JP4299052B2 - 超薄膜形成方法 - Google Patents
超薄膜形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4299052B2 JP4299052B2 JP2003125744A JP2003125744A JP4299052B2 JP 4299052 B2 JP4299052 B2 JP 4299052B2 JP 2003125744 A JP2003125744 A JP 2003125744A JP 2003125744 A JP2003125744 A JP 2003125744A JP 4299052 B2 JP4299052 B2 JP 4299052B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- film
- ultra
- thin film
- mist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、プラスチック成形品、例えばフィルム、シート、カード、板、繊維、型もの、等種々の形態の成形品の表面に、滑剤、帯電防止剤、防曇剤、紫外線吸収剤、接着剤、表面硬化剤、触媒、離型剤等の表面改質剤を塗布して、超薄膜を形成させる方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、滑剤等の表面改質剤の溶液を、多数の微粒子からなるミストにし、これらのミストをプラスチック成形品等の被処理物に噴霧して、微粒子を被処理物の表面に付着させ、表面改質剤から成る薄膜を形成する方法が開発され、使用されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記表面改質剤の溶液の粒子が被処理物に付着した後、粒子が凝集してしまい均一で連続した膜が得られなかった。均一で連続した膜を得ようとすると膜が厚くなり、膜が厚いと、膜が動いたりして不安定となり、経時変化が早く、効果がすぐになくなってしまう恐れがあった。このため、当該被処理物表面にこれらの上から印刷を施したり、他物を塗装すると、膜のある部分とない部分とでは、印刷や塗装の密着強度に差が生じ、印刷や塗装が剥がれ易い場合があった。このように均一で、連続した薄膜を形成するのは非常に困難であった。
【0004】
そこでこの発明は、これらの欠点を改善し、プラスチック成形品の表面に表面改質剤のより均一で連続した超薄膜を形成可能にした、超薄膜の形成方法を提供することを目的としたものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
請求項1項の発明は、プラスチック成形品の表面に表面改質剤の超薄膜を形成する方法において、上記表面改質剤を主剤とした溶液から成る第1液を粒径を均一化したミストにして、上記表面に噴霧し、当該表面に上記第1液の多数の微粒子を点在させ、これらの微粒子を半乾燥させた後、上記第1液の主剤の入っていない溶媒又は主剤が入っていても第1液より含有率の小さい溶液から成る第2液を粒径を均一化したミストにして、上記表面に噴霧し、これらを完全乾燥させることにより上記成形品の表面に上記表面改質剤からなる均一で連続した超薄膜を形成する、超薄膜形成方法とした。
また、請求項2の発明は、上記請求項1の発明において、上記表面改質剤を主剤とした溶液から成る第1液を粒径を均一化したミストにして、プラスチック成形品の表面に噴霧する前に、当該成形品の表面の帯電を除去し、クリーンな表面にしてから、上記第1液を噴霧する方法とした。
また、請求項3の発明は、上記請求項1又は2の発明において、上記第2液の噴霧を複数回行う超薄膜塗布方法とした。
【0006】
【発明の実施の形態】
以下この発明の実施の形態例を図に基づいて説明する。
プラスチック成形品の表面に滑膜を形成させる場合について述べる。
まず、好ましくは処理しようとする成形品の帯電を何らかの方法で除去し、帯電による影響のない状態にし、当該被処理物1の表面をクリーンな状態にする。
これには、水及びアルコール類、又は場合によっては微量の帯電防止剤を被処理物にミストの噴霧やロールにより塗布することにより、除電する。さらにこれを洗浄するか、エアーの吹き付け又は吸引によりチリやホコリを除去する。これにより被処理物の表面は電気力線の影響を受けないクリーンな状態になる。上記アルコール類は被処理物表面のぬれ性を良くし、表面張力を下げる。勿論上記帯電防止剤には被処理物の表面張力を下げる働きがあるものもある。
また、滑剤から成る水溶液(アルコールを含有するばあいもある)を1〜8%に調合し第1液とする。第1液の濃度は1〜8%の範囲とし、好ましくは5%で、1平方メートル当たり、0.05〜2mlの塗布にすると良い。また、この第1液の主剤である滑剤が入っていない溶媒、又は主剤である滑剤が入っていても第1液より少ない含有率の液を第2液として用意する。
【0007】
そして図1に示すように、上記被処理物1をベルトコンベヤー2に乗せ、ヒーター3で当該被処理物1を30〜50°Cに温め、それから伏せ椀状の第1チャンバー4の下に移動させる。そこで上記第1液を、粒径20μ前後の均一な微粒子のミストにして、第1チャンバー4内の奥部からノズル4aにより上記被処理物1に向けて噴霧する。その際、第1チャンバー4の外側に設けた電磁波発生装置5により、これらのミストに第1チャンバー4の内側壁から電磁波をあてて、当該第1チャンバー4内を45〜80°Cに温め、各粒子の含有水分の気化を促進させ、微粒化を進めながら上記被処理物1の表面に各微粒子を付着させる。なお、この電磁波発生装置5に代えて、熱線発生装置、又は超音波発生装置を設け、熱線又は超音波を照射する場合もある。
【0008】
このとき図2に示すように、各微粒子は外径が3〜30μmの円盤状膜11となり、厚さも0.1〜10μmのもが多く、これらの円盤状膜11は略等間隔で被処理物1の表面に点在することとなる。その後、被処理物1はベルトコンベヤー2によって移動し、ヒーター6の温風又は熱線で温められ、乾燥する。これにより、これらの円盤状膜11は被処理物1との接着面は含水量が多く、その外表面は乾燥が始まり、次第に含水量は少なくなってくる。そして、各円盤状膜11の滑剤は部分的に被処理物1の表面に固定される。
【0009】
このように第1液の各円盤状膜11が半乾燥状態になった時に、被処理物1を伏せ椀状の第2チャンバー7の下に移動させる。被処理物1を上記第2液を粒径20〜50μm前後の均一な微粒子のミストにして、第1チャンバー4内の奥部からノズル4aにより上記被処理物1に向けて噴霧する。その際、第2チャンバー7の外側に設けた電磁波発生装置8により、これらのミストに第2チャンバー7の内側壁から電磁波をあてて、当該第2チャンバー7内を50°±15°Cに温め、各粒子の含有水分の気化を促進させ、微粒化を進めながら上記被処理物1の表面に各微粒子を付着させる。また、その際の被処理物1の表面温度を20〜50°Cにしておく。
【0010】
このようにして第2液の各微粒子を図3に示すように、被処理物1の表面の第1液の円盤状膜11と円盤状膜11との間、又は第1液の円盤状膜11の上に付着させる。これにより、この第2液の各微粒子12は既に付着した第1液の円盤状膜11と接触したものは、既に付着した第1液の円盤状膜11を再び溶かして延伸させ、第1液の円盤状膜11と円盤状膜11との間に付着した第2液の微粒子12と結合し、その後、ベルトコンベヤー2によって被処理物1を移動させ、ヒーター9による温風、熱線の照射により、溶媒の気化が進み、凝集して集合体とはならずに完全に乾燥する。これにより、図4に示したように、被処理物1の表面には、均一に連続した滑剤の超薄膜13が形成される。この超薄膜13の厚さは0.01〜5μmであり、光の波長より薄い膜の場合もある。
【0011】
上記第2液の噴霧工程、即ち、溶解作用と延伸、気化(蒸発)による膜形成、において、膜の均一性を維持しながら各工程が進行するようにするためには、第1液の円盤状膜11が微細で数が多いほうが安定した庁膜の形成、固化が行われる。また、溶液における滑剤の含有率により円盤状膜の大きさ(径)、厚さは異なる。また、上記第1チャンバー4内又は第2チャンバー7内の温度と被処理物1の表面の温度差は30°C以内で(理想的には10°C前後が好ましい)、被処理物のガラス点(TG点)以下であることが要求される。温度差がありすぎると溶媒が気化しにくいので、膜の形成が遅れ、膜が広がらない。また、上記実施の形態例は、ベルトコンベヤー2による連続式の表面改質剤の超薄膜形成装置であるが、この発明はこれらに限らず、バッチ式のものでも使用できる。
また、上記実施の形態例では、滑剤の超薄膜を形成させる方法を示したが、滑剤に限らず、防曇剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、接着剤、表面硬化剤、触媒、離型剤等、他のすべての表面改質剤においても、同様の方法で行うことが出来る。
また、上記実施の形態例では、第1液を塗布する前に、被処理物の帯電を除去し、ホコリを取り去ってクリーンな状態にしてから処理しているが、この前処理はこの発明の必須条件ではない。また、上記実施の形態例では、第2液を一回噴霧しているが、一回に限らず、数回にわたって噴霧しても良い。
【0012】
【発明の効果】
請求項1又は3の発明の方法によれば、表面改質剤の溶液を噴霧するにあたり、その必要量を円盤状膜として均一に点在させた後、同質溶剤で展開延伸することにより、従来のミストによる表面改質剤の膜形成において得られなかった、均一で連続した超薄膜が容易、確実に得られる。従って、表面改質剤の均一で安定した機能が長期にわたって得られる。
請求項2の発明の方法によれば、上記請求項1の発明の効果に加え、処理する前の、被処理物の帯電を除去することにより、電気力線によるホコリやチリの付着力がなくなり、クリーンな表面に表面改質剤の超薄膜を形成するため、出来上がった表面改質剤の超薄膜は、被処理物表面への密着度がより良く、耐久性の一段と優れたものが得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施の形態例の処理工程を示す、側面図である。
【図2】この発明の実施の形態例の第1液の付着した状態を示す図であり、A図は平面図、B図は側面断面図る。
【図3】この発明の実施の形態例の第2液の付着した状態を示す図であり、A図は平面図、B図は側面断面図る。
【図4】この発明の実施の形態例による被処理物表面に超薄膜が形成された状態を示す側面断面図である。
【符号の説明】
1 被処理物 2 ベルトコンベヤー
3 ヒーター 4 第1チャンバー
5 電磁波発生装置 6 ヒーター
7 第2チャンバー 8 電磁波発生装置
9 ヒーター 11 円盤状膜
12 微粒子 13 超薄膜
Claims (3)
- プラスチック成形品の表面に表面改質剤の超薄膜を形成する方法において、上記表面改質剤を主剤とした溶液から成る第1液を粒径を均一化したミストにして、上記表面に噴霧し、当該表面に上記第1液の多数の微粒子を点在させ、これらの微粒子を半乾燥させた後、上記第1液の主剤の入っていない溶媒又は主剤が入っていても第1液より含有率の小さい溶液から成る第2液を粒径を均一化したミストにして、上記表面に噴霧し、これらを完全乾燥させることにより上記成形品の表面に上記表面改質剤からなる均一で連続した超薄膜を形成することを特徴とする、超薄膜形成方法。
- 上記表面改質剤を主剤とした溶液から成る第1液を粒径を均一化したミストにして、プラスチック成形品の表面に噴霧する前に、当該成形品の表面の帯電を除去し、クリーンな表面にし、上記第1液を噴霧することを特徴とする、請求項1に記載の超薄膜形成方法。
- 上記第2液の噴霧を、複数回行うことを特徴とする、請求項1又は2に記載の超薄膜形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003125744A JP4299052B2 (ja) | 2003-04-30 | 2003-04-30 | 超薄膜形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003125744A JP4299052B2 (ja) | 2003-04-30 | 2003-04-30 | 超薄膜形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004329996A JP2004329996A (ja) | 2004-11-25 |
JP4299052B2 true JP4299052B2 (ja) | 2009-07-22 |
Family
ID=33502916
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003125744A Expired - Fee Related JP4299052B2 (ja) | 2003-04-30 | 2003-04-30 | 超薄膜形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4299052B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5411765B2 (ja) * | 2010-03-24 | 2014-02-12 | 富士フイルム株式会社 | 薄膜の作製方法 |
JP6455746B2 (ja) * | 2017-04-06 | 2019-01-23 | 株式会社北陸濾化 | 基材層表層への機能層の形成方法及び形成装置 |
US20240100562A1 (en) * | 2021-01-29 | 2024-03-28 | The Japan Steel Works, Ltd. | Method of Manufacturing Coat Body and Apparatus of Manufacturing Coat Body |
-
2003
- 2003-04-30 JP JP2003125744A patent/JP4299052B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004329996A (ja) | 2004-11-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2000239046A (ja) | ガラス基体面保護方法 | |
KR20020000792A (ko) | 제거될 수 있는 자정 표면을 제조하는 방법 | |
US20080292788A1 (en) | Methods to Produce Stretchable Products | |
EP0099727A3 (en) | Method and apparatus for the polymer coating of substrates | |
JP2010506666A5 (ja) | ||
JP2001505965A (ja) | 薄壁エラストマー製品を製造するための方法および装置 | |
WO2000058023A3 (en) | Spin and spray coating process and articles manufactured by this process | |
JP5663395B2 (ja) | 高分子超薄膜の製造方法及び高分子超薄膜の製造装置 | |
JP4299052B2 (ja) | 超薄膜形成方法 | |
JPH0418297B2 (ja) | ||
JP4299051B2 (ja) | カード又はカード材料への超薄膜形成方法 | |
JP2008049443A (ja) | 半導体ウエハの研磨プレートへの貼り付け方法 | |
CA2076670A1 (en) | Powder coating system | |
JPH02207870A (ja) | 超薄膜積層体の製法 | |
CN113561674B (zh) | 一种塑胶产品表面纹理的制作方法及塑胶产品 | |
JP2744498B2 (ja) | ポリビニルアセタール系樹脂多孔体の表面処理方法 | |
JPH095983A (ja) | マスク保護装置のペリクル枠とその製造方法 | |
JP2614322B2 (ja) | 環状フィルムの製造方法 | |
JPS5962366A (ja) | 塗布法 | |
JPS62280751A (ja) | 印刷配線板の現像方法 | |
KR101930259B1 (ko) | 광 추출용 주름구조체 제조방법 | |
US11400507B2 (en) | Method for increasing the plastic deformability of a workpiece using an absorption agent | |
JP2001329086A (ja) | 帯電防止処理したプラスチックス成形品 | |
JP2002088315A (ja) | コーティング組成物および被コーティング物 | |
JP2598307B2 (ja) | 帯電防止効果を増大させた粉体及び粉体塗布物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060501 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080926 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081007 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090324 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090416 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4299052 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120424 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130424 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140424 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |