JP4297645B2 - プローブ解析システムのブロードバンド設計 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、一般に、半導体プラズマエッチングに関する。詳細には、本発明は、ブロードバンド設計を有する無線周波数(RF)プローブ解析システムに関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体産業において、プラズマエッチングは、半導体回路の製造者にとって欠くことができないものである。実際には、比較的直線的な垂直エッジが必要とされる場合、エッチャが半導体加工においてよく使用されている。例えば、MOSトランジスタのポリシリコンゲートをエッチングする場合、ポリシリコンのアンダーカットは、トランジスタの動作に悪影響を与えるかもしれない。液体エッチング法を用いる場合、アンダーカットがよく生じる。結果として、プラズマエッチングなどの他のエッチング技術が開発されてきた。電場によって加速されるイオンを使用するプラズマエッチングは、水平に曝された表面のみをエッチングする傾向があり、それによって、アンダーカットを避ける。
【0003】
効率的にプラズマエッチングプロセス(および任意の他のプラズマプロセス)を実行するために、プラズマチャンバに送達される電力を制御することがきわめて望ましいと考えられてきた。実際には、エッチングプロセスの複雑さが増すにつれて、±1%もの高い精度で電力を制御するという厳しい要件が誘起されている。したがって、電力送達システムに加えて、一般的には、閉ループ制御システムを使用して、実際にチャンバに送達されている電力量をモニタする。
【0004】
したがって、図7は、エッチングなどのプラズマプロセスを実行する目的で、RF電力をプラズマチャンバ13に供給する従来の構成を示す。一般に、閉ループ制御システム15はRF電力をモニタし、電力送達システム11に多様な制御信号を供給する。
【0005】
制御システム15に対する従来のアプローチでは、多くの理由で、現代プラズマプロセスの厳しさが増していく許容差要件に適合させることができなかった。ある特定の理由は、RF電力が一般に複数の基本周波数および対応する倍音(harmonic tone)を有することである。例えば、チャンバ13に印加される電圧は、2MHzと27MHzとの両方で基本周波数を有し得る。同じことが電流にもあてはまる。2MHz信号は、4MHz、6MHz、8MHzなどの高調波を有する。27MHz信号は、25MHz、23MHzなどの相互変調生成物を有する。これは、これらの周波数の全てに存在するエネルギー量を知るためには、チャンバ13に送達される電力をしっかりと制御する必要があるから重要である。例えば、これらの周波数の各々において瞬時的な電力の量を表すデジタルスペクトル信号により、電力送達システム11が、固有周波数ごとに、多様な内部パラメータを調整し得る。他の有用な信号は、デジタル振幅信号とデジタル位相信号とを含む。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の閉ループ制御システム15は、特定の信号を相互変調信号(例えば、対象の信号の周波数より10kHz大きい信号)とそれぞれ混合することによって、対象の周波数の各々を処理するサンプリングユニットを有する。その混合の結果、10kHzにおいて2次の相互変調生成物が生じ、オーディオグレードデジタイザを用いてこの生成物をサンプリングする。したがって、その結果は、(複数のデジタイザによって生成される)複数のデジタル電力信号であり、ここで、各デジタル電力信号は混合周波数信号に対応する。多くの基本周波数および高調波周波数が存在し、サンプリングユニットが極めて複雑で高価になるかもしれない上記の例を理解することが容易である。さらに、高調波を同時にトラッキングするという要求は、このアプローチのもとでは十分に満たすことができない。
【0007】
従来の制御システム15に関連する別の困難性は、(インピーダンス整合を向上させるための)周波数同調が半導体産業において一般的になっているという事実に関連する。したがって、基本周波数の従来の理解では、基本周波数を予め決定することですら困難であることもある。さらに、チャンバへのパルス電力が一般的であると想起され、それにより、従来のアプローチのもとでは達成できない、サンプリング回路の応答時間が必要とされる。
【0008】
RF信号をデジタル電力信号にデジタル化した後、高速フーリエ変換(FFT)は、それぞれの周波数に対してサンプリングされた電圧信号およびサンプリングされた電流信号から形成された複雑な複合信号に対して実行される。また、そのようなアプローチに関する処理オーバーヘッドは、周波数の個々の処理に起因して、極めて高い。さらに、従来のアプローチは、一般的には、アナログ回路を使用する。アナログ回路は、本質的に、非線形位相応答を備えたフィルタを有し、許容差のエージングおよびドリフトに対する回復性に欠ける。特にチャネル−チャネル整合に関して、従来の設計は、許容差、エージング、ドリフトまたは較正を回復するシステムを提供しないようにできている。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明の無線周波数(RF)プローブ解析システムは、複数のアナログ信号に基づいてデジタル電力信号を生成するサンプリングユニットは、該アナログ信号はRF電力送達システムからプラズマチャンバまで送達される電力を特徴づける、サンプリングユニットと、該デジタル電力信号に基づいてデジタルスペクトル信号を生成するためのデジタル処理ユニットとを備え、該サンプリングユニットは、該アナログ信号から第1の複数の周波数を同時にサンプリングし、それにより、該デジタルスペクトル信号が該第1の複数の周波数の信号レベルを規定する。
【0010】
前記アナログ信号は、アナログ電圧信号とアナログ電流信号とを含み、前記サンプリングユニットは、該アナログ電圧信号と該アナログ電流信号とを第1の所定のバンド幅にバンド制限する第1のフィルタリングモジュールであって、該第1の所定のバンド幅は前記第1の複数の周波数を含む、第1のフィルタリングモジュールと、該第1のフィルタリングモジュールに結合された1次A/Dコンバータであって、該1次A/Dコンバータは、該アナログ電圧信号に基づいて第1のデジタル電圧信号を生成し、該アナログ電流信号に基づいて第1のデジタル電流信号を生成し、該第1のデジタル電圧信号と前記第1のデジタル電流信号とが前記デジタル電力信号を規定する、1次A/Dコンバータとを含み、該1次A/Dコンバータはデュアルチャネル機能を有し、それにより、該第1のデジタル電圧信号と該第1のデジタル電流信号とが同期化されてもよい。 前記第1のフィルタリングモジュールは、前記アナログ電圧信号をバンド制限するための第1のバンドパスフィルタと、前記アナログ電流信号をバンド制限するための第2のバンドパスフィルタとを含んでもよい。
【0011】
前記第1のデジタル電圧信号と前記第1のデジタル電流信号とを一時的に記憶するために、前記1次A/Dコンバータと前記デジタル処理ユニットとの間に配置される第1のメモリデバイスをさらに備えてもよい。
【0012】
前記サンプリングユニットは前記アナログ信号から第2の複数の周波数をさらに同時にサンプリングし、それにより、前記デジタルスペクトル信号は、該第2の複数の周波数の信号レベルをさらに規定されてもよい。
【0013】
前記サンプリングユニットは、前記アナログ電圧信号と前記アナログ電流信号とを第2の所定のバンド幅にバンド制限するための第2のフィルタリングモジュールであって、該第2の所定のバンド幅は、前記第2の複数の周波数を含む、第2のフィルタリングモジュールと、該第2のフィルタリングモジュールに結合された2次A/Dコンバータであって、該2次A/Dコンバータは、該アナログ電圧信号に基づいて第2のデジタル電圧信号を生成し、該アナログ電流信号に基づいて第2のデジタル電流信号を生成し、該第2のデジタル電圧信号と該第2のデジタル電流信号とが前記デジタル電力信号をさらに規定する、2次A/Dコンバータとをさらに含み、該2次A/Dコンバータはデュアルチャネル機能を有し、それにより、該第2のデジタル電圧信号と該第2のデジタル電流信号とが同期化されてもよい。
【0014】
前記第2のデジタル電圧信号と前記第2のデジタル電流信号とを一時的に記憶するために、前記2次A/Dコンバータと前記デジタル処理ユニットとの間に配置される第2のメモリデバイスをさらに備えてもよい。
【0015】
前記第2の複数の周波数は、第2の基本周波数と、該第2の基本周波数に対応する第2の複数の高調波周波数とを含んでもよい。
【0016】
前記デジタル処理ユニットは、前記第1の複数の周波数および前記第2の複数の周波数において前記デジタル電力信号を同時に処理するためのブロードバンドプロセッサを含んでもよい。
【0017】
前記ブロードバンドプロセッサは、ウィンドウ関数を前記デジタル電力信号に適用するためのウィンドウモジュールと、前記ウィンドウ化されたデジタル電力信号に基づいて、離散フーリエ変換(DFT)データを計算するための高速フーリエ変換(FFT)モジュールと、該DFTデータに基づいて、デジタル振幅信号とデジタル位相信号とを生成するためのデカルト‐極コンバータと、該DFTデータに基づいて、前記デジタルスペクトル信号を生成するための周波数弁別器とを含んでもよい。
【0018】
前記周波数弁別器は、前記DFTデータをアップサンプリングするための周波数補間器と、 該アップサンプリングされたDFTデータに基づいて、前記デジタルスペクトル信号のスペクトル分解能を増加させるための線形補間器フィルタとを含んでもよい。
【0019】
前記アナログ信号の信号レベルに基づいて、該アナログ信号の減衰を選択的に調整するためのスイッチングモジュールをさらに備えてもよい。
【0020】
前記デジタル処理ユニットからのディセーブル信号に基づいて、前記スイッチングモジュールを選択的にディセーブルするためのスイッチコントローラをさらに備えてもよい。
【0021】
前記デジタル電力信号は、デジタル電圧信号とデジタル電流信号とを含み、前記デジタル処理ユニットは、前記第1の複数の周波数において該デジタル電圧信号を処理するための第1のベースバンドプロセッサと、該第1の複数の周波数において該デジタル電流信号を処理するための第2のベースバンドプロセッサとを含み、各ベースバンドプロセッサは対応するデジタル電力信号を有してもよい。
【0022】
各ベースバンドプロセッサは、所定の混合周波数を有するデジタル混合信号を生成するためのデジタル周波数シンセサイザと、該デジタル混合信号に基づいて対応するデジタル電力信号をダウンコンバートし、それにより、前記第1の複数の周波数は、該所定の混合周波数にしたがって減少される、デジタル複合ミキサと、該デジタル複合ミキサに結合され、該デジタル電力信号のデータ品質を落とすデシメーションモジュールと、該デシメーションモジュールに結合され、該第1の複数の周波数の基本周波数に基づいて該デジタル電力信号をバンド制限するローパスフィルタと、該ローパスフィルタに結合され、該デジタル電力信号と所望なサンプリングレートとに基づいて、同相信号と直交信号を生成する、多相補間フィルタと、該多相補間フィルタに結合され、該同相信号と該直交信号とに基づいてデジタル振幅信号とデジタル位相信号とを生成するデカルト‐極コンバータと、該デカルト‐極コンバータに結合され、該デジタル位相信号に基づいて前記デジタルスペクトル信号を生成する、周波数デシメーションモジュールとを含んでもよい。
【0023】
前記第1の複数の周波数は、第1の基本周波数と、該第1の基本周波数に対応する第1の複数の高調波周波数とを含んでもよい。
【0024】
本発明による無線周波数(RF)プローブ解析システムのためのサンプリングユニットは、該サンプリングユニットは、アナログ電圧信号とアナログ電流信号とを第1の所定のバンド幅にバンド制限する第1のフィルタリングモジュールであって、該アナログ電圧信号と該アナログ電流信号とは、第1の複数の周波数を有し、該第1の所定のバンド幅は該第1の複数の周波数を含む、第1のフィルタリングモジュールと、該第1のフィルタリングモジュールに結合された1次A/Dコンバータであって、該1次A/Dコンバータは、該アナログ電圧信号に基づいて第1のデジタル電圧信号を生成し、該アナログ電流信号に基づいて第1のデジタル電流信号を生成する、1次A/Dコンバータとを備え、該1次A/Dコンバータはデュアルチャネル機能を有し、それにより、該第1のデジタル電圧信号と該第1のデジタル電流信号とが同期化される。
【0025】
前記第1の複数の周波数は、第1の基本周波数と、該第1の基本周波数に対応する第1の複数の高調波周波数とを含んでもよい。
【0026】
前記フィルタリングモジュールは、前記アナログ電圧信号をバンド制限するための第1のバンドパスフィルタと、前記アナログ電流信号をバンド制限するための第2のバンドパスフィルタとを含んでもよい。
【0027】
前記第1のデジタル電圧信号と前記第1のデジタル電流信号とを一時的に記憶するために、前記1次A/Dコンバータとデジタル処理ユニットとの間に配置される第1のメモリデバイスをさらに備えてもよい。
【0028】
前記アナログ電圧信号と前記アナログ電流信号とを第2の所定のバンド幅にバンド制限するための第2のフィルタリングモジュールであって、該アナログ電圧信号と該アナログ電流信号とは、第2の複数の周波数を有し、該第2の所定のバンド幅は、該第2の複数の周波数を含む、第2のフィルタリングモジュールと、該第2のフィルタリングモジュールに結合された2次A/Dコンバータであって、該2次A/Dコンバータは、該アナログ電圧信号に基づいて第2のデジタル電圧信号を生成し、該アナログ電流信号に基づいて第2のデジタル電流信号を生成する、2次A/Dコンバータとをさらに備え、該2次A/Dコンバータはデュアルチャネル機能を有し、それにより、該第2のデジタル電圧信号と該第2のデジタル電流信号とが同期化されてもよい。
【0029】
前記第2のデジタル電圧信号と前記第2のデジタル電流信号とを一時的に記憶するために、前記2次A/Dコンバータとデジタル処理ユニットとの間に配置される第2のメモリデバイスをさらに備えてもよい。
【0030】
前記第2の複数の周波数は、第2の基本周波数と、該第2の基本周波数に対応する第2の複数の高調波周波数とを含んでもよい。
【0031】
本発明によるプラズマチャンバに送達される無線周波数(RF)電力を解析するための方法であって、複数のアナログ信号から第1の複数の周波数を同時にサンプリングするステップであって、該アナログ信号は該チャンバに送達される該RF電力を特徴づける、ステップと、該アナログ信号に基づいてデジタル電力信号を生成するステップと、所定の混合周波数を有するデジタル混合信号を生成するステップと、該デジタル混合信号に基づいて該デジタル電力信号をダウンコンバートし、それにより、該第1の複数の周波数を該所定の混合周波数にしたがって減少するステップと、該デジタル電力信号のデータ品質を落とすステップと、該第1の複数の周波数の基本周波数に基づいて該デジタル電力信号をバンド制限するステップと、該デジタル電力信号と所望なサンプリングレートとに基づいて同相信号と直交信号とを生成するステップと、該同相信号と該直交信号とに基づいてデジタル振幅信号とデジタル位相信号とを生成するステップと、該デジタル位相信号に基づいてデジタルスペクトル信号を生成するステップと、該デジタルスペクトル信号は、該第1の複数の周波数の信号レベルを規定するステップとを包含する。
【0032】
前記アナログ信号から第2の複数の周波数を同時にサンプリングし、それにより、前記デジタルスペクトル信号が、該第2の複数の周波数の信号レベルをさらに規定するステップをさらに包含してもよい。
【0033】
上記目的および他の目的が、本発明による無線周波数(RF)プローブ解析システムによって提供される。(ブロードバンドスペクトル解析モードまたはブロードバンドデジタル混合モードのいずれかで動作する)プローブ解析システムは、複数のアナログ信号に基づいたデジタル電力信号を生成するためのサンプリングユニットを含む。アナログ信号は、RF電力送達システムからプラズマチャンバに送達される電力を特徴付ける。プローブ解析システムは、デジタル電力信号に基づいたデジタルスペクトル信号を生成するためのデジタル処理ユニットをさらに備える。サンプリングユニットは、アナログ信号から第1の複数の周波数(すなわち、バンド幅)を同時にサンプリングし、それにより、デジタルスペクトル信号は、第1の複数の周波数の信号レベルを規定する。したがって、サンプリングユニットはブロードバンドアーキテクチャを有し、プラズマチャンバに送達される電力の閉ループ制御のための従来のアプローチの許容差を改良する。
【0034】
さらに、本発明によれば、RFプローブ解析システムのサンプリングユニットが提供される。サンプリングユニットは、第1のフィルタリングモジュールと、1次アナログ−デジタル(A/D)コンバータとを有する。第1のフィルタリングモジュールは、第1の所定のバンド幅にアナログ電圧信号とアナログ電流信号とをバンド制限する。アナログ電圧信号およびアナログ電流信号は、第1の複数の周波数を有し、第1の所定のバンド幅は、第1の複数の周波数を含む。1次A/Dコンバータはフィルタリングモジュールに接続され、アナログ電圧信号に基づいて、第1のデジタル電圧信号を生成する。1次A/Dコンバータは、また、アナログ電流信号に基づいた第1のデジタル電流信号を生成する。1次A/Dコンバータは、デュアル(dual)チャネル機能を有し、それにより、第1のデジタル電圧信号と第1のデジタル電流信号とが同期化される。
【0035】
本発明の別の局面において、プラズマチャンバに送達されるRF電力を解析する方法が提供される。第1の複数の周波数は、複数のアナログ信号から同時にサンプリングされる。アナログ信号は、チャンバに送達されるRF電力を特徴付ける。方法は、アナログ信号に基づいてデジタル電力信号を生成し、所定の混合周波数を有するデジタル混合信号を生成する工程をさらに提供する。デジタル電力信号はデジタル混合信号に基づいてダウンコンバートされ、それにより、第1の複数の周波数は、所定の混合周波数にしたがって減少される。方法は、デジタル電力信号のデータの品質を落とす工程と、第1の複数の周波数の基本周波数に基づいてデジタル電力信号をバンド制限する工程とをさらに提供する。同相(I)信号および直交(Q)信号は、デジタル電力信号および所望なサンプリングレートに基づいて生成される。方法は、I信号およびQ信号に基づいて、デジタル振幅信号およびデジタル位相信号を生成する工程をさらに提供する。次いで、デジタルスペクトル信号は、デジタル位相信号に基づいて生成される。したがって、デジタルスペクトル信号は、第1の複数の周波数の信号レベルを規定する。
【0036】
上記の一般的な説明と以下の詳細な説明との両方は、本発明の例示にすぎず、特許請求の範囲に規定される本発明の本質および特徴を理解するための概要および骨組を提供すると意図されることが理解されるべきである。添付の図面が、本発明のさらなる理解を提供するために含まれ、本明細書に組みこまれて、その一部を構成する。図面は、本発明の多様な特徴および実施形態を図示し、明細書とともに本発明の原理および動作を説明するのに役立つ。
【0037】
本発明の多様な利点は、以下の明細書と添付の特許請求の範囲を読み、図面を参照することによって明らかになる。
【0038】
【発明の実施の形態】
図1に示されるように、閉ループ制御システム10は、プローブヘッド12とプローブ解析システム20とを有する。一般的に、プローブヘッド12は、電力送達システム(図示せず)によってプラズマチャンバ(図示せず)に供給される無線周波数(RF)電力に基づいて、アナログ電圧信号28およびアナログ電流信号30を生成する。多くのアプローチがプローブヘッド12に対して提案されているが、ある解決法は、RF電圧をモニタするための電圧検知板16およびRF電流をモニタするための電流検知板18の使用に関する。プローブ解析システム20は、閉ループ制御のために電力送達システムによって必要とされるように、デジタルスペクトル信号とデジタル振幅信号とデジタル位相信号とを生成する。解析システム20によって生成されるべきデジタル信号の選択は用途に依存すると留意することは重要である。したがって、これらの信号の任意の組み合わせは、本発明の精神および範囲から逸脱することなく生成され得る。
【0039】
ここで、図2を参照して、プローブ解析システム20をより詳細に示す。本発明は、プラズマエッチングプロセスについて主に記載されるが、本発明はそれに限定されるものではないことに留意されたい。実際には、アナログ信号に関連する多くの周波数を同時に解析することが望ましい任意の用途で、本発明の恩恵を受けることができる。したがって、具体的な実施例は、説明の目的のみで使用される。それにもかかわらず、本発明によって提供される特定の利益の多くは、プラズマエッチングに比類なく適している。
【0040】
一般的に、解析システム20は、ブロードバンドサンプリングユニット22およびデジタル信号処理ユニット24を有することが示され得る。サンプリングユニット22は、複数のアナログ信号28、30に基づいて、デジタル電力信号26を生成する。アナログ信号28、30は、RF電力送達システム(図示せず)からプラズマチャンバ(図示せず)に送達される電力を特徴付ける。以下により詳細に説明するように、デジタル処理ユニット24は、デジタル電力信号26に基づいたデジタルスペクトル信号を生成する。デジタル振幅信号およびデジタル位相信号もまた生成され得る。サンプリングユニット22は、アナログ信号28、30から第1の複数の周波数を同時にサンプリングし、それにより、デジタルスペクトル信号は第1の複数の周波数に対する信号レベルを規定する。したがって、ブロードバンドアーキテクチャにおいて周波数を同時にサンプリングすることによって、電力送達の制御の著しい向上が為され得る。
【0041】
(サンプリングユニット)
具体的に、アナログ信号28、30は、アナログ電圧信号28とアナログ電流信号30とを含む。好ましくは、サンプリングユニット22は、第1の所定のバンド幅までアナログ電圧信号28とアナログ電流信号30とをバンド制限する第1のフィルタリングモジュール32を含む。第1の所定のバンド幅は、第1の複数の周波数を含む。したがって、例えば、第1の所定のバンド幅は、2MHzの基本周波数と、10MHzまでの範囲の基本周波数の高調波とを含み得る。1次アナログ−デジタル(A/D)コンバータ34は、フィルタリングモジュール32に接続される。1次A/Dコンバータ34は、アナログ電圧信号28に基づいた第1のデジタル電圧信号26a(VLF)を生成する。1次A/Dコンバータ34は、また、アナログ電流信号30に基づいた第1のデジタル電流信号26b(ILF)を生成する。したがって、第1のデジタル電圧信号26aおよび第1のデジタル電流信号26bは、デジタル電力信号を規定する。
【0042】
1次A/Dコンバータ34はデュアルチャネル機能を有し、それにより、第1のデジタル電圧信号26aおよび第1のデジタル電流信号26bが同期化されることに留意することは重要である。以下に詳細に説明するように、同期化は、ブロードバンドサンプリング方式ならびにシステム全体の動作にたいして重要な意味をもつ。例えば、同期化は、そのモデルから生じる位相出力および振幅出力の比較を可能にする。図示された1次A/Dコンバータ34は2つのA/Dコンバータを含む単一IC内にインプリメントされるが、本発明はそれに限定されないことにさらに留意すべきである。例えば、別のICパッケージ内の2つの別のA/Dコンバータを用いることによって費用削減が為され得る。そのような場合において、A/Dコンバータは、2つのA/Dコンバータを含む単一ICパッケージをエミュレートとするように閉結合される(サンプリングを同期化される)。
【0043】
この点に関して、第1デジタル電圧信号26aと第1デジタル電流信号26bを一時的に記憶するために、メモリ記憶素子(例えば、先入れ先出し(FIFO)40)は、1次A/Dコンバータ34とデジタル処理ユニット24との間に配置され得ることが理解され得る。したがって、コンバータ34のサンプリングレートがデジタル処理ユニット24の処理レートを超える場合、コンバータデータは、データをパイプライン化するために一時的に記憶され得る。これは、以下に説明するデジタル処理ユニット24のベースバンド設計にとって特に有用である。しかし、FIFO40は、コンバータ34のサンプリングレートがデジタル処理ユニット24のハードウェア処理クロックレートを超えない場合、必ずしも必要ではない。
【0044】
フィルタリングモジュール32は、アナログ電圧信号28をバンド制限するための第1のバンドパスフィルタ36と、アナログ電流信号30をバンド制限するための第2のバンドパスフィルタ38とを含むことが好ましい。さらに、プローブ解析システム20は、アナログ信号28、30の信号レベルに基づいて、アナログ信号28、30の減衰を選択的に調整するためのスイッチングモジュール42を含み得る。したがって、スイッチコントローラ44およびRFスイッチは、アナログ信号の振幅に応じて減衰経路を選択するために、フィルタリングモジュール32とコンバータ34との間に配置される。所望ならば、スイッチが減衰経路を選択することをディセーブルするような信号が供給されることが示され得る。したがって、スイッチコントローラ44は、デジタル処理ユニット24からのディセーブル信号に基づいて、スイッチングモジュール42を選択的にディセーブルする。
【0045】
サンプリング方式は、多くのサンプリング部にさらに分割され得ることが理解される。添え字LFによって示された上記のサンプリング方式は、アーキテクチャの基本概念図である。しかし、サンプリングレートの1/2より大きい周波数が信号のバンド幅内に存在する場合、スペクトルの畳み込みが生じる。これは、アンダーサンプリングまたはエイリアシングと一般によばれている。アンダーサンプリング信号は、1/2サンプリングレートまで、DCのデジタル化したバンド幅内で現れる。アンダーサンプリングプローブ信号によるアプローチは、Keaneに付与された米国特許第5,565,737号に記載される。本明細書において、米国特許第5,565,737号を参考として援用する。基本周波数のスペクトル畳み込み、または、ある基本周波数の高調波は、別の基本周波数または基本周波数の高調波(単数または複数)のバンド幅と一致する場合、第2のサンプリングモデルが必要である。第2のサンプリングモデルは、添え字HFによって示される。
【0046】
したがって、サンプリングユニット22は、アナログ信号から第2の複数の周波数をさらに同時にサンプリングし、それにより、デジタルスペクトル信号は、第2の複数の周波数の信号レベルをさらに規定する。したがって、サンプリングユニット22は、第2のフィルタリングモジュール46と、2次A/Dコンバータ48とを含む。第2のフィルタリングモジュール46は、アナログ電圧信号28とアナログ電流信号30とを第2の所定のバンド幅までバンド制限する。第2の所定のバンド幅は、第2の複数の周波数を含む。第2の所定のバンド幅は、用途に応じて、第1の所定のバンド幅と重なってもよいし、重ならなくてもよいことに留意することが重要である。2次A/Dコンバータ48は、アナログ電圧信号28に基づいて第2のデジタル電圧信号50aを生成し、アナログ電流信号30に基づいて、第2のデジタル電流信号50bを生成する。したがって、第2のデジタル電圧信号50aおよび第2のデジタル電流信号50bは、信号26aおよび信号26bによって規定されるデジタル電力信号をさらに規定する。上述したように、2次A/Dコンバータ48はデュアルチャネル機能を有し、それにより、第2のデジタル電圧信号50aと第2のデジタル電流信号50bとは同期化される。
【0047】
好ましいプローブ解析システム20は、第2のデジタル電圧信号50aと第2のデジタル電流信号50bとを一時的に記憶するために、2次A/Dコンバータ48とデジタル信号処理ユニット24との間に第2のメモリデバイス(例えば、FIFO52)をさらに含むことがさらに理解され得る。
【0048】
したがって、第2の所定のバンド幅は、27MHzの基本周波数と、22MHzまでの範囲の基本周波数の高調波とを含み得る。上述したように、周波数の範囲は、用途に応じて重なり得る。
【0049】
(デジタル信号処理ユニット(ベースバンド))
ここで、図3〜6に関して、本発明がデジタル処理ユニットのベースバンドまたはブロードバンド設計のいずれかを提供することが理解される。具体的には、図3は、第1のベースバンドプロセッサ54と第2のベースバンドプロセッサ56とを有するデジタル処理ユニット24’を示す。第1のベースバンドプロセッサ54は、第1の複数の周波数において、デジタル電圧信号26aを処理する。第2のベースバンドプロセッサ56は、第1の複数の周波数において、デジタル電流信号26bを処理し、それにより、ベースバンドプロセッサ54、56の各々は、対応するデジタル電力信号を有する。同様な配置を用いて、第2の複数の周波数における信号を処理し得ることは重要である。
【0050】
デジタル周波数シンセサイザ58は、所定の混合周波数を有するデジタル混合信号を生成することが理解され得る。デジタル混合信号は、示されるような余弦成分および正弦成分(または、関数)を有する。第1のベースバンドプロセッサ54において、デジタル複合ミキサ60は、一般に、デジタル混合信号に基づいたデジタル電圧信号26a(すなわち、対応するデジタル電力信号)にダウンコンバートする。したがって、第1の複数の周波数の中心周波数は、所定の混合周波数にしたがって減少する。デジタル複合ミキサ60は時間ドメインを乗算化し、周波数ドメインにおける和項および差項の両方を作成することが理解される。この機能を実行するために、複合ミキサ60は、2つのデジタル乗算器62、64を含む。乗算器62、64の両方は、サンプリングユニットからデータを受け取る。第1の乗算器64はシンセサイザ58からデジタル混合信号の正弦成分を受け取り、第2の乗算器62は余弦成分を受け取る。
【0051】
乗算器62、64からの出力は、デジタル波形を表す。デジタル波形は、1)合成された周波数とA/D波形サンプルによって表される周波数との和、2)合成された周波数とA/D波形サンプルによって表される周波数との差を含む。したがって、デジタル複合ミキサ60の出力における差項は、A/D波形の周波数変換されたバージョンである。シンセサイザ58の周波数を調整することによって、入力スペクトルに含まれる任意の信号の周波数は、より低い周波数またはDCにシフトダウンされ得る。DCへの混合、または、オフセット周波数への混合のいずれかは許容されるが、オフセット周波数への混合がよりのぞましい。これは、2の補数およびコンバータの性能に起因して、DC成分が理論的に存在するからである。したがって、オフセット周波数への混合は、DC成分との任意の干渉を避ける。さらに、オフセット周波数への混合は、基本RF周波数(単数または複数)の高調波を本質的に含む調整可能なバンドパスフィルタの使用を可能にする。
【0052】
複合ミキサ60の出力は、デシメーションモジュール66に供給される。その結果、電圧信号スペクトルおよび電流信号スペクトルに含まれる周波数より低い周波数にシフトすることにより、デシメーションプロセスに従うフィルタステージのためのナイキスト基準を満たすようなサンプルを必要としない。したがって、デシメーションモジュール66は、デジタル複合ミキサ60に結合される。ここで、デシメーションモジュール66は、デジタル電力信号のデータ品質を落とす。データの品質をデシメーションすることは、処理オーバーヘッドを減らし、マルチレートフィルタを組みこむことによってフィルタ性能を向上させる機能を提供する。カスケードされた積分器コム(comb)フィルタがデシメーションを得ることが好ましい。
【0053】
ローパスフィルタ68は、デシメーションモジュール66の出力の周波数応答を形作るためにデシメーションモジュール66に結合される。ローパスフィルタ68は、第1の複数の周波数の基本周波数に基づいて、デジタル電力信号をバンド制限する。したがって、このステージは、プログラム可能フィルタを含む。プログラム可能フィルタフィルタの目的は、混合ダウン信号をバンド制限することである。フィルタのバンド幅は、プラズマチャンバプロセスにおいて使用されるRF基本周波数(単数または複数)のバンド幅の範囲(単数または複数)に含むまれる。例えば、チャンバプロセスがflowからfhighまでの範囲での周波数同調方式を使用する場合、ローパスフィルタは、BW=fhigh−flowのバンド幅を収容する。したがって、ローパスフィルタ68のバンド幅は、本実施形態において、少なくともBWであるように選択される。
【0054】
RF基本周波数のバンド幅が大きすぎる場合、ローパスフィルタ68の係数は、入力信号周波数の範囲に応じて選択され得る。例えば、チャンバプロセスがf’lowからf’highまでの範囲での周波数同調方式を使用する場合、ローパスフィルタ68は、BW’=f’high−f’lowのバンド幅を収容する。このバンド幅はかなり大きく、ベースバンド方式の精度に影響し得る。この場合、ローパスフィルタ68は、n個のセットの係数で設計される。n個のセットの係数は、n個の周波数応答を生成し、BW’を介した隣接フィルタの各々の遷移領域におけるバンド通過領域および重なりを均等に分散させる。同調周波数が、ローパスフィルタ68のバンド幅応答から移動する場合、フィルタ68は、新たな係数のセットでプログラムされる。その周波数は、ベースバンド方式の周波数出力によってトラッキングされる。また、上記周波数同調範囲およびフィルタバンド幅は、説明の目的のみで使用される。
【0055】
多相補間フィルタ70は、ローパスフィルタ68に結合される。補間フィルタ70は、デジタル電力信号と所望なサンプリングレートとに基づいて、同相(I)信号および直交(Q)信号を生成する。したがって、補間フィルタ70は、記号抽出に対して使用され、係数Kによってデータストリームのサンプリングレートを変換する。次いで、データは、対象の周波数で再サンプリングされる。このプロセスは、直接形状FIR構造の有効なインプリメンテーションとして考えられ得る。補間フィルタ70のインプリメンテーションは、かなり平らなパスバンド(リプルはあるかもしれないが)および線形位相応答を有する。線形位相応答は、それぞれI値およびQ値を導出するのに必要な変換を提供する。
【0056】
デカルト−極コンバータ72は、I信号とQ信号とに基づいて、デジタル振幅信号とデジタル位相信号とを生成することがさらに理解され得る。したがって、I値およびQ値は、デカルト座標から極座標まで変換される。その結果の位相値は、周波数弁別モジュール74に渡される。周波数弁別モジュールは、信号の周波数を導出し、デジタル位相信号に基づいてデジタルスペクトル信号を生成する。したがって、振幅、位相、周波数は、RF基本周波数信号と任意の数の倍音に導出される。第1の5つの倍音は、一般的に、対象のエネルギーのほとんどを含むことが考えられている。したがって、好ましい実施形態は、基本信号および第1の5つの倍音のそれぞれのサンプリングに関する。
【0057】
第2のベースバンドプロセッサ56の構成要素は、デジタル電流信号26bに対する機能および目的と同様であることが理解される。また、デジタル処理ユニット24’のデジタル形態は、大規模集積回路(LSI)および/またはプログラム可能デジタル信号処理(DSP)チップの任意の組み合わせにおいてインプリメントされ得る。基本波およびそれぞれの倍音の各々に対して、IおよびQの多くのチャンネルがあるので、LSIインプリメンテーションは、並列処理に関連する速度の利点を実現するために、好ましい。
【0058】
(デジタル処理ユニット(ブロードバンド))
ここで、図4を参照すると、デジタル処理ユニットは、第1の複数の周波数および第2の複数の周波数におけるデジタル電力信号を同時に処理するためのブロードバンドプロセッサ24”を代替的に含み得る。したがって、図4に示される処理ブロック図は、図2で特定されるコンバータ34、48の対の各々に繰り返される。本発明は時間ドメインシーケンスを周波数データに変換する任意のアプローチを限定しないことに留意されたい。したがって、本明細書で記載されるFFTは複数の周波数に対する振幅および位相を導出する有効性を提供するが、ウェーブレットおよびハートレイなどの他の変換が使用され得る。
【0059】
図4を参照しつづけて、処理ブロック図の第1のステップは、ウィンドウ関数を入力データに適用することが理解され得る。したがって、ウィンドウモジュール76は、ウィンドウ関数をデジタル電力信号に適用する。ウィンドウ関数は、従来の信号処理技術のアプリケーションにおいてよく理解される。一般的なウィンドウ関数のいくつかは、矩形、ハミング、ブラックマン、ハニング、最小4項ブラックマンハリス(minimum 4 term Blackman−Harris)である。ウィンドウ関数の選択は、主に、メインローブ広がりとサイドローブロールオフとの間のトレードオフである。最小4項ブラックマンハリスウィンドウ関数を本明細書で記載するが、(高い処理ゲインに対して)ウィンドウ関数の選択は、ユーザ設定可能である。
【0060】
ウィンドウ関数の結果は、高速フーリエ変換(FFT)モジュール78に渡る。FFTモジュール78は、ウィンドウ化されたデジタル電力信号に基づいて、離散フーリエ変換(DFT)データを計算する。N点FFT計算は、大きなバンド幅に対するスペクトル解析を可能にする結果を提供する。デカルト‐極コンバータ80は、DFTデータに基づいて、デジタル振幅信号およびデジタル位相信号を生成する。具体的には、振幅および位相は、RF基本(単数または複数)および関連する倍音に対するそれぞれのビンのエネルギーに対して計算され得る。N点計算は、また、ユーザ設定可能であるが、その設計は少なくとも4096点設定を可能にする。4096点は、最適な処理ゲインにとって好ましい。
【0061】
周波数トラッキングは、周波数弁別器82にインプリメントされることが理解される。一般に、周波数弁別器82は、DFTデータに基づいたデジタルスペクトル信号を生成する。周波数弁別器82は補間フィルタを含むことが好ましい。図5は、好ましい周波数弁別器82をより詳細に図示する。Xn[k]はブロードバンド処理アプローチに対するFFTステージによって生成されるその結果の離散フーリエ変換を表すことが理解される。周波数補間器84は、係数MだけDFTデータをアップサンプリングする。アップサンプリングされた結果(GNM[K])は、デジタルスペクトル信号のスペクトル分解能を向上させるために、線形補間器フィルタ86に供給される。
【0062】
ここで、図6を参照して、補間器フィルタは、離散フーリエ変換係数の間にあるアップサンプリングされたデータ点にわたってフィッティング関数88を生成することが理解され得る。信号処理技術は、等価なN M点DFTシーケンスを生成する。これを適用することにより、システムは、N M点DFTが必要となるさらなる処理オーバーヘッドなしに、N点DFTより限定された精度までRF基本周波数をトラッキングすることができる。例えば、入力信号のスペクトル応答がある場合、目標は、fs/Nよりよい精度を有するN点DFTから特定の周波数wcを決定することと想定する。fsはサンプリングレートであり、fs/NはFFT計算の周波数分解能であることが理解される。周波数弁別器は、wc−dwとwc+dwのFFT係数の範囲を介して図5のブロック図を適用することにより、周波数分解能の増加が可能である。
【0063】
当業者は、上記説明から、本発明の広範な教示が、多様な形態でインプリメントされ得ることを理解し得る。したがって、本発明は、その特定の実施例に関連して記載され得るが、他の改変が、図面、明細書、特許請求の範囲の理解に基づいて、当業者にとって明らかであるので、本発明の真の範囲は、それほど制限されるべきではない。
【0064】
【発明の効果】
無線周波数(RF)プローブ解析システムは、ブロードバンド設計を有する。解析システムは、複数のアナログ信号に基づいてデジタル電力信号を生成するためのサンプリングユニットを備える。アナログ信号は、RF電力送達システムからプラズマチャンバに送達される電力を特徴付ける。解析システムは、デジタル電力信号に基づいてデジタルスペクトル信号を生成するためのデジタル処理ユニットをさらに備える。サンプリングユニットは、アナログ信号から第1の複数の周波数を同時にサンプリングし、それにより、デジタルスペクトル信号は、第1の複数の周波数のための信号レベルを規定する。サンプリングユニットは、また、アナログ信号から第2の複数の周波数を同時にサンプリングし得、それにより、デジタルスペクトル信号は、第2の複数の周波数に対する信号レベルをさらに規定する。サンプリングユニットのブロードバンドアーキテクチャにより、チャンバに送達される電力の閉ループ制御を、従来のアプローチでは達成不可能な許容差まで可能にする。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の原理にしたがった閉ループ制御システムを示すブロック図である。
【図2】図2は、本発明の原理にしたがったブロードバンドサンプリングユニットを示すブロック図である。
【図3】図3は、本発明の原理にしたがったベースバンドデジタル処理ユニットを示すブロック図である。
【図4】図4は、本発明の原理にしたがったブロードバンドデジタル処理ユニットを示すブロック図である。
【図5】図5は、本発明の原理にしたがった周波数弁別器を示すブロック図である。
【図6】図6は、本発明の原理にしたがって、より制限された精度まで周波数をトラッキングすることを示すプロットである。
【図7】図7は、本発明の理解に有用な従来の電力送達構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
10 閉ループ制御システム
12 プローブヘッド
16 電圧検知板
18 電流検知板
20 プローブ解析システム
28 アナログ信号
30 アナログ信号
Claims (22)
- 複数のアナログ信号に基づいてデジタル電力信号を生成するサンプリングユニットであって、該複数のアナログ信号はRF電力送達システムからプラズマチャンバまで送達される電力を特徴づける、サンプリングユニットと、
該デジタル電力信号に基づいてデジタルスペクトル信号を生成するためのデジタル処理ユニットと
を備え、
該サンプリングユニットは、該複数のアナログ信号から第1のセットの周波数を同時にサンプリングし、それにより、該デジタルスペクトル信号が該第1のセットの周波数の信号レベルを規定し、
該サンプリングユニットは、該複数のアナログ信号から第2のセットの周波数をさらに同時にサンプリングし、それにより、該デジタルスペクトル信号は、該第2のセットの周波数の信号レベルをさらに規定する、無線周波数(RF)プローブ解析システム。 - 前記複数のアナログ信号は、アナログ電圧信号とアナログ電流信号とを含み、
前記サンプリングユニットは、
該アナログ電圧信号と該アナログ電流信号とを第1の所定のバンド幅にバンド制限する第1のフィルタリングモジュールであって、該第1の所定のバンド幅は前記第1のセットの周波数を含む、第1のフィルタリングモジュールと、
該第1のフィルタリングモジュールに結合された1次A/Dコンバータであって、該1次A/Dコンバータは、該アナログ電圧信号に基づいて第1のデジタル電圧信号を生成し、該アナログ電流信号に基づいて第1のデジタル電流信号を生成し、該第1のデジタル電圧信号と前記第1のデジタル電流信号とが前記デジタル電力信号を規定する、1次A/Dコンバータと
を含み、
該1次A/Dコンバータはデュアルチャネル機能を有し、それにより、該第1のデジタル電圧信号と該第1のデジタル電流信号とが同期化される、請求項1に記載のプローブ解析システム。 - 前記第1のフィルタリングモジュールは、
前記アナログ電圧信号をバンド制限するための第1のバンドパスフィルタと、
前記アナログ電流信号をバンド制限するための第2のバンドパスフィルタと
を含む、請求項2に記載のプローブ解析システム。 - 前記第1のデジタル電圧信号と前記第1のデジタル電流信号とを一時的に記憶するために、前記1次A/Dコンバータと前記デジタル処理ユニットとの間に配置される第1のメモリデバイスをさらに備える、請求項2に記載のプローブ解析システム。
- 前記サンプリングユニットは、
前記アナログ電圧信号と前記アナログ電流信号とを第2の所定のバンド幅にバンド制限するための第2のフィルタリングモジュールであって、該第2の所定のバンド幅は、前記第2のセットの周波数を含む、第2のフィルタリングモジュールと、
該第2のフィルタリングモジュールに結合された2次A/Dコンバータであって、該2次A/Dコンバータは、該アナログ電圧信号に基づいて第2のデジタル電圧信号を生成し、該アナログ電流信号に基づいて第2のデジタル電流信号を生成し、該第2のデジタル電圧信号と該第2のデジタル電流信号とが前記デジタル電力信号をさらに規定する、2次A/Dコンバータと
をさらに含み、
該2次A/Dコンバータはデュアルチャネル機能を有し、それにより、該第2のデジタル電圧信号と該第2のデジタル電流信号とが同期化される、請求項1に記載のプローブ解析システム。 - 前記第2のデジタル電圧信号と前記第2のデジタル電流信号とを一時的に記憶するために、前記2次A/Dコンバータと前記デジタル処理ユニットとの間に配置される第2のメモリデバイスをさらに備える、請求項5に記載のプローブ解析システム。
- 前記第2のセットの周波数は、第2の基本周波数と、該第2の基本周波数に対応する第2の複数の高調波周波数とを含む、請求項1に記載のプローブ解析システム。
- 前記デジタル処理ユニットは、前記第1のセットの周波数および前記第2のセットの周波数において前記デジタル電力信号を同時に処理するためのブロードバンドプロセッサを含む、請求項1に記載のプローブ解析システム。
- 前記ブロードバンドプロセッサは、
ウィンドウ関数を前記デジタル電力信号に適用するためのウィンドウモジュールと、
前記ウィンドウ化されたデジタル電力信号に基づいて、離散フーリエ変換(DFT)データを計算するための高速フーリエ変換(FFT)モジュールと、
該DFTデータに基づいて、デジタル振幅信号とデジタル位相信号とを生成するためのデカルト‐極コンバータと、
該DFTデータに基づいて、前記デジタルスペクトル信号を生成するための周波数弁別器と
を含む、請求項8に記載のプローブ解析システム。 - 前記周波数弁別器は、
前記DFTデータをアップサンプリングするための周波数補間器と、
該アップサンプリングされたDFTデータに基づいて、前記デジタルスペクトル信号のスペクトル分解能を増加させるための線形補間器フィルタと
を含む、請求項9に記載のプローブ解析システム。 - 前記複数のアナログ信号の信号レベルに基づいて、該複数のアナログ信号の減衰を選択的に調整するためのスイッチングモジュールをさらに備える、請求項1に記載のプローブ解析システム。
- 前記デジタル処理ユニットからのディセーブル信号に基づいて、前記スイッチングモジュールを選択的にディセーブルするためのスイッチコントローラをさらに備える、請求項11に記載のプローブ解析システム。
- 前記デジタル電力信号は、デジタル電圧信号とデジタル電流信号とを含み、
前記デジタル処理ユニットは、
前記第1のセットの周波数において該デジタル電圧信号を処理するための第1のベースバンドプロセッサと、
該第1のセットの周波数において該デジタル電流信号を処理するための第2のベースバンドプロセッサと
を含み、
各ベースバンドプロセッサは対応するデジタル電力信号を有する、請求項1に記載のプローブ解析システム。 - 各ベースバンドプロセッサは、
所定の混合周波数を有するデジタル混合信号を生成するためのデジタル周波数シンセサイザと、
該デジタル混合信号に基づいて対応するデジタル電力信号をダウンコンバートし、それにより、前記第1のセットの周波数は、該所定の混合周波数にしたがって減少される、デジタル複合ミキサと、
該デジタル複合ミキサに結合され、該デジタル電力信号のデータ品質を落とすデシメーションモジュールと、
該デシメーションモジュールに結合され、該第1のセットの周波数の基本周波数に基づいて該デジタル電力信号をバンド制限するローパスフィルタと、
該ローパスフィルタに結合され、該デジタル電力信号と所望なサンプリングレートとに基づいて、同相信号と直交信号を生成する、多相補間フィルタと、
該多相補間フィルタに結合され、該同相信号と該直交信号とに基づいてデジタル振幅信号とデジタル位相信号とを生成するデカルト‐極コンバータと、
該デカルト‐極コンバータに結合され、該デジタル位相信号に基づいて前記デジタルスペクトル信号を生成する、周波数弁別モジュールと
を含む、請求項13に記載のプローブ解析システム。 - 前記第1のセットの周波数は、第1の基本周波数と、該第1の基本周波数に対応する第1の複数の高調波周波数とを含む、請求項1に記載のプローブ解析システム。
- 無線周波数(RF)プローブ解析システムのためのサンプリングユニットであって、該サンプリングユニットは、
アナログ電圧信号とアナログ電流信号とを第1の所定のバンド幅にバンド制限する第1のフィルタリングモジュールであって、該アナログ電圧信号と該アナログ電流信号とは、第1のセットの周波数を有し、該第1の所定のバンド幅は該第1のセットの周波数を含む、第1のフィルタリングモジュールと、
該第1のフィルタリングモジュールに結合された1次A/Dコンバータであって、該1次A/Dコンバータは、該アナログ電圧信号に基づいて第1のデジタル電圧信号を生成し、該アナログ電流信号に基づいて第1のデジタル電流信号を生成する、1次A/Dコンバータと、
該アナログ電圧信号と該アナログ電流信号とを第2の所定のバンド幅にバンド制限するための第2のフィルタリングモジュールであって、該アナログ電圧信号と該アナログ電流信号とは、第2のセットの周波数を有し、該第2の所定のバンド幅は、該第2のセットの周波数を含む、第2のフィルタリングモジュールと、
該第2のフィルタリングモジュールに結合された2次A/Dコンバータであって、該2次A/Dコンバータは、該アナログ電圧信号に基づいて第2のデジタル電圧信号を生成し、該アナログ電流信号に基づいて第2のデジタル電流信号を生成する、2次A/Dコンバータと
を備え、
該1次A/Dコンバータはデュアルチャネル機能を有し、それにより、該第1のデジタル電圧信号と該第1のデジタル電流信号とが同期化され、
該2次A/Dコンバータはデュアルチャネル機能を有し、それにより、該第2のデジタル電圧信号と該第2のデジタル電流信号とが同期化される、サンプリングユニット。 - 前記第1のセットの周波数は、第1の基本周波数と、該第1の基本周波数に対応する第1の複数の高調波周波数とを含む、請求項16に記載のサンプリングユニット。
- 前記フィルタリングモジュールは、
前記アナログ電圧信号をバンド制限するための第1のバンドパスフィルタと、
前記アナログ電流信号をバンド制限するための第2のバンドパスフィルタと
を含む、請求項16に記載のサンプリングユニット。 - 前記第1のデジタル電圧信号と前記第1のデジタル電流信号とを一時的に記憶するために、前記1次A/Dコンバータとデジタル処理ユニットとの間に配置される第1のメモリデバイスをさらに備える、請求項16に記載のサンプリングユニット。
- 前記第2のデジタル電圧信号と前記第2のデジタル電流信号とを一時的に記憶するために、前記2次A/Dコンバータとデジタル処理ユニットとの間に配置される第2のメモリデバイスをさらに備える、請求項16に記載のサンプリングユニット。
- 前記第2のセットの周波数は、第2の基本周波数と、該第2の基本周波数に対応する第2の複数の高調波周波数とを含む、請求項16に記載のサンプリングユニット。
- プラズマチャンバに送達される無線周波数(RF)電力を解析するための方法であって、
複数のアナログ信号から第1のセットの周波数を同時にサンプリングするステップであって、該複数のアナログ信号は該チャンバに送達される該RF電力を特徴づける、ステップと、
該複数のアナログ信号から第2のセットの周波数を同時にサンプリングし、それにより、該複数のデジタルスペクトル信号が、該第2のセットの周波数の信号レベルをさらに規定する、ステップと、
該複数のアナログ信号に基づいて複数のデジタル電力信号を生成するステップと、
所定の混合周波数を有するデジタル混合信号を生成するステップと、
該デジタル混合信号に基づいて該複数のデジタル電力信号をダウンコンバートし、それにより、該第1のセットの周波数を該所定の混合周波数にしたがって減少するステップと、
該複数のデジタル電力信号のデータ品質を落とすステップと、
該第1のセットの周波数の基本周波数に基づいて該複数のデジタル電力信号をバンド制限するステップと、
該複数のデジタル電力信号と所望のサンプリングレートとに基づいて複数の同相信号と複数の直交信号とを生成するステップと、
該複数の同相信号と該複数の直交信号とに基づいて複数のデジタル振幅信号と複数のデジタル位相信号とを生成するステップと、
該複数のデジタル位相信号に基づいて複数のデジタルスペクトル信号を生成するステップと、
該複数のデジタルスペクトル信号は、該第1のセットの周波数の信号レベルを規定するステップと
を包含する、方法。
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US6834084B2 (en) * | 2002-05-06 | 2004-12-21 | Rf Micro Devices Inc | Direct digital polar modulator |
US7801244B2 (en) * | 2002-05-16 | 2010-09-21 | Rf Micro Devices, Inc. | Am to AM correction system for polar modulator |
US7991071B2 (en) * | 2002-05-16 | 2011-08-02 | Rf Micro Devices, Inc. | AM to PM correction system for polar modulator |
US6707255B2 (en) * | 2002-07-10 | 2004-03-16 | Eni Technology, Inc. | Multirate processing for metrology of plasma RF source |
WO2004028003A2 (en) * | 2002-09-23 | 2004-04-01 | Turner Enterprises & Associates | A system and method for monitoring harmonic content of an rf signal |
US7314537B2 (en) * | 2003-09-30 | 2008-01-01 | Tokyo Electron Limited | Method and apparatus for detecting a plasma |
US20050185769A1 (en) * | 2004-02-25 | 2005-08-25 | Pickerd John J. | Calibration method and apparatus |
US7326872B2 (en) * | 2004-04-28 | 2008-02-05 | Applied Materials, Inc. | Multi-frequency dynamic dummy load and method for testing plasma reactor multi-frequency impedance match networks |
US7551686B1 (en) | 2004-06-23 | 2009-06-23 | Rf Micro Devices, Inc. | Multiple polynomial digital predistortion |
DE102004037577A1 (de) * | 2004-08-03 | 2006-03-16 | Rohde & Schwarz Gmbh & Co. Kg | Verfahren zum Messen des Phasenrauschens eines Hochfrequenzsignals und Meßgerät zum Ausführen dieses Verfahrens |
US7529523B1 (en) | 2004-08-23 | 2009-05-05 | Rf Micro Devices, Inc. | N-th order curve fit for power calibration in a mobile terminal |
CN100543481C (zh) * | 2005-01-11 | 2009-09-23 | 亿诺维新工程股份有限公司 | 检测传递到负载的rf功率以及该负载的复数阻抗的方法 |
US7602127B2 (en) | 2005-04-18 | 2009-10-13 | Mks Instruments, Inc. | Phase and frequency control of a radio frequency generator from an external source |
US8102954B2 (en) | 2005-04-26 | 2012-01-24 | Mks Instruments, Inc. | Frequency interference detection and correction |
US7477711B2 (en) * | 2005-05-19 | 2009-01-13 | Mks Instruments, Inc. | Synchronous undersampling for high-frequency voltage and current measurements |
US8224265B1 (en) | 2005-06-13 | 2012-07-17 | Rf Micro Devices, Inc. | Method for optimizing AM/AM and AM/PM predistortion in a mobile terminal |
US9214909B2 (en) | 2005-07-29 | 2015-12-15 | Mks Instruments, Inc. | High reliability RF generator architecture |
US7877060B1 (en) | 2006-02-06 | 2011-01-25 | Rf Micro Devices, Inc. | Fast calibration of AM/PM pre-distortion |
US7962108B1 (en) | 2006-03-29 | 2011-06-14 | Rf Micro Devices, Inc. | Adaptive AM/PM compensation |
US8467473B2 (en) * | 2006-03-31 | 2013-06-18 | Broadcom Corporation | Power control techniques for wireless transmitters |
DE102006023232B4 (de) * | 2006-05-18 | 2011-04-14 | Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Plasmaprozessleistungsversorgungssystem mit ereignisgesteuerter Datenspeicherung und Verfahren dazu |
DE102006045794A1 (de) * | 2006-09-26 | 2008-03-27 | Micronas Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum polyphasigen Resampling |
US7689182B1 (en) | 2006-10-12 | 2010-03-30 | Rf Micro Devices, Inc. | Temperature compensated bias for AM/PM improvement |
US8055203B2 (en) * | 2007-03-14 | 2011-11-08 | Mks Instruments, Inc. | Multipoint voltage and current probe system |
US8009762B1 (en) | 2007-04-17 | 2011-08-30 | Rf Micro Devices, Inc. | Method for calibrating a phase distortion compensated polar modulated radio frequency transmitter |
DE102007056468A1 (de) * | 2007-11-22 | 2009-06-04 | Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Messsignalverarbeitungseinrichtung und Verfahren zur Verarbeitung von zumindest zwei Messsignalen |
US7822565B2 (en) * | 2007-12-31 | 2010-10-26 | Advanced Energy Industries, Inc. | System, method, and apparatus for monitoring characteristics of RF power |
US7970562B2 (en) * | 2008-05-07 | 2011-06-28 | Advanced Energy Industries, Inc. | System, method, and apparatus for monitoring power |
US8489042B1 (en) | 2009-10-08 | 2013-07-16 | Rf Micro Devices, Inc. | Polar feedback linearization |
US8901935B2 (en) * | 2009-11-19 | 2014-12-02 | Lam Research Corporation | Methods and apparatus for detecting the confinement state of plasma in a plasma processing system |
US8501631B2 (en) * | 2009-11-19 | 2013-08-06 | Lam Research Corporation | Plasma processing system control based on RF voltage |
WO2011063246A2 (en) * | 2009-11-19 | 2011-05-26 | Lam Research Corporation | Methods and apparatus for controlling a plasma processing system |
KR20130055341A (ko) * | 2011-11-18 | 2013-05-28 | 삼성전기주식회사 | 전력량계 시스템의 신호 변환 장치, 전력량계 시스템 및 전력량계 시스템의 신호 변환 방법 |
US9462672B2 (en) | 2012-02-22 | 2016-10-04 | Lam Research Corporation | Adjustment of power and frequency based on three or more states |
US10325759B2 (en) | 2012-02-22 | 2019-06-18 | Lam Research Corporation | Multiple control modes |
US9114666B2 (en) | 2012-02-22 | 2015-08-25 | Lam Research Corporation | Methods and apparatus for controlling plasma in a plasma processing system |
US9320126B2 (en) | 2012-12-17 | 2016-04-19 | Lam Research Corporation | Determining a value of a variable on an RF transmission model |
US9502216B2 (en) | 2013-01-31 | 2016-11-22 | Lam Research Corporation | Using modeling to determine wafer bias associated with a plasma system |
US10157729B2 (en) | 2012-02-22 | 2018-12-18 | Lam Research Corporation | Soft pulsing |
US9368329B2 (en) | 2012-02-22 | 2016-06-14 | Lam Research Corporation | Methods and apparatus for synchronizing RF pulses in a plasma processing system |
US10128090B2 (en) | 2012-02-22 | 2018-11-13 | Lam Research Corporation | RF impedance model based fault detection |
US9171699B2 (en) | 2012-02-22 | 2015-10-27 | Lam Research Corporation | Impedance-based adjustment of power and frequency |
US9390893B2 (en) | 2012-02-22 | 2016-07-12 | Lam Research Corporation | Sub-pulsing during a state |
US9842725B2 (en) | 2013-01-31 | 2017-12-12 | Lam Research Corporation | Using modeling to determine ion energy associated with a plasma system |
US9197196B2 (en) | 2012-02-22 | 2015-11-24 | Lam Research Corporation | State-based adjustment of power and frequency |
US9295148B2 (en) | 2012-12-14 | 2016-03-22 | Lam Research Corporation | Computation of statistics for statistical data decimation |
WO2014016357A2 (en) | 2012-07-25 | 2014-01-30 | Impedans Ltd | Analysing rf signals from a plasma system |
US9408288B2 (en) | 2012-09-14 | 2016-08-02 | Lam Research Corporation | Edge ramping |
JP6629071B2 (ja) | 2012-12-18 | 2020-01-15 | トゥルンプフ ヒュッティンガー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフトTRUMPF Huettinger GmbH + Co. KG | 高周波電力を発生させるための方法及び負荷に電力を供給するための電力変換器を備えた電力供給システム |
CN104871285B (zh) | 2012-12-18 | 2018-01-05 | 通快许廷格两合公司 | 灭弧方法和具有功率转换器的功率供送系统 |
US9620337B2 (en) | 2013-01-31 | 2017-04-11 | Lam Research Corporation | Determining a malfunctioning device in a plasma system |
US9779196B2 (en) | 2013-01-31 | 2017-10-03 | Lam Research Corporation | Segmenting a model within a plasma system |
US9107284B2 (en) | 2013-03-13 | 2015-08-11 | Lam Research Corporation | Chamber matching using voltage control mode |
US9119283B2 (en) | 2013-03-14 | 2015-08-25 | Lam Research Corporation | Chamber matching for power control mode |
US10821542B2 (en) | 2013-03-15 | 2020-11-03 | Mks Instruments, Inc. | Pulse synchronization by monitoring power in another frequency band |
US9502221B2 (en) | 2013-07-26 | 2016-11-22 | Lam Research Corporation | Etch rate modeling and use thereof with multiple parameters for in-chamber and chamber-to-chamber matching |
US9594105B2 (en) | 2014-01-10 | 2017-03-14 | Lam Research Corporation | Cable power loss determination for virtual metrology |
US10950421B2 (en) | 2014-04-21 | 2021-03-16 | Lam Research Corporation | Using modeling for identifying a location of a fault in an RF transmission system for a plasma system |
US9536749B2 (en) | 2014-12-15 | 2017-01-03 | Lam Research Corporation | Ion energy control by RF pulse shape |
CN105785124A (zh) * | 2016-03-07 | 2016-07-20 | 国网技术学院 | 一种采用谱估计和互相关的电力系统谐波和间谐波测量方法 |
CN106254051B (zh) * | 2016-08-09 | 2019-04-23 | 南方科技大学 | 控制方法及控制装置 |
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US4584716A (en) * | 1984-11-13 | 1986-04-22 | Honeywell Inc. | Automatic dual diversity receiver |
US5313642A (en) | 1990-10-03 | 1994-05-17 | Seagull Scientific Systems, Inc. | Power interface for peripheral devices |
US5770992A (en) | 1994-06-07 | 1998-06-23 | Pearson Electronics, Inc. | Transformer with overshoot compensation coil |
US5576629A (en) * | 1994-10-24 | 1996-11-19 | Fourth State Technology, Inc. | Plasma monitoring and control method and system |
US5565737A (en) | 1995-06-07 | 1996-10-15 | Eni - A Division Of Astec America, Inc. | Aliasing sampler for plasma probe detection |
US5808415A (en) | 1997-03-19 | 1998-09-15 | Scientific Systems Research Limited | Apparatus for sensing RF current delivered to a plasma with two inductive loops |
GB2338853B (en) * | 1998-06-18 | 2002-11-06 | Ericsson Telefon Ab L M | Radio receiver |
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