JP4299185B2 - レーザー加工装置 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 51
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 17
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 12
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 11
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 40
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 39
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 27
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 22
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 description 10
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 229910009372 YVO4 Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 2
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 1
- -1 gallium nitride compound Chemical class 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
- B23K26/083—Devices involving movement of the workpiece in at least one axial direction
- B23K26/0853—Devices involving movement of the workpiece in at least in two axial directions, e.g. in a plane
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- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
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- B23K26/042—Automatically aligning the laser beam
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2101/00—Articles made by soldering, welding or cutting
- B23K2101/36—Electric or electronic devices
- B23K2101/40—Semiconductor devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67092—Apparatus for mechanical treatment
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- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
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Description
該レーザー光線発振手段と該対物レンズとの間に該対物レンズが集光するレーザー光線の集光点位置を変移させる集光点変移手段が配設されており、
該集光点変移手段は、該レーザー光線発振手段によって発振されたレーザー光線を透過する第1のレンズと、該第1のレンズを透過したレーザー光線を透過する第2のレンズと、該第1のレンズと該第2のレンズとの間の光路長を変移せしめる光路長変移手段とを備えている、
ことを特徴とするレーザー加工装置が提供される。
第1のミラー手段の第2のミラーで反射したレーザー光線を反射偏向する第3のミラーと、該第3のミラーで反射したレーザー光線を反射偏向する第4のミラーと、第3のミラーと第4のミラーの設置角度を調整する角度調整アクチュエータとからなる第2の偏向ミラー手段とによって構成されている。第1の偏向ミラー手段の第1のミラーと第2のミラーは所定の間隔をもって互いに平行に配設され、第2の偏向ミラー手段の第3のミラーと第4のミラーは所定の間隔をもって互いに平行に配設されている。
以下、集光点位置変移手段6の第1の実施形態について、図4および図5を参照して説明する。
図4および図5に示す第1の実施形態における集光点変移手段6は、上記パルスレーザー光線発振手段54によって発振されたレーザー光線を透過する第1のレンズ61と、該第1のレンズ61を透過したレーザー光線を透過する第2のレンズ62と、第1のレンズ61と第2のレンズ62との間の光路長を変移せしめる光路長変移手段63とを備えている。光路長変移手段63は、第1のレンズ61と第2のレンズ62との間に配設され第1のレンズ61を透過したレーザー光線を反射偏向する第1の偏向ミラー手段630と、該第1の偏向ミラー手段630によって反射偏向されたレーザー光線を反射偏向する第2の偏向ミラー手段640とからなっている。
図6に示すように上記一対の第1の偏向ミラー手段630の第1のミラー631にレーザー光線LBが入光した場合、レーザー光線LBは第1のミラー631と第2のミラー632で反射偏向せしめられる。ここで、第1のミラー631と第2のミラー632の間隔をdとすると、m1=d/cosθ、m2=m1cos2θ=(d/cosθ)cos2θで表されるので、m1+m2=(d/cosθ)(1+cos2θ)=2d cosθとなる。なお、図示の実施形態における集光点変移手段6を構成する光路長変移手段63は、第1の偏向ミラー手段630と第2の偏向ミラー手段640からなっているので、光路長は2(m1+m2)を変化させることで変移する。第1のミラー631と第2のミラー632の間隔dを2mmとすると、第1の偏向ミラー手段630と第2の偏向ミラー手段640の設置角度θに対する光路長差の変移を上式から計算することができ、第1の偏向ミラー手段630と第2の偏向ミラー手段640の設置角度θが47.5度の状態を基準として表すと、光路長の変位は図7で示すようになる。即ち、第1の偏向ミラー手段630と第2の偏向ミラー手段640の設置角度θを40度から57.5度範囲で変更することにより、光路長の変位は1.83mm得られる。
図示の実施形態における高さ位置検出手段7は、図9に示すようにU字状に形成された枠体71を具備しており、この枠体71が支持ブラケット70を介して上記レーザー光線照射手段52のケーシング53に取り付けられている。枠体71には、上記集光器552を挟んで発光手段72と受光手段73が矢印Yで示す方向に対向して配設されている。発光手段72は、図11に示すように発光素子721と投光レンズ722を具備している。発光素子721は、例えば波長が670n mのパルスレーザー光線を図10および図11に示すように上記チャックテーブル36上に保持される被加工物Wに投光レンズ722を通して所定の入射角αをもって照射する。この発光手段72によるレーザー光線の照射位置は、集光器552から被加工物Wに照射されるレーザー光線の照射位置と略一致させて設定されている。なお、入射角αは、集光器552の対物集光レンズ552bの集光角度βより大きく90度より小さい角度に設定されている。受光手段73は、光位置検出素子731と受光レンズ732を具備しており、上記発光手段72から照射されたレーザー光線が被加工物Wで正反射する位置に配設されている。また、図示の実施形態における高さ位置検出手段7は、上記発光手段72および受光手段73の傾斜角度を調整するための角度調整ツマミ72aおよび73aを備えている。この角度調整ツマミ72aおよび73aを回動することにより、発光手段72から照射されるレーザー光線の入射角αおよび受光手段73の受光角度を調整することができる。
被加工物Wの基準高さ位置が図11において1点鎖線で示す位置である場合には、発光素721から投光レンズ722を通して被加工物Wの表面に照射されたレーザー光線は1点鎖線で示すように反射し、受光レンズ732を通して光位置検出素子731のA点で受光される。一方、被加工物Wの高さ位置が図11において2点鎖線で示す位置である場合には、発光素子721から投光レンズ722を通して被加工物Wの表面に照射されたレーザー光線は2点鎖線で示すように反射し、受光レンズ732を通して光位置検出素子731のB点で受光される。このようにして光位置検出素子731が受光したデータは、後述する制御手段に送られる。そして、後述する制御手段は光位置検出素子731によって検出されたA点とB点との間隔Hに基づいて、被加工物Wの高さ位置の変位hを演算する(h=H/sin α)。従って、上記チャックテーブル36に保持された被加工物Wの高さ位置の基準値が図11において1点鎖線で示す位置である場合、被加工物Wの高さ位置が図11において2点鎖線で示す位置に変位した場合には、高さhだけ下方に変位したことが判る。
図12には、被加工物としての半導体ウエーハの斜視図が示されている。図12に示す半導体ウエーハ20は、シリコンウエーハからなる半導体基板21の表面21aに格子状に配列された複数の分割予定ライン(加工予定ライン)211(複数の分割予定ラインは互いに平行に形成されている)によって複数の領域が区画され、この区画された領域にIC、LSI等の回路212が形成されている。
制御手段10は、先ずステップS1において高さ位置検出手段7からの検出信号に基づいて半導体ウエーハ20の分割予定ライン211に沿った高さ位置の基準位置との変位hを演算する(h=H/sin α)。次に、制御手段10はステップS2に進んで、上記図8に示す制御マップに基づいて上記ステップS1で求めた上記変位hに対応する第1のレンズ61の集光点Qから第2のレンズ62までの光路長d1を求める。そして、制御手段10はステップS3に進んで、ステップS2で求めた上記変位hに対応する第1のレンズ61の集光点Qから第2のレンズ62までの光路長d1と第2のレンズ62の焦点距離f1(図示の実施形態においては12.7mm)との変位Δd1を演算する(Δd1=f1−d1)。次に、制御手段10はステップS4に進んで、上記図7に示す制御マップに基づいて上記ステップS3で求めた上記変位Δd1に対応する上記第1のミラー手段630と第2のミラー手段640の設置角度θを求める。
レーザー :YVO4 パルスレーザー
波長 :1064nm
繰り返し周波数 :100kHz
集光スポット径 :φ1μm
加工送り速度 :100mm/秒
レーザー :YVO4 パルスレーザー
波長 :355nm
繰り返し周波数 :100kHz
集光スポット径 :φ3μm
加工送り速度 :60mm/秒
図16に示す第2の実施形態における集光点変移手段6は、第1のレンズ61aに凹レンズを用いたもので、その他の構成は上記図4および図5に示した集光点変移手段6と実質的に同一である。図16に示す第2の実施形態における集光点変移手段6は、第1のレンズ61aの集光点Qがパルスレーザー光線発振手段54側となり、また、第2のレンズ62の焦点f1が第1のレンズ61aよりパルスレーザー光線発振手段54側となる。このように構成された集光点変移手段6は、第1のレンズ61aの集光点Qから第2のレンズ62までの光路長d1と、第2のレンズ62から対物集光レンズ552bまでの光路長d2と、対物集光レンズ552bによって集光されるレーザー光線の集光点位置Pまでの距離d3は図16に示すとおりとなり、対物集光レンズ552bによって集光されるレーザー光線の集光点位置Pまでの距離d3は上記数式1によって求められる。
図17に示す第3の実施形態における集光点変移手段6は、パルスレーザー光線発振手段54と光路長変移手段63との間に配設されるレンズ6bに図4および図5に示した集光点変移手段6における第1のレンズ61と第2のレンズ62の機能を持たせるとともに、変更ミラー手段630bに図4および図5に示した集光点変移手段6における第1の偏向ミラー手段630と第2の偏向ミラー手段640の機能を持たせたものである。そして、パルスレーザー光線発振手段54とレンズ6bとの間に例えばレーザー光線のP偏光を反射しS偏光のみを通過させる第1の偏向ビームスプリッタ66を配設し、光路長変移手段63を構成する偏向ミラー手段630bと第1の反射ミラー650との間にレーザー光線のP偏光を反射しS偏光のみを通過させる第の2偏向ビームスプリッタ67を配設するとともに、第2の反射ミラー651と第の2偏向ビームスプリッタ67との間にレーザー光線のS偏光をP偏光に変換する偏光板或いはファラデーローテータ等の偏向面回転子68を配設している。
3:チャックテーブル機構
31:案内レール
36:チャックテーブル
4:レーザー光線照射ユニット支持機構
41:案内レール
42:可動支持基台
5:レーザー光線照射ユニット
51:ユニットホルダ
52:レーザー光線加工手段(加工手段)
55:加工ヘッド
551:偏向ミラー手段
552:集光器
6:集光点変移手段
61:第1のレンズ
62:第2のレンズ
63:光路長変移手段
630:第1の偏向ミラー手段
631:第1のミラー
632:第2のミラー
640:第2の偏向ミラー手段
641:第3のミラー
642:第4のミラー
7:高さ位置検出手段
72:発光手段
73:受光手段
8:アライメント手段
10:制御手段
20:半導体ウエーハ
21:半導体基板
210:変質層
211:分割予定ライン(加工予定ライン)
212:回路
Claims (4)
- 被加工物を保持するチャックテーブルと、レーザー光線発振手段と該レーザー光線発振手段によって発振されたレーザー光線を集光して該チャックテーブルに保持された被加工物に照射するための対物レンズを備えた集光器とを有するレーザー光線照射手段と、該チャックテーブルと該レーザー光線照射手段とを加工送り方向に相対移動せしめる加工送り手段と、を具備するレーザー加工装置において、
該レーザー光線発振手段と該対物レンズとの間に該対物レンズが集光するレーザー光線の集光点位置を変移させる集光点変移手段が配設されており、
該集光点変移手段は、該レーザー光線発振手段によって発振されたレーザー光線を透過する第1のレンズと、該第1のレンズを透過したレーザー光線を透過する第2のレンズと、該第1のレンズと該第2のレンズとの間の光路長を変移せしめる光路長変移手段とを備えている、
ことを特徴とするレーザー加工装置。 - 該光路長変移手段は、該第1のレンズを透過したレーザー光線を反射偏向する第1のミラーと、該第1のミラーで反射したレーザー光線を反射偏向する第2のミラーと、該第1のミラーと該第2のミラーの設置角度を調整する角度調整アクチュエータとからなる第1の偏向ミラー手段と、
該第1のミラー手段の該第2のミラーで反射したレーザー光線を反射偏向する第3のミラーと、該第3のミラーで反射したレーザー光線を反射偏向する第4のミラーと、該第3のミラーと該第4のミラーの設置角度を調整する角度調整アクチュエータとからなる第2の偏向ミラー手段と、によって構成されている、請求項1記載のレーザー加工装置。 - 該第1の偏向ミラー手段の該第1のミラーと該第2のミラーは所定の間隔をもって互いに平行に配設され、該第2の偏向ミラー手段の該第3のミラーと該第4のミラーは所定の間隔をもって互いに平行に配設されている、請求項2記載のレーザー加工装置。
- 該チャックテーブルに保持された被加工物の上面における該集光器から照射されるレーザー光線の照射領域の高さ位置を検出する高さ位置検出手段と、該高さ位置検出手段によって検出された高さ位置信号に基づいて該角度調整アクチュエータを制御する制御手段と、を具備している、請求項2又は3記載のレーザー加工装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004131350A JP4299185B2 (ja) | 2004-04-27 | 2004-04-27 | レーザー加工装置 |
US11/113,156 US7459655B2 (en) | 2004-04-27 | 2005-04-25 | Laser beam processing machine |
DE102005019358A DE102005019358B4 (de) | 2004-04-27 | 2005-04-26 | Laserstrahl-Bearbeitungsmaschine |
CNB2005100670432A CN100479969C (zh) | 2004-04-27 | 2005-04-27 | 激光束加工设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004131350A JP4299185B2 (ja) | 2004-04-27 | 2004-04-27 | レーザー加工装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005313182A JP2005313182A (ja) | 2005-11-10 |
JP4299185B2 true JP4299185B2 (ja) | 2009-07-22 |
Family
ID=35135400
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004131350A Expired - Lifetime JP4299185B2 (ja) | 2004-04-27 | 2004-04-27 | レーザー加工装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7459655B2 (ja) |
JP (1) | JP4299185B2 (ja) |
CN (1) | CN100479969C (ja) |
DE (1) | DE102005019358B4 (ja) |
Families Citing this family (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4075893B2 (ja) * | 2004-05-21 | 2008-04-16 | セイコーエプソン株式会社 | 水晶振動子の製造方法、その装置及び水晶振動子 |
JP4734101B2 (ja) * | 2005-11-30 | 2011-07-27 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
US20070155131A1 (en) * | 2005-12-21 | 2007-07-05 | Intel Corporation | Method of singulating a microelectronic wafer |
JP4813993B2 (ja) * | 2006-07-05 | 2011-11-09 | 株式会社ディスコ | ウエーハのレーザー加工方法 |
JP4977411B2 (ja) * | 2006-07-06 | 2012-07-18 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
JP2008068270A (ja) * | 2006-09-12 | 2008-03-27 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工装置 |
US9044824B2 (en) * | 2006-10-30 | 2015-06-02 | Flemming Ove Olsen | Method and system for laser processing |
JP4959318B2 (ja) * | 2006-12-20 | 2012-06-20 | 株式会社ディスコ | ウエーハの計測装置およびレーザー加工機 |
JP5133568B2 (ja) * | 2007-01-11 | 2013-01-30 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
JP5248825B2 (ja) * | 2007-09-06 | 2013-07-31 | 株式会社ディスコ | チャックテーブルに保持された被加工物の高さ位置検出装置 |
JP2009152288A (ja) * | 2007-12-19 | 2009-07-09 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | レーザーダイシング装置及びダイシング方法 |
US9446478B2 (en) * | 2010-03-24 | 2016-09-20 | Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg | Device for applying laser radiation and device for reproducing a linear light distribution |
TWI543264B (zh) * | 2010-03-31 | 2016-07-21 | 應用材料股份有限公司 | 雷射光束定位系統 |
CA2796369A1 (en) * | 2010-04-13 | 2011-10-20 | National Research Council Of Canada | Laser processing control method |
JP2011253866A (ja) * | 2010-06-01 | 2011-12-15 | Disco Abrasive Syst Ltd | 分割方法 |
JP5518612B2 (ja) * | 2010-07-20 | 2014-06-11 | 株式会社ディスコ | 光学装置およびこれを備えるレーザー加工装置 |
JP2012223797A (ja) * | 2011-04-20 | 2012-11-15 | Japan Transport Engineering Co | レーザ加工装置 |
CN102825383B (zh) * | 2012-07-19 | 2014-10-29 | 宁海县盛源激光科技有限公司 | 一种数控半导体激光加工机床 |
DE102012111098B4 (de) | 2012-11-19 | 2016-03-03 | Scanlab Ag | Divergenzänderungsvorrichtung |
JP6250329B2 (ja) * | 2013-08-19 | 2017-12-20 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
CN103831535B (zh) * | 2014-03-21 | 2015-06-24 | 武汉市进驰激光设备制造有限公司 | 激光加工拼花机 |
DE102014108259A1 (de) * | 2014-06-12 | 2015-12-17 | Scanlab Ag | Vorrichtung zur Lasermaterialbearbeitung |
JP6406956B2 (ja) * | 2014-09-25 | 2018-10-17 | 株式会社ディスコ | 切削装置 |
WO2018047823A1 (ja) * | 2016-09-09 | 2018-03-15 | 三菱電機株式会社 | レーザ加工装置 |
KR20180111089A (ko) * | 2017-03-31 | 2018-10-11 | 주식회사 탑 엔지니어링 | 레이저 스크라이브 장치 |
CN107234343B (zh) * | 2017-07-14 | 2018-09-14 | 中国科学院微电子研究所 | 一种激光加工晶圆的方法及装置 |
CN109317838B (zh) * | 2018-12-19 | 2020-12-11 | 哈尔滨理工大学 | 一种激光辅助加工内孔的刀具及调整激光入射角度的方法 |
CN110681991B (zh) * | 2019-09-25 | 2021-05-18 | 清华大学 | 一种基于光程可变的多反射镜激光动态聚焦系统 |
CN112059411A (zh) * | 2020-09-30 | 2020-12-11 | 江阴丽晶电子科技有限公司 | 一种方便移动的轻便型动态聚焦旋光模组 |
CN112296537B (zh) * | 2020-10-23 | 2022-05-17 | 中国空气动力研究与发展中心高速空气动力研究所 | 一种转捩带切割激光发射对位装置 |
JP2022077223A (ja) * | 2020-11-11 | 2022-05-23 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
JP2023102429A (ja) | 2022-01-12 | 2023-07-25 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
JP2023109372A (ja) | 2022-01-27 | 2023-08-08 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5577042A (en) * | 1978-12-06 | 1980-06-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Optical information recording and reproducing device |
JPS63180801A (ja) * | 1987-01-23 | 1988-07-25 | Nikon Corp | アライメント装置 |
US4806728A (en) * | 1988-02-01 | 1989-02-21 | Raytheon Company | Laser process apparatus |
JPH0215887A (ja) * | 1988-06-30 | 1990-01-19 | Toshiba Corp | レーザマーキング装置 |
JP2608801B2 (ja) * | 1989-09-14 | 1997-05-14 | 旭光学工業株式会社 | 走査式光学装置 |
US5115355A (en) * | 1990-11-27 | 1992-05-19 | Thermo Electron Technologies Corp. | Compact coude optics system |
DE4217705C2 (de) * | 1992-06-01 | 1995-04-20 | Diehl Gmbh & Co | Einrichtung zur Materialbearbeitung |
JP2824375B2 (ja) * | 1993-01-18 | 1998-11-11 | 三菱電機株式会社 | 光遅延回路 |
JP2532818B2 (ja) * | 1993-02-01 | 1996-09-11 | 松下電器産業株式会社 | 対物レンズおよび光ヘッド装置 |
CN2216443Y (zh) * | 1994-07-18 | 1996-01-03 | 王佛性 | 激光加工机的变焦距光学聚焦系统 |
JPH08122272A (ja) * | 1994-10-25 | 1996-05-17 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 液晶カラーフィルタの検査装置 |
US5561544A (en) * | 1995-03-06 | 1996-10-01 | Macken; John A. | Laser scanning system with reflecting optics |
JPH08329488A (ja) * | 1995-05-30 | 1996-12-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 焦点ズレ補正装置 |
JP3062099B2 (ja) * | 1996-02-06 | 2000-07-10 | 日本電気株式会社 | 光ヘッド装置 |
DE19782307B4 (de) * | 1997-12-26 | 2006-11-30 | Mitsubishi Denki K.K. | Laserbearbeitungsgerät |
CN1124917C (zh) * | 1997-12-26 | 2003-10-22 | 三菱电机株式会社 | 激光加工装置 |
JP2000348370A (ja) * | 1999-06-04 | 2000-12-15 | Hitachi Ltd | 原盤露光装置 |
US6417485B1 (en) * | 2000-05-30 | 2002-07-09 | Igor Troitski | Method and laser system controlling breakdown process development and space structure of laser radiation for production of high quality laser-induced damage images |
ATE333659T1 (de) * | 2000-08-29 | 2006-08-15 | Perkin Elmer Int Cv | Optisches system mit veränderlicher vergrösserung |
JP3408805B2 (ja) | 2000-09-13 | 2003-05-19 | 浜松ホトニクス株式会社 | 切断起点領域形成方法及び加工対象物切断方法 |
JP3626442B2 (ja) * | 2000-09-13 | 2005-03-09 | 浜松ホトニクス株式会社 | レーザ加工方法 |
DE10045973A1 (de) * | 2000-09-16 | 2002-04-04 | Bosch Gmbh Robert | Optische Vorrichtung zum Bohren mittels Laserstrahl |
JP2002126888A (ja) * | 2000-10-23 | 2002-05-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レーザ加工装置およびその制御方法 |
JP2003168655A (ja) | 2001-12-03 | 2003-06-13 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ダイシング装置 |
DE10201476B4 (de) * | 2002-01-16 | 2005-02-24 | Siemens Ag | Laserbearbeitungsvorrichtung |
JP2004117496A (ja) | 2002-09-24 | 2004-04-15 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 全方位撮像装置、全方位撮像方法、プログラムおよびこのプログラムを記録した記録媒体 |
-
2004
- 2004-04-27 JP JP2004131350A patent/JP4299185B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-04-25 US US11/113,156 patent/US7459655B2/en active Active
- 2005-04-26 DE DE102005019358A patent/DE102005019358B4/de active Active
- 2005-04-27 CN CNB2005100670432A patent/CN100479969C/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7459655B2 (en) | 2008-12-02 |
US20050236381A1 (en) | 2005-10-27 |
DE102005019358A1 (de) | 2006-01-12 |
CN100479969C (zh) | 2009-04-22 |
CN1689750A (zh) | 2005-11-02 |
JP2005313182A (ja) | 2005-11-10 |
DE102005019358B4 (de) | 2012-03-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070305 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090409 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090416 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4299185 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120424 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120424 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130424 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130424 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130424 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140424 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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|
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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