JP4293728B2 - サンプル回収システム - Google Patents

Description

（発明の属する分野）
本発明は、一般に流体のサンプルを集めるシステムに関し、より特定的には、プロセス機器から漏排気を集める装置および方法に関する。
【０００１】
（関連のある技術の説明）
揮発性有機化合物（ＶＯＣ）を処理する工業プラントは典型的には、煙突のような点源と、ＶＯＣを含むパイプおよび管に取り付けられた弁、ポンプ、および取付け具のような非点源とから大気中にそれらの化合物を不本意にも排気してしまう。「漏」排気と称される非点源からの排気は典型的には、継ぎ目および封止からＶＯＣが漏れるために生じる。制御弁からの「漏」排気は、弁棒と弁の本体／ボンネットとの間のパッキングを経て漏れとして生じる恐れがある。弁棒が頻繁に動きかつ温度が大幅に変動する要求の厳しい使用状況で用いられる弁は典型的には、弁棒のパッキングが加速的に劣化し、要求の厳しくない使用においても弁よりも多大な排気が生じてしまう。
【０００２】
弁棒パッキング物質および設計が改善されたために、漏排気は減り、弁パッキングの寿命は延びたが、漏排気を監視することは、漏排気を識別して減じるとともに、排気の新たな厳重規制に従う手段として重要になった。環境保護機関（ＥＰＡ）は、制御弁からのある危険な大気汚染物質の最大許容漏れを指定し、制御弁からの排気を周期的に調査することを要求する規制を普及させてきた。
【０００３】
漏排気を監視する現在の方法には、携帯の有機蒸気分析器を用いる手動の手続きを含む。この手動の方法は時間がかかり、実施するには高価であり、監視されている機器からの漏排気を無駄に集めてしまうことで不正確な結果を生み出す恐れがある。風にさらされている弁に関して測定を行う場合、弁からの排気は、蒸気分析器が排気の濃度を正しく測定する前に消散してしまうかもしれない。また、分析器は、弁からの排気全てを取込むべく弁の周囲で慎重に動かされなければ、不正確な測定が行われてしまう。手動の測定方法は、プラントの人員にとっては、自分の他の仕事から気をそらされて、測定を行うのにかなり時間がかかることになる。
【０００４】
漏排気を自動的に監視して検出すれば、既存の手動方法に対し重大な利点を生み出すだろう。ＥＰＡ規制は周期的な間隔で漏排気を調査することを要求する。調査間隔の長さは、月に一度、年４回、年２回または年１回であってよい。操作員が過度の漏れのある制御弁をあるパーセンテージより少なく文書化できるならば必要な調査は少なくなる。このように、低パーセンテージの漏れ弁を達成すると、１年で必要な調査の数が減る。調査点の合計数が５０、０００から２００、０００点の範囲の大産業機関においては、これは多大なコストセービングになる。もっとも要求の厳しい使用状況下にあり、したがって漏れを生じさせやすい弁に自動化された漏排気検出システムをインストールすることにより、全体の機関がＥＰＡ規制に従うことができる。これにより、弁全てのための調査間の間隔は長くなり、自動化検出システムなしで弁から手動で測定値をとる時間および費用を著しく減る。
【０００５】
漏れのある弁から漏排気を早めに検出すれば、修理はよりタイムリーに行われ、 排出される危険物質の量を減らし、喪失された物質のコストを低くする。漏排気を正確に検出すれば、操作員に潜在性の弁封止不良について警報を発することが可能であり、過度の漏れが生じる前に防止策を施すことが可能となる早期警告システムを提供できる。
【０００６】
しかしながら、産業環境で自動化漏排気検出システムを用いるには、機器から出る漏排気を効率的に集め、その排気をガスセンサへ運ぶことができるサンプル回収システムを設計する必要がある。サンプル回収システムは、ガスセンサが漏排気の濃度を正確に無矛盾に測定できるように公知の流量でサンプルストリームを送ることが可能でなければならない。サンプル回収システムは、設置コストを最小にするために、製造するのに廉価でなければならず、かつ典型的なプロセスプラントで容易に利用可能な電源を用いなければならない。システムは、爆発のリスクのある危険な領域で用いるのに好適でなければならず、電気機器は本質的に安全でかつ爆発に耐える設計を有するものでなければならない。システムは、打撃、高湿度、高温度および低温、ならびに振動を受ける領域を含め、 厳しい環境で動作できなければならない。システムは、保守コストを最小にするために単純でかつ信頼性のあるものでなければならない。
【０００７】
したがって、本発明の目的は、工業アプリケーションで好適な、機器からの排気を自動的に集める装置および方法を提供することである。本発明の別の目的は、漏排気を正確にかつ一貫して集める装置および方法を提供することである。本発明の別の目的は、危険な環境で安全に動作することが可能な、排気を集める装置を提供することである。本発明の別の目的は、既存の空圧源を用いて排気を集める、排気を集める装置および方法を提供することである。本発明のさらに別の目的は、設置するのに簡単でかつ廉価な装置を提供することである。本発明のさらなる目的は、保守動作の少ない、排気を集める装置および方法を提供することである。本発明のさらに別の目的は、後の検索のために排気データを集めるとともにこのデータを記憶する装置および方法を提供することである。本発明のさらに別の目的は、排気データを集めてこのデータを遠隔プラントプロセス制御システムに伝える装置および方法を提供することである。本発明のさらに別の目的は、排気データを集めてこのデータを用いてプラントを制御して排気を減じるかなくす装置および方法を提供することである。本発明のさらに別の目的は、排気データを集めてこのデータを遠隔プロセス制御システムに伝え、プラントの制御を可能化して排気を減じるかなくす装置および方法を提供することである。
【０００８】
（発明の概要）
本発明のある態様に従えば、機器からの排気を集める装置が提供され、装置は機器の少なくとも一部分を囲むボンネットカプセルを含む。装置は、ボンネットカプセルと流体で連通するイジェクタを含む。加圧流体源、これはプラント器械空気供給源であってよく、イジェクタを通る加圧流体の流れが降圧を生じさせ、これによりボンネットカプセルから排気をイジェクタ内に引き寄せるようにイジェクタに接続される。
【０００９】
本発明の別の態様に従えば、機器から排気を集めて後の検索のためにデータを記憶する装置が提供される。データは、排気を減じるかなくすためにプラント状況を制御するのに用いられてよい。データは別個のプロセス制御システムに伝えられて良く、このプロセス制御システムは、排気を減じるかなくすようにプラント状況を制御する。
【００１０】
本発明の別の態様に従えば、機器からの排気を集める方法は、機器の少なくとも一部分をエンクロージャで囲むステップと、エンクロージャと流体で連通するようにイジェクタを接続するステップと、加圧流体をイジェクタに供給してそれによりイジェクタ内に降圧を生じさせ、これにより排気を機器からイジェクタ内に引き寄せるステップとを含む。
【００１１】
（発明の具体例の説明）
さて図面を参照して、まず図１を参照して、本発明の具体例にかかるブロック図は、漏排気検出システム１０内に統合されたサンプル回収システム１００の主要なコンポーネントを示す。排気源１２が示され、ここからサンプルストリーム１４がサンプル回収システム１００内に引き寄せられる。サンプルストリーム１４は、排気源１２から出る排気（検体とも称される）を含む。サンプル回収システム１００は、ボンネットカプセル１０２と、センサ室１１４と、イジェクタ１４０とを含む。ガスセンサアレイ２００および熱動力（thermodynamic）センサアレイ２８０がセンサ室１１４内に位置する。サンプルストリーム１４は、ボンネットカプセル１０２から引き出されてセンサ室１１４内に入り、ガスセンサアレイ２００および熱動力センサアレイ２８０をサンプルストリーム１４にあてる。サンプルストリーム１４は次いで、イジェクタ１４０内に入る。圧縮空気源３０は、圧縮空気３２をイジェクタ１４０に与え、イジェクタ１４０内で降圧を生じさせ、これは、サンプルストリーム１４をセンサ室１１４を通りイジェクタ１４０内に引き寄せる。圧縮空気３２とサンプルストリーム１４とはイジェクタ１４０内で混合され、混合気３６として大気に排出される。サンプル回収システム１００は、遠隔較正システム３００と統合されるが、これは、測定されている少量のガスをサンプルストリーム内に注入して、ガスセンサを自動的に較正できるように構成される。
【００１２】
加えて、制御および通信システム４００が、センサ出力を処理するとともに漏排気検出システム１０のための制御および通信機能を実行するために与えられる。制御および通信システム４００は、センサインターフェース回路４０２と、マイクロコントローラ４０４と、メモリ４０６と、通信インターフェース回路８００と、電力変換回路９００とを含む。
【００１３】
ガスセンサアレイ２００および熱動力センサアレイ２８０はセンサインターフェース回路４０２に接続され、センサインターフェース回路４０２はセンサアレイからの信号を処理し、処理された信号をマイクロコントローラ４０４に与える。好適なガスセンサおよびセンサインターフェースは、本出願と併行して出願された「高周波測定回路」（"High Frequency Measuring Circuit"）と題されたジョンＰ．ディルガ(John P. Dilger)およびナイルＫ．ディエルシュナイダ（Nile K.Dielschneider）による米国出願連続番号０８／９６８０８１に記載されており、それをここに引用により援用する。マイクロコントローラ４０４は、メモリ４０６内に、センサからのデータを記憶し、漏排気検出システム１０から受信されたセンサデータを用いて制御動作を開始し、これにより排気を減じるかなくすようにする。例えば、マイクロコントローラ４０４は、排気源１２から上流にある弁を閉じて排気源１２を通る流体の流れを止め、これにより流体の漏れにより引き起こされる排気を止める。代替的には、マイクロコントローラ４０４は、排気源１２自体の動作状況を変更して漏排気を減じるかなくすようにする。マイクロコントローラ４０４は、通信インターフェース回路８００を用いてこれらの制御信号を上流側の弁、排気源１２、または排気を減じるかなくすのに用いられる他のプラント機器に与える。
【００１４】
マイクロコントローラ４０４は、通信インターフェース回路８００を用いてセンサデータをプロセス制御システム４０に与える。漏排気検出システム１０は、漏排気を測定し、結果として生じるデータを別個のプロセス制御システム４０に直ちに伝えてよい。代替的には、漏排気検出システム１０は、各測定で得られたセンサデータを、プロセス制御システム４０が後に検索するために記憶してよい。
【００１５】
通信インターフェース回路８００は、プロセス制御システム４０からデータおよび制御コマンドを受け取ってよい。プロセス制御システム４０は、漏排気検出システム１０から受信したセンサデータを用いて制御動作を開始して排気を減じるかなくすようにする。例えば、プロセス制御システム４０は、上で述べたように上流の弁を閉じるかまたは排気源１２の動作状況を変更して、排気を減じるかなくすようにする。
【００１６】
電力変換回路９００は、プロセス制御システム４０との通信リンクによって伝送される電力を受け取り、この電力を好適な電圧で通信および制御システム４００に与える。
【００１７】
漏排気検出システム１０は、排気源１２から排出された様々な種類の流体の存在を検出するかまたはそれらの濃度を測定するのに用いられてよい。このシステムは、源から排出された危険物質、毒性の物質、または汚染物質を検出するのに用いられても、その喪失が問題の原因かもしれない危険性のない物質の漏を検出してもよい。漏排気検出システムは、どんな種類の源からの排気でも検出するのに用いられてよく、特に、危険物質が漏れるかもしれない工業プロセス機器からの排気を検出するのに用いられてよい。例としては、危険なガスを運ぶライン上に設置された制御弁、ブロック弁、またはポンプ、危険な流体を含む他のプロセス管上に設置された振動器、スクリューコンベヤー、または他の機器、ならびに熱交換器、反応器、および危険な流体を含む他のプロセス管がある。排気が漏排気検出システム１０により検出されると、このデータは漏排気検出システム１０により用いられて、排気を減じるかまたはなくす方法でプロセスを制御する。代替的には、このデータは遠隔プラントプロセス制御システム４０に伝送されてよく、制御システム４０は、排気を減じるかまたはなくす方法でプロセスを制御することにより応答してよい。
【００１８】
図２を参照して、図１の漏排気検出システムで用いられるサンプル回収システム１００の図が示される。サンプル回収システム１００は、ボンネットカプセル１０２と、回収用のマニホールド１０６と、センサ室１１４と、イジェクタ１４０とを含む。ボンネットカプセル１０２は排気源１２の表面領域を囲むように設計されたエンクロージャからなり、排気源１２から排気が出てくるものと予想される。マニホールド１０６は一方の端部がボンネットカプセル１０２に接続され、他方の端部がセンサ室１１４に接続され、サンプルストリームが排気源からせンサ室１１４内に流れるようにする。マニホールド１０６は好ましくは、Ｓ３１６００ステンレス鋼チュービングで構成されても、他の好適な耐腐食性物質で構成されてもよい。
【００１９】
センサ室１１４は、ガスセンサアレイ２００を含み、熱動力センサアレイ（図示せず）を含んでもよい。センサ室１１４の出口１１６はイジェクタ１４０への入り口である。空圧制限は、センサ室１１４への入り口で制限オリフィス１１８により与えられる。制限オリフィス１１８は、センサ室の降圧を誘導してイジェクタ１４０の動作を支援する。制限オリフィス１１８は、サファイヤ、ステンレス鋼、または監視されている機器から予想される排気に対し不活性の他の好適な物質で構成されてよい。
【００２０】
粒子状フィルタ１２０は回収用のマニホールド１０６にそって位置し、サンプルストリーム内の粒子を集める。炎路レストリクタ（flame path restrictor）１２４、１２６は、センサ室１１４への入り口でそしてイジェクタ１４０からの出口で設けられる。マイクロ弁１３０、１３２、１３４は、サンプル回収システムの様々な部分を分離するために様々な位置に配置される。マイクロ弁１３０は、ボンネットカプセル１０２をセンサ室１１４から分離するのに用いられてよい。マイクロ弁１３２は、周囲空気をセンサ室１１４内へ引き寄せる能力を与え、マイクロ弁１３０を閉じて、マイクロ弁１３２、１３４を開けることでガスセンサ上でベースライン較正を行うことが出来る。
【００２１】
遠隔較正器がサンプル回収システムに接続されて、ガスセンサをセンサ室１１４から取り外すことなく較正できる。較正物質(calibrant)を含む遠隔較正検体セル３０４は第１のマイクロ弁３０６を経て計量室（dosing chamber）３０８に接続される。計量室３０８は第２のマイクロ弁３１０を経てセンサ室１１４に接続される。
【００２２】
センサ室１１４は好ましくは鋳込（cast）アルミニウムで構成されてよい。室の内部は、サンプルストリームからのガスの表面収着を低減すべくなめらかな仕上げを達成するために未仕上げのままでも、コーティングされても、または機械加工されてもよい。センサ室１１４は、監視されている排気により影響を受けない他の好適な耐腐食性物質から構成されてよい。センサ室１１４は好ましくは、フィールドおいてユニットの交換を可能とすべくモジュラユニットとして構成される。
【００２３】
図３を参照して、図２のサンプル回収システム１００のボンネットカプセルの断面図が示される。ボンネットカプセル１０２は、制御弁として示される排気源１２上で取りつけられたものとして示される。ボンネットカプセル１０２は、回収用のマニホールド１０６が接続される出口１０４を含み、弁棒２０の周囲でボンネットカプセル１０２を設置したり、または排気源の他の閉塞部分（obstructing parts）を設置することができるように開口部１０８も含む。図２のボンネットカプセル１０２の構成は、弁本体１８と弁棒２０との間に位置する弁棒パッキング１６から漏れるガスを集めるように設計されている。開口部１０８は、関係のない粒子（ごみ）がボンネットカプセル１０２内に入るのを制限するために、弁棒とボンネットカプセル壁との間にわずかな隙間を有するように設計されている。調節板（バッフル）１１０は、ボンネットカプセル１０２内の無関係の粒子が回収用のマニホールド１０６へ入るのを制限するためにボンネットカプセル１０２内部に位置決めされている。
【００２４】
ボンネットカプセル１０２は、間隙１１２がボンネットカプセル１０２と排気源１２との間にあるように排気源上に取り付けられている。これは低インピーダンスの空圧制限を生じさせ、これにより、空気は間隙１１２を通ってボンネットカプセル１０２を通り、回収用のマニホールド１０６内に流れる。この空気の流れは、排気源１２から排出された漏排気を回収用のマニホールド１０６内に、そして検出室内に運ぶ。このように連続的に空気が流れるので、排気源１２からの漏排気がボンネットカプセル１０２内に蓄積するのは防がれる。このような蓄積によって、漏排気の蓄積の影響によるセンサの誤った読取りが生じる。
【００２５】
ボンネットカプセルは、ボンネットカプセル１０２が閉塞部材（obstructing member）の周囲に取りつけられなければならない位置に容易に設置するために２つ以上で構成されてよい。このように、図３に示されるようにボンネットカプセル１０２は、縦割りに２個の半分に分割されたエンクロージャーを含み、弁棒の上に取り付けられた弁アクチュエータ（図示せず）を取り外すことなく弁棒２０の周囲で設置されてよい。ボンネットカプセル１０２は好ましくは、Ｓ３１６００ステンレス鋼または他の好適な耐腐食性物質で構成されてよい。
【００２６】
図４は、図２のサンプル回収システム１００のイジェクタ１４０の詳細を示す断面図である。イジェクタ１４０はセンサ室１１４と一体化していても、別個のユニットとして構成されていてもよい。圧縮空気源３０は圧縮空気３２をマイクロレギュレータ１４４に与え、これは、調整された圧縮空気３４をイジェクタ１４０に与える。圧縮空気は、ボンネットカプセル１０２から、センサ室１１４を通って、イジェクタ１４０内へサンプルストリーム１４を引き寄せるために動力を与える。加圧ガスまたは液体の他の源も用いてよいが、圧縮空気源３０は、空圧制御弁を変調するためにまたは空圧器械(器具)を動作させるためにプロセスプラントで典型的には用いられる器械(器具)空気供給源であってよい。マイクロレギュレータ１４４は、工業のアプリケーションで一般に用いられるタイプの小型の圧力レギュレータである。マイクロレギュレータ１４４は、圧縮空気の圧力を低減して調整し、サンプルストリーム１４の流れを制御し、圧縮空気３２の消費を最小化する。
【００２７】
一次室１４６はマイクロレギュレータ１４４から調整された圧縮空気３４を受け取り、これを一次ノズル１４８内に排出する。一次ノズル１４８はその形状は管状であり、オリフィス１５４は圧縮空気を２次ノズル１５２のスロート内に排出する。２次室１５０はマニホールド１０６と２次ノズル１５２のスロートとに接続されている。２次ノズル１５２はその形状は管状であり、一次ノズル１４８よりも大きな断面積を有しており、オリフィス１５６は圧縮空気を大気に排出する。
【００２８】
動作において、調整された圧縮空気３４は一次室１４６に入り、一次ノズル１４８に流入する。調整された圧縮空気３４は、一次ノズル１４８の出口の締めつけられた領域に入るときに速度が増す。圧縮された空気の高速ストリームが２次ノズル１５２内に排出され、２次室１５０から空気を運び、それにより、２次室１５０内に降圧を生じさせる。この降圧により、サンプルストリーム１４の流れをボンネットカプセル１０２から、回収用のマニホールド１０６を通って２次室１５０内に誘導する。サンプルストリーム１４は、排気源１２からの漏排気をサンプル回収システムを通って運び、ガスセンサアレイ２００および熱動力センサアレイ２８０を排気にあてる。調整された圧縮空気３４およびサンプルストリーム１４は、２次ノズル１５２内で混合され、混合気３６は大気に排出される。
【００２９】
イジェクタ１４０は、ステンレス鋼または他の耐腐食性物質で構成されてよい。１次オリフィス１５４および２次オリフィス１５６は好ましくはサファイヤで構成される。
【００３０】
イジェクタ１４０は、サンプル回収システム１００を通る公知の流量のサンプルストリーム１４を生成するように設計される。サンプルストリーム１４の流量は、１次オリフィス１５４、２次オリフィス１５６、およびセンサ室入り口オリフィス１１８の径、および調整された圧縮空気３４の圧力により決定される。サンプル回収システム１００は、１時間当たり約０．４２５方形（square）立方フィートのサンプルストリーム流量で十分に動作する。この流量は、０．０１１インチの１次オリフィス径と、０．０２４インチの２次オリフィス径と、０．０１３インチのセンサ室入り口オリフィス径と方形インチゲージ当たり約３．０ポンドの調整された圧縮空気圧とで達成されてよい。しかしながら、イジェクタ１４０の様々な寸法および動作状況は、様々な種類の排気源のからの排気を効果的に集めることが要求されてよい。
【００３１】
イジェクタ１４０内への調整された圧縮空気３４の圧力を制御することにより、２次室１５０内の降圧は制御され、したがって、回収用のマニホールド１０６およびセンサ室１１４を通るサンプルストリーム１４の速度は、制御される。さらに、サンプルストリーム１４の流量は、イジェクタ１４０、回収用のマニホールド１０６、およびセンサ室１１４の形状、および１次室１４６への入り口での圧縮空気の圧力を与えられれば計算可能である。
【００３２】
このように、サンプル回収システム１００の設計によって、流量センサが回収用のマニホールド１０６を通るサンプルストリームの流量を測定する必要はなくなる。ここで述べられたシステムにより、排気源の近くに位置するポンプまたはファンがサンプルストリームを集める必要もなくなる。その結果、単純な低コストの設計が得られる。サンプル回収システムは、ＥＰＡサンプル収集要件に従うように設計可能である。
【００３３】
本発明の精神および範囲から逸脱することなく、多くの修正および変形をここで説明され示された技術および構造に加えてよい。したがって、ここで説明された装置および方法はあうまで例示的であり、本発明の範囲を制限するものではない。
【図面の簡単な説明】
【図１】 漏排気検出システム内に統合されるサンプル回収システムの主要コンポーネントを示す本発明の具体例のブロック図である。
【図２】 本発明にしたがったサンプル回収システムの図である。
【図３】 図２のサンプル回収システムのボンネットカプセルの詳細を示す断面図である。
【図４】 図２のサンプル回収システムのイジェクタの詳細を示す断面図である。
【符号の説明】
１２ 排気源
１０２ カプセル
１４０ イジェクタ
１００ サンプル回収システム
２００、２８０ センサ
４００ 通信および制御システム

Claims (11)

1. 弁棒（２０）を有する制御弁（１２）から排気サンプルを集めるシステムであって、
   出口（１０４）を有するカプセル（１０２）を備え、前記カプセルは、前記カプセルを前記弁棒の周囲に設置することができるように２個の半分に縦割りに分割されたエンクロージャを備え、さらに、
   入り口（１１８）および出口（１１６）を有するセンサ室（１１４）と、
   前記センサ室の入り口を前記カプセルの出口に接続するための回収用のマニホールド（１０６）と、
   前記センサ室（１１４）の出口（１１６）に連結されるとともに加圧流体の源（３０）に接続可能であるイジェクタ（１４０）と、
   を備え、
   前記イジェクタを通って流れる加圧流体は降圧を生じさせ、前記カプセルから前記センサ室を通って前記イジェクタ内にサンプルストリームの流れを誘導し、前記サンプルストリームは前記イジェクタ内の加圧流体と混合され、そこから排出され、
   前記センサに接続され、前記制御弁から引き寄せられた前記排気の濃度を示すデータを生成する通信および制御システム（４００）と、
   前記通信および制御システム（４００）に遠隔的に接続され、前記データを受信するプロセス制御システム（４０）と、を更に備え、
   前記通信および制御システム、および、前記プロセス制御システムのうちの少なくとも一つが、前記通信および制御システムによって生成された前記データを用いて、前記排気を減じるようにプロセスを制御するように応答するように構成されている、システム。
2. 前記カプセル（１０２）は、前記制御弁に対して低インピーダンスの制限を生じさせるように適合される請求項１に記載のシステム。
3. 前記イジェクタ（１４０）は１次ノズル（１５４）と２次ノズル（１５６）とを備え、前記１次ノズルは前記加圧流体を受け取り前記加圧流体を前記２次ノズル内に排出するように適合される請求項１に記載のシステム。
4. 前記１次ノズルが前記加圧流体を受け取る前に、前記加圧流体の圧力を調整するマイクロレギュレータ（１４４）をさらに備える請求項３に記載の装置。
5. 前記センサ室（１１４）は前記イジェクタ（１４０）と一体化される請求項１に記載の装置。
6. 前記センサ室（１１４）と流体で連通する、較正流体の源をさらに備える請求項１に記載の装置。
7. 前記制御弁（１２）は、外表面を有する弁棒パッキング（１６）を含み、前記カプセル（１０２）は、前記弁の前記弁棒パッキングの前記外表面を円周方向に囲む請求項１に記載のシステム。
8. 前記加圧流体は圧縮空気を含む請求項１に記載の装置。
9. 前記通信および制御システム（４００）は、前記制御弁からの前記排気の濃度を示すデータを記憶する手段（４０６）を備える請求項１に記載のシステム。
10. 前記通信および制御システム（４００）は、前記データを用いて前記排気を減じる手段（４０４）を備える請求項９に記載のシステム。
11. 前記カプセル（１０２）内に位置し、無関係の粒子が前記回収用のマニホールドに入るのを制限する調節板（１１０）をさらに備える請求項１に記載のシステム。

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