the gate valve 16 or the gate valve 18 is closed, the gas in the film formation chamber 14 is discharged to the outside, and the inside of the film formation chamber 14 is in a vacuum state (for example, 0.001 Pa or less). ) Is maintained.

ローラコンベア24a,24b及び二段コンベア9は、成膜処理チャンバ14内に配置されており、ゲートバルブ18に近い側から、二段コンベア26、ローラコンベア24a、ローラコンベア24bの順で水平方向に一列に並んでいる。具体的には、ローラコンベア24aは、二段コンベア26とローラコンベア24bとの間であって、成膜手段22と対向する位置に配置されている。二段コンベア26は、ローラコンベア24aとロードロックチャンバ12(ゲートバルブ18)との間に配置されている。   The roller conveyors 24a and 24b and the two-stage conveyor 9 are arranged in the film forming processing chamber 14, and from the side close to the gate valve 18, the two-stage conveyor 26, the roller conveyor 24a, and the roller conveyor 24b are arranged in the horizontal direction in this order. It is in a line. Specifically, the roller conveyor 24 a is disposed between the two-stage conveyor 26 and the roller conveyor 24 b and at a position facing the film forming unit 22. The two-stage conveyor 26 is disposed between the roller conveyor 24a and the load lock chamber 12 (gate valve 18).

ローラコンベア24a,24bは、ローラコンベア20と同様に、複数の搬送ローラと、各搬送ローラを回転駆動するための動力源とで構成されている。搬送ローラの回転方向に応じて、ゲートバルブ18から離れる側へ(図1において左から右へ)、又はゲートバルブ18に向かう側へ(図1において右から左へ)と、搬送ローラ上に載置された基板Sが水平方向(X方向)に沿って搬送される。   As with the roller conveyor 20, the roller conveyors 24a and 24b are composed of a plurality of transport rollers and a power source for rotationally driving the transport rollers. Depending on the direction of rotation of the transport roller, it is placed on the transport roller either away from the gate valve 18 (from left to right in FIG. 1) or toward the gate valve 18 (from right to left in FIG. 1). The placed substrate S is transported along the horizontal direction (X direction).

二段コンベア26は、図1〜図3に示されるように、ベース部32と、上下方向(Z方向)に重なるように並べられた下側コンベア30A及び上側コンベア30Bとを有する。ベース部32は、下側コンベア30A及び上側コンベア30Bを支持するためのものであり、底板32aと、底板32aの側端部に取り付けられた一対の側板32bと、外方に向けて水平方向(Y方向)に延びるように側板32bに取り付けられた補助板32cとで構成されている。   As shown in FIGS. 1 to 3, the two-stage conveyor 26 includes a base portion 32, and a lower conveyor 30 </ b> A and an upper conveyor 30 </ b> B arranged so as to overlap in the vertical direction (Z direction). The base portion 32 is for supporting the lower conveyor 30A and the upper conveyor 30B, and includes a bottom plate 32a, a pair of side plates 32b attached to the side ends of the bottom plate 32a, and a horizontal direction ( And an auxiliary plate 32c attached to the side plate 32b so as to extend in the Y direction).

下側コンベア30Aは、下側ローラコンベア部34Aと、駆動手段36Aとを有する。下側ローラコンベア部34Aは、ベアリングB1を介して一対の側板32bに回転可能に取り付けられた4つのシャフト38Aと、各シャフト38Aの両端部にそれぞれ固定された一対の搬送ローラ40Aと、各シャフト38Aの一端に固定された傘歯車42Aとを含む。複数のシャフト38Aは、図1に示されるように、水平方向(X方向)に沿って並んでいる。そのため、本実施形態では、X方向において搬送ローラ40Aが2列並んでおり、これらの搬送ローラ40A上に載置された基板Sが水平方向(X方向)に搬送される。   The lower conveyor 30A includes a lower roller conveyor portion 34A and driving means 36A. The lower roller conveyor portion 34A includes four shafts 38A rotatably attached to a pair of side plates 32b via bearings B1, a pair of conveying rollers 40A fixed to both ends of each shaft 38A, and each shaft. And a bevel gear 42A fixed to one end of 38A. The plurality of shafts 38A are arranged along the horizontal direction (X direction) as shown in FIG. Therefore, in the present embodiment, two rows of transport rollers 40A are arranged in the X direction, and the substrate S placed on the transport rollers 40A is transported in the horizontal direction (X direction).

駆動手段36Aは、図2及び図3に示されるように、成膜処理チャンバ14の外部に配置されたモータ44Aと、鉛直方向(Z方向)に沿って延びるシャフト46Aを下端部に有する円筒状のケース48Aと、ボールスプライン50Aと、スプラインシャフト52Aとを含む。モータ44Aの軸は、カップリングCAを介してシャフト46Aに接続されており、モータ44Aの回転力がケース48Aに伝達される。   As shown in FIGS. 2 and 3, the driving unit 36 </ b> A has a cylindrical shape having a motor 44 </ b> A disposed outside the film forming chamber 14 and a shaft 46 </ b> A extending in the vertical direction (Z direction) at the lower end. 48A, a ball spline 50A, and a spline shaft 52A. The shaft of the motor 44A is connected to the shaft 46A via the coupling CA, and the rotational force of the motor 44A is transmitted to the case 48A.

ケース48Aは、成膜処理チャンバ14の外壁に形成された貫通孔14aに挿通されると共に、鉛直方向(Z方向)に沿って延びている。ケース48Aは、複数のベアリングB2を介して成膜処理チャンバ14の外壁に回転可能に取り付けられている。ケース48Aと、成膜処理チャンバ14の外壁の貫通孔14aとの間には、シール部材54Aが配置されている。シール部材54Aにより、ケース48Aの回転が阻害されることなく、成膜処理チャンバ14内の真空状態が維持される。シール部材54Aとしては、成膜処理チャンバ14の内外を隔離できるものであればよく、例えばオイルシール、磁気シール、ウィルソンシールなどを利用できる。   The case 48A is inserted through a through hole 14a formed in the outer wall of the film forming chamber 14, and extends along the vertical direction (Z direction). The case 48A is rotatably attached to the outer wall of the film forming chamber 14 via a plurality of bearings B2. A seal member 54 </ b> A is disposed between the case 48 </ b> A and the through hole 14 a on the outer wall of the film forming chamber 14. The seal member 54A maintains the vacuum state in the film forming process chamber 14 without inhibiting the rotation of the case 48A. As the seal member 54A, any member that can isolate the inside and the outside of the film forming chamber 14 can be used. For example, an oil seal, a magnetic seal, a Wilson seal, or the like can be used.

ボールスプライン50Aは、円筒状の本体部56Aと、本体部内に保持された複数のボール部材58Aとを含む。本体部56Aは、ケース48A内に挿嵌され、ケース48Aに固定されている。複数のボール部材58Aは、本体部の軸方向に沿って並ぶように配列されて一群をなしている。本実施形態においては、一対のボール部材群が、互いに対向するように本体部56A内に配置されている。ボール部材58Aのうち少なくとも一部は、その表面が本体部56Aの内面から露出し且つ内側に向けて突出している。   Ball spline 50A includes a cylindrical main body portion 56A and a plurality of ball members 58A held in the main body portion. The main body 56A is inserted into the case 48A and fixed to the case 48A. The plurality of ball members 58A are arranged in a line along the axial direction of the main body to form a group. In the present embodiment, the pair of ball member groups are disposed in the main body portion 56A so as to face each other. At least a part of the ball member 58A has its surface exposed from the inner surface of the main body portion 56A and protruding inward.

スプラインシャフト52Aは、円柱状を呈しており、軸方向に延びる一対の凹溝60Aが表面に形成されている。凹溝60Aには、本体部56Aの内面から内側に向けて突出しているボール部材58Aが係合されている。そのため、スプラインシャフト52Aは、ボールスプライン50Aとの関係において、回転はできないものの、凹溝60Aがボール部材58Aの表面を滑りながら自身の軸方向(Z方向)に沿って摺動可能である。ただし、ボールスプライン50Aはケース48Aに固定されているので、ケース48Aが回転すると、本体部56A、ボール部材58A、凹溝60Aの順に回転力が伝達し、スプラインシャフト52Aが回転する。すなわち、スプラインシャフト52Aは、成膜処理チャンバ14の外壁との関係において、回転可能となっている。   The spline shaft 52A has a cylindrical shape, and a pair of concave grooves 60A extending in the axial direction is formed on the surface. A ball member 58A that protrudes inward from the inner surface of the main body portion 56A is engaged with the concave groove 60A. Therefore, although the spline shaft 52A cannot rotate in relation to the ball spline 50A, the concave groove 60A can slide along its own axial direction (Z direction) while sliding on the surface of the ball member 58A. However, since the ball spline 50A is fixed to the case 48A, when the case 48A rotates, the rotational force is transmitted in the order of the main body 56A, the ball member 58A, and the recessed groove 60A, and the spline shaft 52A rotates. That is, the spline shaft 52 </ b> A is rotatable in relation to the outer wall of the film forming process chamber 14.

スプラインシャフト52Aの上端部は、ベアリングB4を介して補助板32cに回転可能に取り付けられている。スプラインシャフト52Aの上端には、傘歯車62Aが固定されている。傘歯車62Aは、図1〜図3に示されるように、4つのシャフト38Aのうち最もローラコンベア24a寄りに位置するシャフト38Aの傘歯車42A(以下、このシャフト及び傘歯車を「シャフト38A」「傘歯車42A」とそれぞれ称し、他の3つのシャフト及び傘歯車を「シャフト38A」「傘歯車42A」とそれぞれ称する。)と歯合している。そのため、スプラインシャフト52Aが回転すると、その回転力が、傘歯車62A、傘歯車42A及びシャフト38Aを介して搬送ローラ40A(以下、この搬送ローラを「搬送ローラ40A」と称し、他の3つのシャフト38Aに固定されている搬送ローラを「搬送ローラ40A」と称する。)に伝達される。ただし、このままでは他の3つのシャフト38Aが回転しない。 The upper end portion of the spline shaft 52A is rotatably attached to the auxiliary plate 32c via a bearing B4. A bevel gear 62A is fixed to the upper end of the spline shaft 52A. As shown in FIGS. 1 to 3, the bevel gear 62 </ b> A is a bevel gear 42 </ b> A of the shaft 38 </ b> A located closest to the roller conveyor 24 a among the four shafts 38 </ b> A (hereinafter, this shaft and bevel gear are referred to as “shaft 38 </ b> A 1 ”). They are called “bevel gears 42A 1 ” and the other three shafts and bevel gears are respectively meshed with “shafts 38A 2 ” and “bevel gears 42A 2 ”. Therefore, when the spline shaft 52A is rotated, its rotational force is, the bevel gear 62A, the bevel gear 42A 1 and the transport roller 40A through the shaft 38A 1 (hereinafter, the conveyance roller is referred to as "conveyance rollers 40A 1 ', the other the conveying rollers are fixed to three shafts 38A 2 is referred to as "conveyance rollers 40A 2".) it is transmitted to. However, the other three shafts 38A 2 does not rotate in this state.

そこで、二段コンベア26は、図1〜図3に示されるように、動力伝達手段64Aをさらに備える。動力伝達手段64Aは、水平方向(X方向)に沿って延びると共に回転可能にベース部32に支持されたシャフト64Aと、シャフト64Aに固定された4つの傘歯車64Aとを含む。各傘歯車64Aは、各傘歯車42Aとそれぞれ歯合している。従って、スプラインシャフト52Aが回転すると、その回転力が傘歯車62A、傘歯車42A及び傘歯車42Aに歯合している傘歯車64Aの順に伝達され、シャフト64Aが回転する。シャフト64Aの回転に伴い他の3つの傘歯車64Aが回転すると、これら3つの傘歯車64Aと歯合している傘歯車42A及びシャフト38Aを介して、回転力が搬送ローラ40Aに伝達される。 Therefore, the two-stage conveyor 26 further includes power transmission means 64A as shown in FIGS. Power transmission means 64A includes a shaft 64A 1 which is rotatably supported by the base portion 32 extends along the horizontal direction (X direction), the four fixed to the shaft 64A 1 and bevel gear 64A 2. Each bevel gear 64A 2 are respectively the bevel gear 42A meshes. Accordingly, when the spline shaft 52A is rotated, the rotational force is transmitted in the order of the bevel gear 64A 2 are meshed bevel gears 62A, the bevel gear 42A 1 and bevel gears 42A 1, shaft 64A 1 is rotated. When the other three bevel gears 64A 2 in accordance with rotation of the shaft 64A 1 is rotated via the bevel gears 42A 2 and the shaft 38A 2 are combined these three bevel gears 64A 2 and the teeth, the rotational force conveying rollers 40A 2 is transmitted.

上側コンベア30Bも、下側コンベア30Aと同様に構成されている。具体的には、上側コンベア30Bは、下側ローラコンベア部34Aと重なるように下側ローラコンベア部34Aの上方に位置する上側ローラコンベア部34Bと、駆動手段36B(図1参照)とを有する。上側ローラコンベア部34Bは、ベアリングB3を介して一対の側板32bに回転可能に取り付けられた4つのシャフト38Bと、各シャフト38Bの両端部にそれぞれ固定された一対の搬送ローラ40Bと、各シャフト38Bの一端に固定された傘歯車42Bとを含む。複数のシャフト38Bは、図1に示されるように、複数のシャフト38Aの上方において水平方向(X方向)に沿って並んでいる。そのため、本実施形態では、X方向において搬送ローラ40Bが2列並んでおり、これらの搬送ローラ40B上に載置された基板Sが水平方向(X方向)に搬送される。   The upper conveyor 30B is configured similarly to the lower conveyor 30A. Specifically, the upper conveyor 30B includes an upper roller conveyor portion 34B positioned above the lower roller conveyor portion 34A so as to overlap the lower roller conveyor portion 34A, and a driving unit 36B (see FIG. 1). The upper roller conveyor portion 34B includes four shafts 38B rotatably attached to a pair of side plates 32b via bearings B3, a pair of conveying rollers 40B fixed to both ends of each shaft 38B, and each shaft 38B. And a bevel gear 42B fixed to one end of the. As shown in FIG. 1, the plurality of shafts 38B are arranged along the horizontal direction (X direction) above the plurality of shafts 38A. Therefore, in the present embodiment, two rows of transport rollers 40B are arranged in the X direction, and the substrate S placed on these transport rollers 40B is transported in the horizontal direction (X direction).

駆動手段36Bは、図示していないが、成膜処理チャンバ14の外部に配置されたモータ44Bと、鉛直方向(Z方向)に沿って延びるシャフト46Bを下端部に有する円筒状のケース48Bと、ボールスプライン50Bと、スプラインシャフト52Bとを含む。モータ44Bの軸は、カップリングCBを介してシャフト46Bに接続されており、モータ44Bの回転力がケース48Bに伝達される。   Although not shown, the driving unit 36B includes a motor 44B disposed outside the film forming chamber 14, a cylindrical case 48B having a shaft 46B extending along the vertical direction (Z direction) at the lower end, A ball spline 50B and a spline shaft 52B are included. The shaft of the motor 44B is connected to the shaft 46B via the coupling CB, and the rotational force of the motor 44B is transmitted to the case 48B.

ケース48Bは、成膜処理チャンバ14の外壁に形成された貫通孔に挿通されると共に、鉛直方向(Z方向)に沿って延びている。ケース48Bは、複数のベアリングを介して成膜処理チャンバ14の外壁に回転可能に取り付けられている。ケース48Bと、成膜処理チャンバ14の外壁の貫通孔との間には、シール部材54Bが配置されている。シール部材54Bにより、ケース48Bの回転が阻害されることなく、成膜処理チャンバ14内の真空状態が維持される。シール部材54Bとしては、成膜処理チャンバ14の内外を隔離できるものであればよく、例えばオイルシール、磁気シール、ウィルソンシールなどを利用できる。   The case 48B is inserted through a through hole formed in the outer wall of the film forming chamber 14 and extends along the vertical direction (Z direction). The case 48B is rotatably attached to the outer wall of the film forming chamber 14 via a plurality of bearings. A seal member 54B is disposed between the case 48B and the through hole in the outer wall of the film forming chamber 14. The seal member 54B maintains the vacuum state in the film forming process chamber 14 without hindering the rotation of the case 48B. As the seal member 54B, any member can be used as long as it can isolate the inside and outside of the film forming process chamber 14, and for example, an oil seal, a magnetic seal, a Wilson seal, or the like can be used.

ボールスプライン50Bは、円筒状の本体部56Bと、本体部内に保持された複数のボール部材58Bとを含む。本体部56Bは、ケース48B内に挿嵌され、ケース48Bに固定されている。複数のボール部材58Bは、本体部の軸方向に沿って並ぶように配列されて一群をなしている。本実施形態においては、一対のボール部材群が、互いに対向するように本体部56B内に配置されている。ボール部材58Bのうち少なくとも一部は、その表面が本体部56Bの内面から露出し且つ内側に向けて突出している。   The ball spline 50B includes a cylindrical main body portion 56B and a plurality of ball members 58B held in the main body portion. The main body 56B is inserted into the case 48B and fixed to the case 48B. The plurality of ball members 58B are arranged in a line along the axial direction of the main body portion to form a group. In the present embodiment, the pair of ball member groups are disposed in the main body portion 56B so as to face each other. At least a part of the ball member 58B has a surface exposed from the inner surface of the main body portion 56B and protruding inward.

スプラインシャフト52Bは、円柱状を呈しており、軸方向に延びる一対の凹溝60Bが表面に形成されている。凹溝60Bには、本体部56Bの内面から内側に向けて突出しているボール部材58Bが係合されている。そのため、スプラインシャフト52Bは、ボールスプライン50Bとの関係において、回転はできないものの、凹溝60Bがボール部材58Bの表面を滑りながら自身の軸方向(Z方向)に沿って摺動可能である。ただし、ボールスプライン50Bはケース48Bに固定されているので、ケース48Bが回転すると、本体部56B、ボール部材58B、凹溝60Bの順に回転力が伝達し、スプラインシャフト52Bが回転する。すなわち、スプラインシャフト52Bは、成膜処理チャンバ14の外壁との関係において、回転可能となっている。   The spline shaft 52B has a columnar shape, and a pair of concave grooves 60B extending in the axial direction are formed on the surface. A ball member 58B that protrudes inward from the inner surface of the main body portion 56B is engaged with the concave groove 60B. Therefore, although the spline shaft 52B cannot rotate in relation to the ball spline 50B, the concave groove 60B can slide along its own axial direction (Z direction) while sliding on the surface of the ball member 58B. However, since the ball spline 50B is fixed to the case 48B, when the case 48B rotates, the rotational force is transmitted in the order of the main body 56B, the ball member 58B, and the concave groove 60B, and the spline shaft 52B rotates. That is, the spline shaft 52 </ b> B is rotatable in relation to the outer wall of the film forming process chamber 14.

スプラインシャフト52Bの上端部は、ベアリングを介して補助板32cに回転可能に取り付けられている。スプラインシャフト52Bの上端には、傘歯車62Bが固定されている。傘歯車62Bは、図1〜図3に示されるように、4つのシャフト38Bのうち最もゲートバルブ18寄りに位置するシャフト38Bの傘歯車42B(以下、このシャフト及び傘歯車を「シャフト38B」「傘歯車42B」とそれぞれ称し、他の3つのシャフト及び傘歯車を「シャフト38B」「傘歯車42B」とそれぞれ称する。)と歯合している。そのため、スプラインシャフト52Bが回転すると、その回転力が、傘歯車62B、傘歯車42B及びシャフト38Bを介して搬送ローラ40B(以下、この搬送ローラを「搬送ローラ40B」と称し、他の3つのシャフト38Bに固定されている搬送ローラを「搬送ローラ40B」と称する。)に伝達される。ただし、このままでは他の3つのシャフト38Bが回転しない。 The upper end portion of the spline shaft 52B is rotatably attached to the auxiliary plate 32c via a bearing. A bevel gear 62B is fixed to the upper end of the spline shaft 52B. As shown in FIGS. 1 to 3, the bevel gear 62 </ b> B is a bevel gear 42 </ b> B of the shaft 38 </ b> B located closest to the gate valve 18 among the four shafts 38 </ b> B (hereinafter, this shaft and bevel gear are referred to as “shaft 38 </ b> B 1 ”). These are called “bevel gear 42B 1 ” and the other three shafts and bevel gears are respectively called “shaft 38B 2 ” and “bevel gear 42B 2 ”). Therefore, when the spline shaft 52B is rotated, the rotational force is, the bevel gear 62B, bevel gears 42B 1 and the transport roller 40B through the shaft 38B 1 (hereinafter, the conveyance roller is referred to as "conveyance rollers 40B 1 ', the other The conveying rollers fixed to the three shafts 38B 2 are transmitted to “conveying rollers 40B 2 ”). However, the other three shafts 38B 2 does not rotate in this state.

そこで、二段コンベア26は、図1〜図3に示されるように、動力伝達手段64Bをさらに備える。動力伝達手段64Bは、水平方向(X方向)に沿って延びると共に回転可能にベース部32に支持されたシャフト64Bと、シャフト64Bに固定された4つの傘歯車64Bとを含む。各傘歯車64Bは、各傘歯車42Bとそれぞれ歯合している。従って、スプラインシャフト52Bが回転すると、その回転力が傘歯車62B、傘歯車42B及び傘歯車42Bに歯合している傘歯車64Bの順に伝達され、シャフト64Bが回転する。シャフト64Bの回転に伴い他の3つの傘歯車64Bが回転すると、これら3つの傘歯車64Bと歯合している傘歯車42B及びシャフト38Bを介して、回転力が搬送ローラ40Bに伝達される。 Therefore, the two-stage conveyor 26 further includes power transmission means 64B as shown in FIGS. Power transmission means 64B includes a shaft 64B 1 that is rotatably supported by the base portion 32 extends along the horizontal direction (X direction), the four fixed to the shaft 64B 1 and bevel gear 64B 2. Each bevel gear 64B 2 are respectively the bevel gear 42B meshes. Accordingly, when the spline shaft 52B is rotated, the rotational force is transmitted in the order of the bevel gear 64B 2 that meshes bevel gear 62B, the bevel gear 42B 1 and bevel gear 42B 1, the shaft 64B 1 is rotated. When the other three bevel gears 64B 2 in accordance with rotation of the shaft 64B 1 is rotated via the bevel gears 42B 2 and the shaft 38B 2 are combined these three bevel gears 64B 2 and the teeth, the rotational force conveying rollers 40B 2 is transmitted.

昇降手段28は、図2に示されるように、エアシリンダ66と、シャフト68と、真空ベローズ70と、一対のガイド棒72a及びガイド板72bで構成されたガイド部材72とを有する。エアシリンダ66は、一方向(本実施形態ではZ方向)に伸縮可能なロッド66aを含んでいる。   As shown in FIG. 2, the elevating means 28 includes an air cylinder 66, a shaft 68, a vacuum bellows 70, and a guide member 72 constituted by a pair of guide rods 72a and a guide plate 72b. The air cylinder 66 includes a rod 66a that can be expanded and contracted in one direction (Z direction in the present embodiment).

シャフト68は、成膜処理チャンバ14の外壁に形成された貫通孔14bに挿通されると共に、鉛直方向(Z方向)に沿って延びている。シャフト68の下端は、ガイド板72bを介してロッド66aに固定されており、シャフト68の上端は、ベース部32の底板32aに固定されている。そのため、エアシリンダ66がロッド66aを伸縮動作させると、シャフト68を介して二段コンベア26(ベース部32及びローラコンベア部34A,34B)が上下動する。その結果、ベース部32及びローラコンベア部34A,34Bは、図1〜図3に示される下降位置と、図4に示される上昇位置との間を、上下に移動する。具体的には、ローラコンベア部34A,34Bが下降位置にある場合、上側ローラコンベア部34Bの搬送ローラ40Bが、他のローラコンベア20,24a,24bの搬送ローラと略同じ高さに位置する(図1、図5(a)、図5(c)、図5(e)参照)。一方、ローラコンベア部34A,34Bが上昇位置にある場合、下側ローラコンベア部34Aの搬送ローラ40Aが、他のローラコンベア20,24a,24bの搬送ローラと略同じ高さに位置する(図5(b)、図5(d)参照)。   The shaft 68 is inserted through a through hole 14 b formed in the outer wall of the film forming chamber 14 and extends along the vertical direction (Z direction). The lower end of the shaft 68 is fixed to the rod 66a via the guide plate 72b, and the upper end of the shaft 68 is fixed to the bottom plate 32a of the base portion 32. Therefore, when the air cylinder 66 expands and contracts the rod 66a, the two-stage conveyor 26 (the base portion 32 and the roller conveyor portions 34A and 34B) moves up and down via the shaft 68. As a result, the base portion 32 and the roller conveyor portions 34A and 34B move up and down between the lowered position shown in FIGS. 1 to 3 and the raised position shown in FIG. Specifically, when the roller conveyor sections 34A and 34B are in the lowered position, the transport rollers 40B of the upper roller conveyor section 34B are positioned at substantially the same height as the transport rollers of the other roller conveyors 20, 24a, and 24b ( FIG. 1, FIG. 5 (a), FIG. 5 (c), and FIG. 5 (e)). On the other hand, when the roller conveyor sections 34A and 34B are in the raised position, the transport rollers 40A of the lower roller conveyor section 34A are positioned at substantially the same height as the transport rollers of the other roller conveyors 20, 24a, and 24b (FIG. 5). (B), see FIG. 5 (d)).

エアシリンダ66の動作に応じてベース部32が上下動すると、ベース部32の補助板32cに回転可能に取り付けられたスプラインシャフト52A,52Bも、凹溝60Aがボール部材58Aの表面を滑りながら上下動する。一方、ボール部材58A,58Bを介してスプラインシャフト52A,52Bと係合しているボールスプライン50A,50Bは、ケース48A,48Bに固定されているため上下動しない。   When the base portion 32 moves up and down according to the operation of the air cylinder 66, the spline shafts 52A and 52B that are rotatably attached to the auxiliary plate 32c of the base portion 32 also move up and down while the groove 60A slides on the surface of the ball member 58A. Move. On the other hand, since the ball splines 50A and 50B engaged with the spline shafts 52A and 52B via the ball members 58A and 58B are fixed to the cases 48A and 48B, they do not move up and down.

真空ベローズ70は、シャフト68を覆うように、成膜処理チャンバ14の外壁とガイド板72bとの間に配置されている。この真空ベローズ70により、成膜処理チャンバ14の内外が隔離され、成膜処理チャンバ14内の真空状態が維持される。一対のガイド棒72aは、円柱状を呈しており、成膜処理チャンバ14の外壁の下面から下側に向けて突出している。ガイド板72bには、ガイド棒72aの外形に対応した円形状を呈する貫通孔72cが2つ形成されている。各ガイド棒72aが貫通孔72cにそれぞれ挿通されることで、ガイド板72bがガイド棒72aに沿って移動可能となる。   The vacuum bellows 70 is disposed between the outer wall of the film forming chamber 14 and the guide plate 72b so as to cover the shaft 68. The vacuum bellows 70 isolates the inside and outside of the film forming process chamber 14 and maintains the vacuum state in the film forming process chamber 14. The pair of guide rods 72a has a cylindrical shape, and protrudes downward from the lower surface of the outer wall of the film forming process chamber. Two through holes 72c having a circular shape corresponding to the outer shape of the guide bar 72a are formed in the guide plate 72b. Each guide bar 72a is inserted through the through hole 72c, so that the guide plate 72b can move along the guide bar 72a.

制御部は、ローダ・アンローダ、ゲートバルブ16,18、成膜手段22、ローラコンベア20,24a,24b及び二段コンベア26に接続されている。制御部は、ローダ・アンローダを制御して、ロードロックチャンバ12への基板Sの搬入、及びロードロックチャンバ12からの基板Sの搬出を行わせる。制御部は、ゲートバルブ16,18の開閉を制御する。制御部は、成膜手段22の動作(例えば、成膜材料の放散量)を制御する。制御部は、ローラコンベア20,24a,24bの搬送ローラの回転方向や回転速度を制御する。制御部は、二段コンベア26のモータ44A,44Bに指示して搬送ローラ40A,40Bの回転方向や回転速度を制御すると共に、エアシリンダ66に指示してローラコンベア部34A,34Bの上下動を制御する。   The control unit is connected to a loader / unloader, gate valves 16 and 18, film forming means 22, roller conveyors 20, 24 a and 24 b, and a two-stage conveyor 26. The control unit controls the loader / unloader to carry the substrate S into the load lock chamber 12 and carry the substrate S out of the load lock chamber 12. The control unit controls the opening and closing of the gate valves 16 and 18. The control unit controls the operation of the film forming unit 22 (for example, the amount of film forming material diffused). The control unit controls the rotation direction and rotation speed of the conveyance rollers of the roller conveyors 20, 24a, and 24b. The control unit instructs the motors 44A and 44B of the two-stage conveyor 26 to control the rotation direction and rotation speed of the transport rollers 40A and 40B, and instructs the air cylinder 66 to move the roller conveyor units 34A and 34B up and down. Control.

[成膜処理装置の動作]
続いて、図1〜図5を参照して、成膜処理装置10の動作について説明する。まず、ゲートバルブ18が閉鎖している状態において制御部が真空ポンプに指示して、成膜処理チャンバ14内を真空状態とする。このとき、ローラコンベア部34A,34Bは、下降位置に位置した状態(上側コンベア30Bの高さがローラコンベア20,24a,24bの高さに合わせられた状態)である。続いて、ゲートバルブ16が開放している状態において、制御部がローダ・アンローダに指示して、成膜前の基板S(以下、「基板S1」と称する。)をロードロックチャンバ12内に搬入し、ローラコンベア20の搬送ローラ上に当該基板S1を載置する。続いて、制御部がゲートバルブ16,18に指示して、ゲートバルブ16を閉鎖させた後にゲートバルブ18を開放させる。この状態で、制御部からの指示に基づきローラコンベア20の各搬送ローラを回転させることで、基板S1が上側ローラコンベア部34Bへと搬送される。続いて、制御部がゲートバルブ18に指示して、ゲートバルブ18を閉鎖させる。
[Operation of film forming apparatus]
Next, the operation of the film forming apparatus 10 will be described with reference to FIGS. First, in a state where the gate valve 18 is closed, the control unit instructs the vacuum pump to place the film formation processing chamber 14 in a vacuum state. At this time, the roller conveyor portions 34A and 34B are in a lowered position (a state in which the height of the upper conveyor 30B is adjusted to the height of the roller conveyors 20, 24a, and 24b). Subsequently, in a state where the gate valve 16 is opened, the control unit instructs the loader / unloader to carry the substrate S before film formation (hereinafter referred to as “substrate S1”) into the load lock chamber 12. Then, the substrate S1 is placed on the transport rollers of the roller conveyor 20. Subsequently, the control unit instructs the gate valves 16 and 18 to open the gate valve 18 after closing the gate valve 16. In this state, by rotating each transport roller of the roller conveyor 20 based on an instruction from the control unit, the substrate S1 is transported to the upper roller conveyor unit 34B. Subsequently, the control unit instructs the gate valve 18 to close the gate valve 18.

続いて、制御部の指示に基づきモータ44Bを回転駆動させ、その回転力をケース48B、ボールスプライン50B、スプラインシャフト52B、傘歯車62B,42B、動力伝達手段64Bの順に伝達させて、4つのシャフト38Bを介して搬送ローラ40Bを回転させる。これにより、搬送ローラ40B上に載置されている基板S1が、ローラコンベア24aに向けて所定の速度で水平方向(X方向)に搬送される(図5(a)参照)。同様に、制御部の指示に基づきローラコンベア24a,24bの搬送ローラを回転させることで、基板S1がローラコンベア24bに向けて所定の速度で水平方向(X方向)に搬送される。   Subsequently, the motor 44B is driven to rotate based on an instruction from the control unit, and the rotational force is transmitted in the order of the case 48B, the ball spline 50B, the spline shaft 52B, the bevel gears 62B and 42B, and the power transmission means 64B. The conveyance roller 40B is rotated via 38B. As a result, the substrate S1 placed on the transport roller 40B is transported in the horizontal direction (X direction) at a predetermined speed toward the roller conveyor 24a (see FIG. 5A). Similarly, by rotating the transport rollers of the roller conveyors 24a and 24b based on instructions from the control unit, the substrate S1 is transported in the horizontal direction (X direction) toward the roller conveyor 24b at a predetermined speed.

基板S1がローラコンベア24bに到達すると、制御部の指示に基づきローラコンベア24a,24bの搬送ローラを逆回転させる。これにより、基板S1が二段コンベア26に向けて所定の速度で水平方向(X方向)に搬送される(図5(b)参照)。つまり、基板S1は、成膜手段22の下方を往復移動する。この基板S1の往復移動の際に制御部が成膜手段22を動作させると、所定厚さの薄膜が基板S1上に成膜される。基板S1の往復移動の際に、往路及び復路で共に同じ材料が基板S1上に成膜されてもよいし、往路と復路とで異なる材料(例えば、往路ではCrで復路ではCu)が基板S1上に成膜されてもよい。   When the substrate S1 reaches the roller conveyor 24b, the transport rollers of the roller conveyors 24a and 24b are reversely rotated based on an instruction from the control unit. As a result, the substrate S1 is conveyed in the horizontal direction (X direction) at a predetermined speed toward the two-stage conveyor 26 (see FIG. 5B). That is, the substrate S1 reciprocates below the film forming unit 22. When the control unit operates the film forming means 22 during the reciprocating movement of the substrate S1, a thin film having a predetermined thickness is formed on the substrate S1. When the substrate S1 is reciprocated, the same material may be deposited on the substrate S1 in both the forward path and the return path, or different materials (for example, Cr in the forward path and Cu in the return path) may be formed on the substrate S1. A film may be formed thereon.

基板S1が往復移動している間に、制御部はゲートバルブ16及びローダ・アンローダにも指示し、ゲートバルブ16を開放させた後に、次の基板S1をロードロックチャンバ12に搬入し、再びゲートバルブ16を閉鎖する(図5(b)参照)。基板S1が往復移動している間に、制御部はエアシリンダ66にも指示し、ローラコンベア部34A,34Bを上昇位置に位置させる。これにより、下側コンベア30Aの高さがローラコンベア20,24a,24bの高さに合わせられた状態となる。そのため、ローラコンベア24aから二段コンベア26に搬送される成膜後の基板S(以下、成膜後の基板を「基板S2」と称する)は、下側ローラコンベア部34Aの搬送ローラ40A上に到達する(図5(b)参照)。   While the substrate S1 is reciprocating, the control unit also instructs the gate valve 16 and the loader / unloader to open the gate valve 16, and then carries the next substrate S1 into the load lock chamber 12, and again the gate. The valve 16 is closed (see FIG. 5B). While the substrate S1 is reciprocating, the control unit also instructs the air cylinder 66 to place the roller conveyor units 34A and 34B in the raised position. As a result, the height of the lower conveyor 30A is adjusted to the height of the roller conveyors 20, 24a, 24b. Therefore, the substrate S after film formation (hereinafter, the substrate after film formation is referred to as “substrate S2”) conveyed from the roller conveyor 24a to the two-stage conveyor 26 is placed on the conveyance roller 40A of the lower roller conveyor unit 34A. (See FIG. 5B).

続いて、制御部はエアシリンダ66に指示し、ローラコンベア部34A,34Bを下降位置に位置させる(図5(c)参照)。これにより、上側コンベア30Bの高さがローラコンベア20,24a,24bの高さに合わせられた状態となる。続いて、制御部がゲートバルブ16,18に指示して、ゲートバルブ16を閉鎖させた後にゲートバルブ18を開放させる。この状態で、制御部からの指示に基づきローラコンベア20の各搬送ローラを回転させることで、基板S1が上側ローラコンベア部34Bへと搬送される(図5(c)参照)。これにより、搬送ローラ40B上に基板S1が載置された状態となる。   Subsequently, the control unit instructs the air cylinder 66 to position the roller conveyor units 34A and 34B at the lowered position (see FIG. 5C). As a result, the height of the upper conveyor 30B is adjusted to the height of the roller conveyors 20, 24a, 24b. Subsequently, the control unit instructs the gate valves 16 and 18 to open the gate valve 18 after closing the gate valve 16. In this state, by rotating each transport roller of the roller conveyor 20 based on an instruction from the control unit, the substrate S1 is transported to the upper roller conveyor unit 34B (see FIG. 5C). As a result, the substrate S1 is placed on the transport roller 40B.

続いて、制御部はエアシリンダ66に指示して、ローラコンベア部34A,34Bを上昇位置に位置させる(図5(d)参照)。これにより、下側コンベア30Aの高さがローラコンベア20,24a,24bの高さに合わせられた状態となる。続いて、制御部の指示に基づきモータ44Aを回転駆動させ、その回転力をケース48A、ボールスプライン50A、スプラインシャフト52A、傘歯車62A,42A、動力伝達手段64Aの順に伝達させて、4つのシャフト38Aを介して搬送ローラ40Aを回転させる。これにより、搬送ローラ40A上に載置されている基板S2が、ローラコンベア20に向けて所定の速度で水平方向(X方向)に搬送される(図5(d)参照)。   Subsequently, the control unit instructs the air cylinder 66 to position the roller conveyor units 34A and 34B at the raised position (see FIG. 5D). As a result, the height of the lower conveyor 30A is adjusted to the height of the roller conveyors 20, 24a, 24b. Subsequently, the motor 44A is driven to rotate based on an instruction from the control unit, and the rotational force is transmitted in the order of the case 48A, the ball spline 50A, the spline shaft 52A, the bevel gears 62A and 42A, and the power transmission means 64A. The conveying roller 40A is rotated through 38A. Thereby, the board | substrate S2 mounted on the conveyance roller 40A is conveyed in the horizontal direction (X direction) at the predetermined | prescribed speed toward the roller conveyor 20 (refer FIG.5 (d)).

続いて、制御部はゲートバルブ16,18に指示して、ゲートバルブ18を閉鎖させた後にゲートバルブ16を開放させる。続いて、制御部はローダ・アンローダに指示して、ローラコンベア20の搬送ローラ上に載置されている基板S2をロードロックチャンバ12から搬出する(図5(e)参照)。   Subsequently, the control unit instructs the gate valves 16 and 18 to open the gate valve 16 after closing the gate valve 18. Subsequently, the control unit instructs the loader / unloader to unload the substrate S2 placed on the transport rollers of the roller conveyor 20 from the load lock chamber 12 (see FIG. 5E).

続いて、制御部はエアシリンダ66に指示して、ローラコンベア部34A,34Bを下降位置に位置させる。これにより、上側コンベア30Bの高さがローラコンベア20,24a,24bの高さに合わせられた状態となる。続いて、制御部の指示に基づき上側ローラコンベア部34Bの搬送ローラを回転させることで、搬送ローラ40B上に載置されている基板S1が、ローラコンベア24aに向けて所定の速度で水平方向(X方向)に搬送される(図5(e)参照)。以上の工程が繰り返されることで、成膜前の基板S1の搬入及び成膜と、成膜後の基板S2の搬出とが順次行われる。   Subsequently, the control unit instructs the air cylinder 66 to position the roller conveyor units 34A and 34B at the lowered position. As a result, the height of the upper conveyor 30B is adjusted to the height of the roller conveyors 20, 24a, 24b. Subsequently, by rotating the transport roller of the upper roller conveyor unit 34B based on an instruction from the control unit, the substrate S1 placed on the transport roller 40B is moved horizontally (at a predetermined speed toward the roller conveyor 24a). X direction) (see FIG. 5E). By repeating the above steps, the substrate S1 before film formation and film formation and the substrate S2 after film formation are sequentially carried out.

以上より、本実施形態に係る成膜処理装置10を用いた成膜方法は、少なくとも以下の工程を含むことにより、成膜前の基板S1と成膜後の基板S2とを成膜処理チャンバ14内で入れ替えつつ、複数の基板Sに対して順次成膜が行われる。
(1)エアシリンダ66により下側コンベア30Aの高さとローラコンベア24aの高さとを合せる工程
(2)成膜後の基板S2をローラコンベア24aから下側コンベア30Aへと搬送する工程
(3)真空状態のロードロックチャンバ12から成膜前の基板S1を上側コンベア30Bに搬入する工程
(4)真空状態のロードロックチャンバ12に成膜後の基板S2を搬出する工程
(5)エアシリンダ66により上側コンベア30Bの高さとローラコンベア24aの高さとを合わせる工程
(6)成膜前の基板S1を上側コンベア30Bからローラコンベア24aへと搬送する工程
(7)ローラコンベア24a上に位置する基板S1に対して成膜手段22により成膜を行う工程
As described above, the film formation method using the film formation processing apparatus 10 according to the present embodiment includes at least the following steps, whereby the substrate S1 before film formation and the substrate S2 after film formation are formed into the film formation processing chamber 14. Then, film formation is performed sequentially on the plurality of substrates S.
(1) Step of matching the height of the lower conveyor 30A and the height of the roller conveyor 24a by the air cylinder 66 (2) Step of transporting the substrate S2 after film formation from the roller conveyor 24a to the lower conveyor 30A (3) Vacuum (4) Step of unloading substrate S2 after film formation to load lock chamber 12 in a vacuum state (5) Upper side by air cylinder 66 Step of matching height of conveyor 30B and height of roller conveyor 24a (6) Step of transporting substrate S1 before film formation from upper conveyor 30B to roller conveyor 24a (7) For substrate S1 located on roller conveyor 24a And a step of forming a film by the film forming means

[成膜処理装置の作用及び効果]
以上のような本実施形態では、上下方向に重なるように配置された上側コンベア30B及び下側コンベア30Aを有する二段コンベア26が、エアシリンダ66(昇降手段28)の動作により、上側コンベア30Bの高さがローラコンベア24aの高さに合わせられた下降位置と、下側コンベア30Aの高さがローラコンベア24aの高さに合わせられた上昇位置とに、昇降される。従って、例えば、成膜前の基板S1が上側コンベア30Bに載置された状態でエアシリンダ66が二段コンベア26を上昇位置に移動させることで、ローラコンベア24aから下側コンベア30Aへと成膜後の成膜後の基板S2の搬送を行える。さらに、エアシリンダ66が二段コンベア26を下降位置に移動させることで、上側コンベアからローラコンベア24aへと成膜前の基板S1の搬送を行える。その結果、二段コンベア26及びローラコンベア24aが水平方向に一列に並んで配置されたコンパクトな成膜処理装置10を実現しつつ、成膜処理チャンバ14の真空状態を保持したまま連続して複数の基板Sを処理できる。よって、本実施形態によれば、成膜処理装置10において、小型化と生産性の向上との両立を図ることが可能となる。
[Operation and effect of film forming apparatus]
In the present embodiment as described above, the two-stage conveyor 26 having the upper conveyor 30B and the lower conveyor 30A arranged so as to overlap in the vertical direction is moved by the operation of the air cylinder 66 (elevating means 28). The height of the lower conveyor 30A is raised and lowered to the lowered position where the height is matched with the height of the roller conveyor 24a and the height of the lower conveyor 30A is matched to the height of the roller conveyor 24a. Therefore, for example, the air cylinder 66 moves the two-stage conveyor 26 to the ascending position while the substrate S1 before film formation is placed on the upper conveyor 30B, so that the film is formed from the roller conveyor 24a to the lower conveyor 30A. Substrate S2 after the subsequent film formation can be transferred. Further, the air cylinder 66 moves the two-stage conveyor 26 to the lowered position, so that the substrate S1 before film formation can be transferred from the upper conveyor to the roller conveyor 24a. As a result, while realizing a compact film forming apparatus 10 in which the two-stage conveyor 26 and the roller conveyor 24a are arranged in a line in the horizontal direction, a plurality of the film forming process chambers 14 are continuously maintained while maintaining the vacuum state. The substrate S can be processed. Therefore, according to the present embodiment, it is possible to achieve both reduction in size and improvement in productivity in the film forming apparatus 10.

本実施形態では、下側コンベア30A及び上側コンベア30Bはそれぞれ、基板Sを搬送するための搬送ローラ40A,40Bと、搬送ローラ40A,40Bが取り付けられたシャフト38A,38Bと、シャフト38A,38Bを回転駆動させる駆動手段36A,36Bとを有している。そのため、下側コンベア30Aと上側コンベア30Bとはそれぞれ、各駆動手段36A,36Bによって独立して駆動される。従って、上側コンベア30Bに載置された基板Sと、下側コンベア30Aに載置された基板Sとを、それぞれ異なる方向に搬送することができる。   In the present embodiment, the lower conveyor 30A and the upper conveyor 30B respectively have conveyance rollers 40A and 40B for conveying the substrate S, shafts 38A and 38B to which the conveyance rollers 40A and 40B are attached, and shafts 38A and 38B. Drive means 36A and 36B for rotationally driving are provided. Therefore, the lower conveyor 30A and the upper conveyor 30B are driven independently by the driving means 36A and 36B, respectively. Accordingly, the substrate S placed on the upper conveyor 30B and the substrate S placed on the lower conveyor 30A can be transported in different directions.

本実施形態では、駆動手段36A,36Bは、成膜処理チャンバ14の外部に配置されたモータ44A,44Bと、成膜処理チャンバ14の外壁を上下方向に貫通すると共にモータ44A,44Bに接続され、当該外壁に対して回転可能に取り付けられたケース48A,48Bと、ケース48A,48B内に挿嵌されたボールスプライン50A,50Bと、軸方向に延びる凹溝60A,60Bが形成され、ボールスプライン50A,50Bに対して軸方向にスライド可能なスプラインシャフト52A,52Bと、スプラインシャフト52A,52Bの上端部に取り付けられた傘歯車62A,62Bと含む。傘歯車62A,62Bは、シャフト38A,38Bの端部に取り付けられた傘歯車42A,42Bと歯合している。ボールスプライン50A,50Bのボール部材58A,58Bは、スプラインシャフト52A,52Bの凹溝60A,60Bと係合している。そのため、下側コンベア30A及び上側コンベア30Bが昇降手段28によって昇降した場合でも、モータ44A,44Bの回転力が、ケース48A,48B及びボールスプライン50A,50Bを介してスプラインシャフト52A,52Bに伝達され、スプラインシャフト52A,52Bが回転される。従って、下側コンベア30A及び上側コンベア30Bの昇降にかかわらず、モータ44A,44Bの駆動力を搬送ローラ40A,40Bに伝達できる。 In the present embodiment, the driving means 36A and 36B are connected to the motors 44A and 44B disposed outside the film forming chamber 14 and the outer walls of the film forming chamber 14 in the vertical direction and to the motors 44A and 44B. , A case 48A, 48B rotatably attached to the outer wall, a ball spline 50A, 50B inserted into the case 48A, 48B, and a groove 60A, 60B extending in the axial direction are formed. Spline shafts 52A and 52B that are slidable in the axial direction with respect to 50A and 50B, and bevel gears 62A and 62B attached to the upper ends of the spline shafts 52A and 52B. The bevel gears 62A and 62B mesh with the bevel gears 42A 1 and 42B 1 attached to the ends of the shafts 38A and 38B. Ball members 58A and 58B of ball splines 50A and 50B are engaged with concave grooves 60A and 60B of spline shafts 52A and 52B. Therefore, even when the lower conveyor 30A and the upper conveyor 30B are moved up and down by the lifting means 28, the rotational force of the motors 44A and 44B is transmitted to the spline shafts 52A and 52B via the cases 48A and 48B and the ball splines 50A and 50B. The spline shafts 52A and 52B are rotated. Therefore, the driving force of the motors 44A and 44B can be transmitted to the transport rollers 40A and 40B regardless of the elevation of the lower conveyor 30A and the upper conveyor 30B.

[他の実施形態]
以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記した実施形態に限定されるものではない。例えば、成膜処理装置10の動作は、上記した実施形態と異なっていてもよい。ここで、図6を参照して、成膜処理装置10の他の動作について説明する。まず、ゲートバルブ18が閉鎖している状態において制御部が真空ポンプに指示して、成膜処理チャンバ14内を真空状態とする。このとき、ローラコンベア部34A,34Bは、下降位置に位置した状態(上側コンベア30Bの高さがローラコンベア20,24a,24bの高さに合わせられた状態)である。続いて、ゲートバルブ16が開放している状態において、制御部がローダ・アンローダに指示して、基板S1をロードロックチャンバ12内に搬入し、ローラコンベア20の搬送ローラ上に当該基板S1を載置する。続いて、制御部がゲートバルブ16,18に指示して、ゲートバルブ16を閉鎖させた後にゲートバルブ18を開放させる。この状態で、制御部からの指示に基づきローラコンベア20の各搬送ローラを回転させることで、基板S1が上側ローラコンベア部34Bへと搬送される。続いて、制御部がゲートバルブ18に指示して、ゲートバルブ18を閉鎖させる。
[Other Embodiments]
As mentioned above, although embodiment of this invention was described in detail, this invention is not limited to above-described embodiment. For example, the operation of the film forming apparatus 10 may be different from that of the above-described embodiment. Here, with reference to FIG. 6, another operation of the film forming apparatus 10 will be described. First, in a state where the gate valve 18 is closed, the control unit instructs the vacuum pump to place the film formation processing chamber 14 in a vacuum state. At this time, the roller conveyor portions 34A and 34B are in a lowered position (a state in which the height of the upper conveyor 30B is adjusted to the height of the roller conveyors 20, 24a, and 24b). Subsequently, in a state where the gate valve 16 is open, the control unit instructs the loader / unloader to carry the substrate S1 into the load lock chamber 12, and to place the substrate S1 on the transport rollers of the roller conveyor 20. Put. Subsequently, the control unit instructs the gate valves 16 and 18 to open the gate valve 18 after closing the gate valve 16. In this state, by rotating each transport roller of the roller conveyor 20 based on an instruction from the control unit, the substrate S1 is transported to the upper roller conveyor unit 34B. Subsequently, the control unit instructs the gate valve 18 to close the gate valve 18.

続いて、制御部の指示に基づきモータ44Bを回転駆動させ、その回転力をケース48B、ボールスプライン50B、スプラインシャフト52B、傘歯車62B,42B、動力伝達手段64Bの順に伝達させて、4つのシャフト38Bを介して搬送ローラ40Bを回転させる。これにより、搬送ローラ40B上に載置されている基板S1が、ローラコンベア24aに向けて所定の速度で水平方向(X方向)に搬送される(図6(a)参照)。同様に、制御部の指示に基づきローラコンベア24a,24bの搬送ローラを回転させることで、基板S1がローラコンベア24bに向けて所定の速度で水平方向(X方向)に搬送される。   Subsequently, the motor 44B is driven to rotate based on an instruction from the control unit, and the rotational force is transmitted in the order of the case 48B, the ball spline 50B, the spline shaft 52B, the bevel gears 62B and 42B, and the power transmission means 64B. The conveyance roller 40B is rotated via 38B. As a result, the substrate S1 placed on the transport roller 40B is transported in the horizontal direction (X direction) at a predetermined speed toward the roller conveyor 24a (see FIG. 6A). Similarly, by rotating the transport rollers of the roller conveyors 24a and 24b based on instructions from the control unit, the substrate S1 is transported in the horizontal direction (X direction) toward the roller conveyor 24b at a predetermined speed.

基板S1がローラコンベア24bに到達すると、制御部の指示に基づきローラコンベア24a,24bの搬送ローラを逆回転させる。これにより、基板S1が二段コンベア26に向けて所定の速度で水平方向(X方向)に搬送される(図6(b)参照)。つまり、基板S1は、成膜手段22の下方を往復移動する。この基板S1の往復移動の際に制御部が成膜手段22を動作させると、所定厚さの薄膜が基板S1上に成膜される。ローラコンベア部34A,34Bが下降位置に位置しているため、ローラコンベア24aから二段コンベア26に搬送される成膜後の基板S2は、上側ローラコンベア部34Bの搬送ローラ40B上に到達する(図6(b)参照)。基板S1が往復移動している間に、制御部はゲートバルブ16及びローダ・アンローダにも指示し、ゲートバルブ16を開放させた後に、次の基板S1をロードロックチャンバ12に搬入し、再びゲートバルブ16を閉鎖する(図6(b)参照)。   When the substrate S1 reaches the roller conveyor 24b, the transport rollers of the roller conveyors 24a and 24b are reversely rotated based on an instruction from the control unit. Thereby, the board | substrate S1 is conveyed in the horizontal direction (X direction) at the predetermined | prescribed speed toward the two-stage conveyor 26 (refer FIG.6 (b)). That is, the substrate S1 reciprocates below the film forming unit 22. When the control unit operates the film forming means 22 during the reciprocating movement of the substrate S1, a thin film having a predetermined thickness is formed on the substrate S1. Since the roller conveyor portions 34A and 34B are positioned at the lowered position, the substrate S2 after film formation transferred from the roller conveyor 24a to the two-stage conveyor 26 reaches the transfer roller 40B of the upper roller conveyor portion 34B ( (Refer FIG.6 (b)). While the substrate S1 is reciprocating, the control unit also instructs the gate valve 16 and the loader / unloader to open the gate valve 16, and then carries the next substrate S1 into the load lock chamber 12, and again the gate. The valve 16 is closed (see FIG. 6B).

続いて、制御部はエアシリンダ66に指示し、ローラコンベア部34A,34Bを上昇位置に位置させる。これにより、下側コンベア30Aの高さがローラコンベア20,24a,24bの高さに合わせられた状態となる。続いて、制御部がゲートバルブ16,18に指示して、ゲートバルブ16を閉鎖させた後にゲートバルブ18を開放させる。この状態で、制御部からの指示に基づきローラコンベア20の各搬送ローラを回転させることで、基板S1が下側ローラコンベア部34Aへと搬送される(図6(c)参照)。これにより、搬送ローラ40A上に基板S1が載置された状態となる。   Subsequently, the control unit instructs the air cylinder 66 to position the roller conveyor units 34A and 34B at the raised position. As a result, the height of the lower conveyor 30A is adjusted to the height of the roller conveyors 20, 24a, 24b. Subsequently, the control unit instructs the gate valves 16 and 18 to open the gate valve 18 after closing the gate valve 16. In this state, by rotating each transport roller of the roller conveyor 20 based on an instruction from the control unit, the substrate S1 is transported to the lower roller conveyor unit 34A (see FIG. 6C). As a result, the substrate S1 is placed on the transport roller 40A.

続いて、制御部の指示に基づきモータ44Aを回転駆動させ、その回転力をケース48A、ボールスプライン50A、スプラインシャフト52A、傘歯車62A,42A、動力伝達手段64Aの順に伝達させて、4つのシャフト38Aを介して搬送ローラ40Aを回転させる。これにより、搬送ローラ40A上に載置されている基板S1が、ローラコンベア24aに向けて所定の速度で水平方向(X方向)に搬送される(図6(d)参照)。   Subsequently, the motor 44A is driven to rotate based on an instruction from the control unit, and the rotational force is transmitted in the order of the case 48A, the ball spline 50A, the spline shaft 52A, the bevel gears 62A and 42A, and the power transmission means 64A. The conveying roller 40A is rotated through 38A. Accordingly, the substrate S1 placed on the transport roller 40A is transported in the horizontal direction (X direction) at a predetermined speed toward the roller conveyor 24a (see FIG. 6D).

続いて、制御部はエアシリンダ66に指示して、ローラコンベア部34A,34Bを下降位置に位置させる(図6(e)参照)。これにより、上側コンベア30Bの高さがローラコンベア20,24a,24bの高さに合わせられた状態となる。続いて、制御部の指示に基づき上側ローラコンベア部34Bの搬送ローラを回転させることで、搬送ローラ40B上に載置されている基板S2が、ローラコンベア20に向けて所定の速度で水平方向(X方向)に搬送される(図6(e)参照)。   Subsequently, the control unit instructs the air cylinder 66 to position the roller conveyor units 34A and 34B at the lowered position (see FIG. 6E). As a result, the height of the upper conveyor 30B is adjusted to the height of the roller conveyors 20, 24a, 24b. Subsequently, by rotating the transport roller of the upper roller conveyor unit 34B based on an instruction from the control unit, the substrate S2 placed on the transport roller 40B is directed toward the roller conveyor 20 at a predetermined speed in the horizontal direction ( X direction) (see FIG. 6E).

続いて、制御部はゲートバルブ16,18に指示して、ゲートバルブ18を閉鎖させた後にゲートバルブ16を開放させる。続いて、制御部はローダ・アンローダに指示して、ローラコンベア20の搬送ローラ上に載置されている基板S2をロードロックチャンバ12から搬出する(図6(e)参照)。以上の工程が繰り返されることで、成膜前の基板S1の搬入及び成膜と、成膜後の基板S2の搬出とが順次行われる。   Subsequently, the control unit instructs the gate valves 16 and 18 to open the gate valve 16 after closing the gate valve 18. Subsequently, the control unit instructs the loader / unloader to unload the substrate S2 placed on the transport rollers of the roller conveyor 20 from the load lock chamber 12 (see FIG. 6E). By repeating the above steps, the substrate S1 before film formation and film formation and the substrate S2 after film formation are sequentially carried out.

以上より、本実施形態に係る成膜処理装置10を用いた他の成膜方法は、少なくとも以下の工程を含むことにより、成膜前の基板S1と成膜後の基板S2とを成膜処理チャンバ14内で入れ替えつつ、複数の基板Sに対して順次成膜が行われる。
(1)エアシリンダ66により上側コンベア30Bの高さとローラコンベア24aの高さとを合せる工程
(2)成膜後の基板S2をローラコンベア24aから上側コンベア30Bへと搬送する工程
(3)エアシリンダ66により下側コンベア30Aの高さとローラコンベア24aの高さとを合わせる工程
(4)真空状態のロードロックチャンバ12から成膜前の基板S1を下側コンベア30Aに搬入する工程
(5)成膜前の基板S1を下側コンベア30Bからローラコンベア24aへと搬送する工程
(6)真空状態のロードロックチャンバ12に成膜後の基板S2を搬出する工程
(7)ローラコンベア24a上に位置する基板S1に対して成膜手段22により成膜を行う工程
As described above, another film formation method using the film formation processing apparatus 10 according to the present embodiment includes at least the following steps, so that the substrate S1 before film formation and the substrate S2 after film formation are processed. Films are sequentially formed on the plurality of substrates S while being replaced in the chamber 14.
(1) Step of matching the height of the upper conveyor 30B with the height of the roller conveyor 24a by the air cylinder 66 (2) Step of transporting the film-formed substrate S2 from the roller conveyor 24a to the upper conveyor 30B (3) Air cylinder 66 (4) The step of carrying the substrate S1 before film formation from the load lock chamber 12 in the vacuum state into the lower conveyor 30A (5) Before film formation Step of transporting substrate S1 from lower conveyor 30B to roller conveyor 24a (6) Step of unloading substrate S2 after film formation to load lock chamber 12 in a vacuum state (7) Substrate S1 positioned on roller conveyor 24a On the other hand, a step of forming a film by the film forming means 22

上記の実施形態では、ローラコンベア部34A,34B(下側コンベア30A及び上側コンベア30B)を昇降させるためにエアシリンダ66を用いたが、一方向に往復動作できるものであればエアシリンダ66に限定されずに種々の直動機構を採用することができる。   In the above embodiment, the air cylinder 66 is used to raise and lower the roller conveyor portions 34A and 34B (the lower conveyor 30A and the upper conveyor 30B). However, the roller cylinder 66 is limited to the air cylinder 66 as long as it can reciprocate in one direction. Instead, various linear motion mechanisms can be employed.

上記の実施形態では、基板Sを水平方向に搬送するために搬送ローラを用いたが、水平方向の搬送が可能であればローラ以外の他の構造(例えばベルトなど)であってもよい。   In the above embodiment, the transport roller is used to transport the substrate S in the horizontal direction, but other structures (for example, a belt or the like) other than the roller may be used as long as the transport in the horizontal direction is possible.

上記の実施形態では、ケース48A,48Bに対するスプラインシャフト52A,52Bの摺動と、ケース48A,48Bからのスプラインシャフト52A,52Bへの回転力の伝達とを、スプラインシャフト52A,52Bの凹溝60Aと、ケース48A,48Bに固定されたボールスプライン50A,50Bのボール部材58A,58Bとの係合によって実現していた。しかしながら、一の部材と他の部材との間での摺動及び回転力の伝達を、他の構成により実現してもよい。例えば、軸方向に延びる凹溝又は突条が少なくとも一つ形成されたシャフトと、当該凹溝又は突条と係合する凸部又は凹部を有し、スライド可能にシャフトが内部に配置された円筒体とにより、実現することができる。   In the embodiment described above, the sliding of the spline shafts 52A and 52B with respect to the cases 48A and 48B and the transmission of the rotational force from the cases 48A and 48B to the spline shafts 52A and 52B are represented by the concave grooves 60A of the spline shafts 52A and 52B. And the ball splines 50A and 50B fixed to the cases 48A and 48B are engaged with the ball members 58A and 58B. However, the sliding and rotational force transmission between one member and another member may be realized by another configuration. For example, a shaft in which at least one groove or protrusion extending in the axial direction is formed, and a cylinder having a protrusion or recess that engages with the groove or protrusion, and the shaft is slidably disposed inside the shaft. It can be realized by the body.

上記の実施形態では、基板Sの表面に成膜を行ったが、平板、曲板、フィルムなどの種々の形状を呈する成膜対象物に対して成膜を行ってもよい。   In the above embodiment, the film is formed on the surface of the substrate S. However, the film may be formed on a film formation target having various shapes such as a flat plate, a curved plate, and a film.

10…成膜処理装置、12…ロードロックチャンバ、14…成膜処理チャンバ、20,24a,24b…ローラコンベア、22…成膜手段、26…二段コンベア、28…昇降手段、30A…下側コンベア、30B…上側コンベア、36A,36B…駆動手段、38A,38B…シャフト、40A,40B…搬送ローラ、42A,42B,62A,62B…傘歯車、44A,44B…モータ、48A,48B…ケース、50A,50B…ボールスプライン、52A,52B…スプラインシャフト、60A,60B…凹溝、S…基板。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Film-forming processing apparatus, 12 ... Load lock chamber, 14 ... Film-forming processing chamber, 20, 24a, 24b ... Roller conveyor, 22 ... Film-forming means, 26 ... Two-stage conveyor, 28 ... Lifting means, 30A ... Lower side Conveyor, 30B ... Upper conveyor, 36A, 36B ... Driving means, 38A, 38B ... Shaft, 40A, 40B ... Conveyance roller, 42A, 42B, 62A, 62B ... Bevel gear, 44A, 44B ... Motor, 48A, 48B ... Case, 50A, 50B ... ball spline, 52A, 52B ... spline shaft, 60A, 60B ... concave groove, S ... substrate.

Claims (3)

ロードロックチャンバに隣接して配置される成膜処理チャンバと、
前記成膜処理チャンバ内の成膜対象物の表面に成膜を行わせる成膜手段と、
前記成膜処理チャンバ内において成膜対象物を水平方向に搬送すると共に、前記成膜手段に対向するように配置された第1のコンベアと、
前記成膜処理チャンバ内において成膜対象物を水平方向に搬送すると共に、前記第1のコンベアと前記ロードロックチャンバとの間に配置された第2のコンベアであって、上下方向に重なるように並べられた上側コンベア及び下側コンベアを有する第2のコンベアと、
前記上側コンベアの高さが前記第1のコンベアの高さに合わせられた下降位置と、前記下側コンベアの高さが前記第1のコンベアの高さに合わせられた上昇位置とに、前記第2のコンベアを昇降させる昇降手段とを備える、成膜処理装置。
A deposition process chamber disposed adjacent to the load lock chamber;
A film forming means for forming a film on the surface of the film forming object in the film forming chamber;
A first conveyor disposed in the film formation chamber so as to face the film formation unit in a horizontal direction,
A film forming object is transported horizontally in the film forming chamber, and is a second conveyor disposed between the first conveyor and the load lock chamber so as to overlap in the vertical direction. A second conveyor having an upper conveyor and a lower conveyor arranged;
The lower position where the height of the upper conveyor is matched with the height of the first conveyor, and the raised position where the height of the lower conveyor is matched with the height of the first conveyor, The film-forming processing apparatus provided with the raising / lowering means which raises / lowers the conveyor of 2. FIG.
前記上側コンベア及び前記下側コンベアはそれぞれ、成膜対象物を搬送するための搬送ローラと、前記搬送ローラが取り付けられた第1のシャフトと、前記第1のシャフトを回転駆動させる駆動手段とを有する、請求項1に記載の成膜処理装置。   Each of the upper conveyor and the lower conveyor includes a transport roller for transporting the film formation target, a first shaft to which the transport roller is attached, and a drive unit that rotationally drives the first shaft. The film-forming processing apparatus of Claim 1 which has. 前記駆動手段は、
前記成膜処理チャンバの外部に位置するモータと、
前記成膜処理チャンバの外壁を上下方向に貫通すると共に前記モータに接続され、前記外壁に対して回転可能に取り付けられた円筒体と、
軸方向に延びる凹溝又は突条が少なくとも一つ形成され、前記円筒体内をスライドできるように前記円筒体内に配置された第2のシャフトと、
前記第2のシャフトの上端部に取り付けられた前記第1の歯車とを含み、
前記第1のシャフトの端部には、前記第1の歯車と歯合する第2の歯車が取り付けられており、
前記円筒体は、前記第2のシャフトの前記凹溝又は前記突条と係合しており、前記モータの回転力を前記第2のシャフトに伝達する、請求項2に記載の成膜処理装置。
The driving means includes
A motor located outside the film formation chamber;
A cylindrical body that penetrates the outer wall of the film formation chamber in the vertical direction and is connected to the motor and is rotatably attached to the outer wall;
A second shaft disposed in the cylindrical body so that at least one concave groove or protrusion extending in the axial direction is formed and slidable in the cylindrical body;
The first gear attached to the upper end of the second shaft;
A second gear that meshes with the first gear is attached to the end of the first shaft,
The film forming apparatus according to claim 2, wherein the cylindrical body is engaged with the concave groove or the protrusion of the second shaft, and transmits a rotational force of the motor to the second shaft. .
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021532599A (en) * 2018-08-01 2021-11-25 北京北方華創微電子装備有限公司Beijing Naura Microelectronics Equipment Co., Ltd. Reaction chamber and plasma equipment

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10275845A (en) * 1997-03-28 1998-10-13 Shibaura Eng Works Co Ltd Transfer device and processing device of substrate
JP2001239144A (en) * 2000-02-29 2001-09-04 Shimadzu Corp Load lock type vacuum apparatus
JP2006054284A (en) * 2004-08-11 2006-02-23 Shimadzu Corp Vacuum processing apparatus
JP2006077279A (en) * 2004-09-08 2006-03-23 Ulvac Japan Ltd Vacuum treatment apparatus
JP2008174361A (en) * 2007-01-19 2008-07-31 Tokyo Electron Ltd Substrate conveying device
JP2008297584A (en) * 2007-05-30 2008-12-11 Canon Anelva Corp Film-forming apparatus
JP2013110195A (en) * 2011-11-18 2013-06-06 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Substrate transport apparatus and substrate processing apparatus

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10275845A (en) * 1997-03-28 1998-10-13 Shibaura Eng Works Co Ltd Transfer device and processing device of substrate
JP2001239144A (en) * 2000-02-29 2001-09-04 Shimadzu Corp Load lock type vacuum apparatus
JP2006054284A (en) * 2004-08-11 2006-02-23 Shimadzu Corp Vacuum processing apparatus
JP2006077279A (en) * 2004-09-08 2006-03-23 Ulvac Japan Ltd Vacuum treatment apparatus
JP2008174361A (en) * 2007-01-19 2008-07-31 Tokyo Electron Ltd Substrate conveying device
JP2008297584A (en) * 2007-05-30 2008-12-11 Canon Anelva Corp Film-forming apparatus
JP2013110195A (en) * 2011-11-18 2013-06-06 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Substrate transport apparatus and substrate processing apparatus

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021532599A (en) * 2018-08-01 2021-11-25 北京北方華創微電子装備有限公司Beijing Naura Microelectronics Equipment Co., Ltd. Reaction chamber and plasma equipment
JP7093464B2 (en) 2018-08-01 2022-06-29 北京北方華創微電子装備有限公司 Reaction chamber and plasma equipment
US11715627B2 (en) 2018-08-01 2023-08-01 Beijing Naura Microelectronics Equipment Co., Ltd. Reaction chamber and plasma apparatus

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