JP2001522994A - サンプル検索システム - Google Patents

サンプル検索システム

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JP2001522994A JP2000519764A JP2000519764A JP2001522994A JP 2001522994 A JP2001522994 A JP 2001522994A JP 2000519764 A JP2000519764 A JP 2000519764A JP 2000519764 A JP2000519764 A JP 2000519764A JP 2001522994 A JP2001522994 A JP 2001522994A
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Abstract

(57)【要約】 弁および他の排気源(12)から漏排気を集める方法および装置が開示される。装置は、機器の少なくとも一部分を囲むカプセル(102)とカプセル(102)と流体で連通するイジェクタ(140)とを備える。イジェクタ(140)は圧縮空気源(30)に接続され、これはイジェクタ(140)内に降圧を生じさせて、カプセル(102)からイジェクタ(140)内に排気を引き寄せる。装置は、監視されている機器からの排気の存在および濃度を検出するためにガスセンサ(200)を収容するセンサ室(114)を含み、排気データを記憶し、データをプラントプロセス制御システムに伝え、このデータを用いてプラント状況を制御して排気を減じるかなくすようにしてもよい。

Description

【発明の詳細な説明】
(発明の属する分野) 本発明は、一般に流体のサンプルを集めるシステムに関し、より特定的には、
プロセス機器から漏排気を集める装置および方法に関する。
【0001】 (関連のある技術の説明) 揮発性有機化合物(VOC)を処理する工業プラントは典型的には、煙突のよ
うな点源と、VOCを含むパイプおよび管に取り付けられた弁、ポンプ、および
取付け具のような非点源とから大気中にそれらの化合物を不本意にも排気してし
まう。「漏」排気と称される非点源からの排気は典型的には、継ぎ目および封止
からVOCが漏れるために生じる。制御弁からの「漏」排気は、弁棒と弁の本体
/ボンネットとの間のパッキングを経て漏れとして生じる恐れがある。弁棒が頻
繁に動きかつ温度が大幅に変動する要求の厳しい使用状況で用いられる弁は典型
的には、弁棒のパッキングが加速的に劣化し、要求の厳しくない使用においても
弁よりも多大な排気が生じてしまう。
【0002】 弁棒パッキング物質および設計が改善されたために、漏排気は減り、弁パッキ
ングの寿命は延びたが、漏排気を監視することは、漏排気を識別して減じるとと
もに、排気の新たな厳重規制に従う手段として重要になった。環境保護機関(E
PA)は、制御弁からのある危険な大気汚染物質の最大許容漏れを指定し、制御
弁からの排気を周期的に調査することを要求する規制を普及させてきた。
【0003】 漏排気を監視する現在の方法には、携帯の有機蒸気分析器を用いる手動の手続
きを含む。この手動の方法は時間がかかり、実施するには高価であり、監視され
ている機器からの漏排気を無駄に集めてしまうことで不正確な結果を生み出す恐
れがある。風にさらされている弁に関して測定を行う場合、弁からの排気は、蒸
気分析器が排気の濃度を正しく測定する前に消散してしまうかもしれない。また
、分析器は、弁からの排気全てを取込むべく弁の周囲で慎重に動かされなければ
、不正確な測定が行われてしまう。手動の測定方法は、プラントの人員にとって
は、自分の他の仕事から気をそらされて、測定を行うのにかなり時間がかかるこ
とになる。
【0004】 漏排気を自動的に監視して検出すれば、既存の手動方法に対し重大な利点を生
み出すだろう。EPA規制は周期的な間隔で漏排気を調査することを要求する。
調査間隔の長さは、月に一度、年4回、年2回または年1回であってよい。操作
員が過度の漏れのある制御弁をあるパーセンテージより少なく文書化できるなら
ば必要な調査は少なくなる。このように、低パーセンテージの漏れ弁を達成する
と、1年で必要な調査の数が減る。調査点の合計数が50、000から200、
000点の範囲の大産業機関においては、これは多大なコストセービングになる
。もっとも要求の厳しい使用状況下にあり、したがって漏れを生じさせやすい弁
に自動化された漏排気検出システムをインストールすることにより、全体の機関
がEPA規制に従うことができる。これにより、弁全てのための調査間の間隔は
長くなり、自動化検出システムなしで弁から手動で測定値をとる時間および費用
を著しく減る。
【0005】 漏れのある弁から漏排気を早めに検出すれば、修理はよりタイムリーに行われ
、 排出される危険物質の量を減らし、喪失された物質のコストを低くする。漏
排気を正確に検出すれば、操作員に潜在性の弁封止不良について警報を発するこ
とが可能であり、過度の漏れが生じる前に防止策を施すことが可能となる早期警
告システムを提供できる。
【0006】 しかしながら、産業環境で自動化漏排気検出システムを用いるには、機器から
出る漏排気を効率的に集め、その排気をガスセンサへ運ぶことができるサンプル
検索システムを設計する必要がある。サンプル検索システムは、ガスセンサが漏
排気の濃度を正確に無矛盾に測定できるように公知の流量でサンプルストリーム
を送ることが可能でなければならない。サンプル検索システムは、設置コストを
最小にするために、製造するのに廉価でなければならず、かつ典型的なプロセス
プラントで容易に利用可能な電源を用いなければならない。システムは、爆発の
リスクのある危険な領域で用いるのに好適でなければならず、電気機器は本質的
に安全でかつ爆発に耐える設計を有するものでなければならない。システムは、
打撃、高湿度、高温度および低温、ならびに振動を受ける領域を含め、 厳しい 環境で動作できなければならない。システムは、保守コストを最小にするために
単純でかつ信頼性のあるものでなければならない。
【0007】 したがって、本発明の目的は、工業アプリケーションで好適な、機器からの排
気を自動的に集める装置および方法を提供することである。本発明の別の目的は
、漏排気を正確にかつ一貫して集める装置および方法を提供することである。本
発明の別の目的は、危険な環境で安全に動作することが可能な、排気を集める装
置を提供することである。本発明の別の目的は、既存の空圧源を用いて排気を集
める、排気を集める装置および方法を提供することである。本発明のさらに別の
目的は、設置するのに簡単でかつ廉価な装置を提供することである。本発明のさ
らなる目的は、保守動作の少ない、排気を集める装置および方法を提供すること
である。本発明のさらに別の目的は、後の検索のために排気データを集めるとと
もにこのデータを記憶する装置および方法を提供することである。本発明のさら
に別の目的は、排気データを集めてこのデータを遠隔プラントプロセス制御シス
テムに伝える装置および方法を提供することである。本発明のさらに別の目的は
、排気データを集めてこのデータを用いてプラントを制御して排気を減じるかな
くす装置および方法を提供することである。本発明のさらに別の目的は、排気デ
ータを集めてこのデータを遠隔プロセス制御システムに伝え、プラントの制御を
可能化して排気を減じるかなくす装置および方法を提供することである。
【0008】 (発明の概要) 本発明のある態様に従えば、機器からの排気を集める装置が提供され、装置は
機器の少なくとも一部分を囲むボンネットカプセルを含む。装置は、ボンネット
カプセルと流体で連通するイジェクタを含む。加圧流体源、これはプラント器械
空気供給源であってよく、イジェクタを通る加圧流体の流れが降圧を生じさせ、
これによりボンネットカプセルから排気をイジェクタ内に引き寄せるようにイジ
ェクタに接続される。
【0009】 本発明の別の態様に従えば、機器から排気を集めて後の検索のためにデータを
記憶する装置が提供される。データは、排気を減じるかなくすためにプラント状
況を制御するのに用いられてよい。データは別個のプロセス制御システムに伝え
られて良く、このプロセス制御システムは、排気を減じるかなくすようにプラン
ト状況を制御する。
【0010】 本発明の別の態様に従えば、機器からの排気を集める方法は、機器の少なくと
も一部分をエンクロージャで囲むステップと、エンクロージャと流体で連通する
ようにイジェクタを接続するステップと、加圧流体をイジェクタに供給してそれ
によりイジェクタ内に降圧を生じさせ、これにより排気を機器からイジェクタ内
に引き寄せるステップとを含む。
【0011】 (発明の具体例の説明) さて図面を参照して、まず図1を参照して、本発明の具体例にかかるブロック
図は、漏排気検出システム10内に統合されたサンプル検出システム100の主
要なコンポーネントを示す。排気源12が示され、ここからサンプルストリーム
14がサンプル検索システム100内に引き寄せられる。サンプルストリーム1
4は、排気源12から出る排気(検体とも称される)を含む。サンプル検索シス
テム100は、ボンネットカプセル102と、センサ室114と、イジェクタ1
40とを含む。ガスセンサアレイ200および熱動力(thermodynamic)センサ アレイ280がセンサ室114内に位置する。サンプルストリーム14は、ボン
ネットカプセル102から引き出されてセンサ室114内に入り、ガスセンサア
レイ200および熱動力センサアレイ280をサンプルストリーム14にあてる
。サンプルストリーム14は次いで、イジェクタ140内に入る。圧縮空気源3
0は、圧縮空気32をイジェクタ140に与え、イジェクタ140内で降圧を生
じさせ、これは、サンプルストリーム14をセンサ室114を通りイジェクタ1
40内に引き寄せる。圧縮空気32とサンプルストリーム14とはイジェクタ1
40内で混合され、混合気36として大気に排出される。サンプル検索システム
100は、遠隔較正システム300と統合されるが、これは、測定されている少
量のガスをサンプルストリーム内に注入して、ガスセンサを自動的に較正できる
ように構成される。
【0012】 加えて、制御および通信システム400が、センサ出力を処理するとともに漏
排気検出システム10のための制御および通信機能を実行するために与えられる
。制御および通信システム400は、センサインターフェース回路402と、マ
イクロコントローラ404と、メモリ406と、通信インターフェース回路80
0と、電力変換回路900とを含む。
【0013】 ガスセンサアレイ200および熱動力センサアレイ280はセンサインターフ
ェース回路402に接続され、センサインターフェース回路402はセンサアレ
イからの信号を処理し、処理された信号をマイクロコントローラ404に与える
。好適なガスセンサおよびセンサインターフェースは、本出願と併行して出願さ
れた「高周波測定回路」("High Frequency Measuring Circuit")と題されたジ
ョンP.ディルガ(John P. Dilger)およびナイルK.ディエルシュナイダ(Nile
K.Dielschneider)による米国出願連続番号08/968081に記載されてお
り、それをここに引用により援用する。マイクロコントローラ404は、メモリ
406内に、センサからのデータを記憶し、漏排気検出システム10から受信さ
れたセンサデータを用いて制御動作を開始し、これにより排気を減じるかなくす
ようにする。例えば、マイクロコントローラ404は、排気源12から上流にあ
る弁を閉じて排気源12を通る流体の流れを止め、これにより流体の漏れにより
引き起こされる排気を止める。代替的には、マイクロコントローラ404は、排
気源12自体の動作状況を変更して漏排気を減じるかなくすようにする。マイク
ロコントローラ404は、通信インターフェース回路800を用いてこれらの制
御信号を上流側の弁、排気源12、または排気を減じるかなくすのに用いられる
他のプラント機器に与える。
【0014】 マイクロコントローラ404は、通信インターフェース回路800を用いてセ
ンサデータをプロセス制御システム40に与える。漏排気検出システム10は、
漏排気を測定し、結果として生じるデータを別個のプロセス制御システム40に
直ちに伝えてよい。代替的には、漏排気検出システム10は、各測定で得られた
センサデータを、プロセス制御システム40が後に検索するために記憶してよい
【0015】 通信インターフェース回路800は、プロセス制御システム40からデータお
よび制御コマンドを受け取ってよい。プロセス制御システム40は、漏排気検出
システム10から受信したセンサデータを用いて制御動作を開始して排気を減じ
るかなくすようにする。例えば、プロセス制御システム40は、上で述べたよう
に上流の弁を閉じるかまたは排気源12の動作状況を変更して、排気を減じるか
なくすようにする。
【0016】 電力変換回路900は、プロセス制御システム40との通信リンクによって伝
送される電力を受け取り、この電力を好適な電圧で通信および制御システム40
0に与える。
【0017】 漏排気検出システム10は、排気源12から排出された様々な種類の流体の存
在を検出するかまたはそれらの濃度を測定するのに用いられてよい。このシステ
ムは、源から排出された危険物質、毒性の物質、または汚染物質を検出するのに
用いられても、その喪失が問題の原因かもしれない危険性のない物質の漏を検出
してもよい。漏排気検出システムは、どんな種類の源からの排気でも検出するの
に用いられてよく、特に、危険物質が漏れるかもしれない工業プロセス機器から
の排気を検出するのに用いられてよい。例としては、危険なガスを運ぶライン上
に設置された制御弁、ブロック弁、またはポンプ、危険な流体を含む他のプロセ
ス管上に設置された振動器、スクリューコンベヤー、または他の機器、ならびに
熱交換器、反応器、および危険な流体を含む他のプロセス管がある。排気が漏排
気検出システム10により検出されると、このデータは漏排気検出システム10
により用いられて、排気を減じるかまたはなくす方法でプロセスを制御する。代
替的には、このデータは遠隔プラントプロセス制御システム40に伝送されてよ
く、制御システム40は、排気を減じるかまたはなくす方法でプロセスを制御す
ることにより応答してよい。
【0018】 図2を参照して、図1の漏排気検出システムで用いられるサンプル検索システ
ム100の図が示される。サンプル検索システム100は、ボンネットカプセル
102と、検索マニホールド106と、センサ室114と、イジェクタ140と
を含む。ボンネットカプセル102は排気源12の表面領域を囲むように設計さ
れたエンクロージャからなり、排気源12から排気が出てくるものと予想される
。マニホールド106は一方の端部がボンネットカプセル102に接続され、他
方の端部がセンサ室114に接続され、サンプルストリームが排気源からせンサ
室114内に流れるようにする。マニホールド106は好ましくは、S3160
0ステンレス鋼チュービングで構成されても、他の好適な耐腐食性物質で構成さ
れてもよい。
【0019】 センサ室114は、ガスセンサアレイ200を含み、熱動力センサアレイ(図
示せず)を含んでもよい。センサ室114の出口116はイジェクタ140への
入り口である。空圧制限は、センサ室114への入り口で制限オリフィス118
により与えられる。制限オリフィス118は、センサ室の降圧を誘導してイジェ
クタ140の動作を支援する。制限オリフィス118は、サファイヤ、ステンレ
ス鋼、または監視されている機器から予想される排気に対し不活性の他の好適な
物質で構成されてよい。
【0020】 粒子状フィルタ120は検索マニホールド106にそって位置し、サンプルス
トリーム内の粒子を集める。炎路レストリクタ(flame path restrictor)12 4、126は、センサ室114への入り口でそしてイジェクタ140からの出口
で設けられる。マイクロ弁130、132、134は、サンプル検索システムの
様々な部分を分離するために様々な位置に配置される。マイクロ弁130は、ボ
ンネットカプセル102をセンサ室114から分離するのに用いられてよい。マ
イクロ弁132は、周囲空気をセンサ室114内へ引き寄せる能力を与え、マイ
クロ弁130を閉じて、マイクロ弁132、134を開けることでガスセンサ上
でベースライン較正を行うことが出来る。
【0021】 遠隔較正器がサンプル検索システムに接続されて、ガスセンサをセンサ室11
4から取り外すことなく較正できる。較正物質(calibrant)を含む遠隔較正検体 セル304は第1のマイクロ弁306を経て計量室(dosing chamber)308に
接続される。計量室308は第2のマイクロ弁310を経てセンサ室114に接
続される。
【0022】 センサ室114は好ましくは鋳込(cast)アルミニウムで構成されてよい。室
の内部は、サンプルストリームからのガスの表面収着を低減すべくなめらかな仕
上げを達成するために未仕上げのままでも、コーティングされても、または機械
加工されてもよい。センサ室114は、監視されている排気により影響を受けな
い他の好適な耐腐食性物質から構成されてよい。センサ室114は好ましくは、
フィールドおいてユニットの交換を可能とすべくモジュラユニットとして構成さ
れる。
【0023】 図3を参照して、図2のサンプル検索システム100のボンネットカプセルの
断面図が示される。ボンネットカプセル102は、制御弁として示される排気源
12上で取りつけられたものとして示される。ボンネットカプセル102は、検
索マニホールド106が接続される出口104を含み、弁棒20の周囲でボンネ
ットカプセル102を設置したり、または排気源の他の閉塞部分(obstructing
parts)を設置することができるように開口部108も含む。図2のボンネット カプセル102の構成は、弁本体18と弁棒20との間に位置する弁棒パッキン
グ16から漏れるガスを集めるように設計されている。開口部108は、関係の
ない粒子(ごみ)がボンネットカプセル102内に入るのを制限するために、弁
棒とボンネットカプセル壁との間にわずかな隙間を有するように設計されている
。調節板(バッフル)110は、ボンネットカプセル102内の無関係の粒子が
検索マニホールド106へ入るのを制限するためにボンネットカプセル102内
部に位置決めされている。
【0024】 ボンネットカプセル102は、間隙112がボンネットカプセル102と排気
源12との間にあるように排気源上に取り付けられている。これは低インピーダ
ンスの空圧制限を生じさせ、これにより、空気は間隙112を通ってボンネット
カプセル102を通り、検索マニホールド106内に流れる。この空気の流れは
、排気源12から排出された漏排気を検索マニホールド106内に、そして検出
室内に運ぶ。このように連続的に空気が流れるので、排気源12からの漏排気が
ボンネットカプセル102内に蓄積するのは防がれる。このような蓄積によって
、漏排気の蓄積の影響によるセンサの誤った読取りが生じる。
【0025】 ボンネットカプセルは、ボンネットカプセル102が閉塞部材(obstructing
member)の周囲に取りつけられなければならない位置に容易に設置するために2
つ以上で構成されてよい。このように、図3に示されるようにボンネットカプセ
ル102は、垂直方向に2個の半分に分割されたエンクロージャーを含み、弁棒
の上に取り付けられた弁アクチュエータ(図示せず)を取り外すことなく弁棒2
0の周囲で設置されてよい。ボンネットカプセル102は好ましくは、S316
00ステンレス鋼または他の好適な耐腐食性物質で構成されてよい。
【0026】 図4は、図2のサンプル検索システム100のイジェクタ140の詳細を示す
断面図である。イジェクタ140はセンサ室114と一体化していても、別個の
ユニットとして構成されていてもよい。圧縮空気源30は圧縮空気32をマイク
ロレギュレータ144に与え、これは、調整された圧縮空気34をイジェクタ1
40に与える。圧縮空気は、ボンネットカプセル102から、センサ室114を
通って、イジェクタ140内へサンプルストリーム14を引き寄せるために動力
を与える。加圧ガスまたは液体の他の源も用いてよいが、圧縮空気源30は、空
圧制御弁を変調するためにまたは空圧器械(器具)を動作させるためにプロセスプ
ラントで典型的には用いられる器械(器具)空気供給源であってよい。マイクロレ
ギュレータ144は、工業のアプリケーションで一般に用いられるタイプの小型
の圧力レギュレータである。マイクロレギュレータ144は、圧縮空気の圧力を
低減して調整し、サンプルストリーム14の流れを制御し、圧縮空気32の消費
を最小化する。
【0027】 一次室146はマイクロレギュレータ144から調整された圧縮空気34を受
け取り、これを一次ノズル148内に排出する。一次ノズル148はその形状は
管状であり、オリフィス154は圧縮空気を2次ノズル152のスロート内に排
出する。2次室150はマニホールド106と2次ノズル152のスロートとに
接続されている。2次ノズル152はその形状は管状であり、一次ノズル148
よりも大きな断面積を有しており、オリフィス156は圧縮空気を大気に排出す
る。
【0028】 動作において、調整された圧縮空気34は一次室146に入り、一次ノズル1
48に流入する。調整された圧縮空気34は、一次ノズル148の出口の締めつ
けられた領域に入るときに速度が増す。圧縮された空気の高速ストリームが2次
ノズル152内に排出され、2次室150から空気を運び、それにより、2次室
150内に降圧を生じさせる。この降圧により、サンプルストリーム14の流れ
をボンネットカプセル102から、検索マニホールド106を通って2次室15
0内に誘導する。サンプルストリーム14は、排気源12からの漏排気をサンプ
ル検索システムを通って運び、ガスセンサアレイ200および熱動力センサアレ
イ280を排気にあてる。調整された圧縮空気34およびサンプルストリーム1
4は、2次ノズル152内で混合され、混合気36は大気に排出される。
【0029】 イジェクタ140は、ステンレス鋼または他の耐腐食性物質で構成されてよい
。1次オリフィス154および2次オリフィス156は好ましくはサファイヤで
構成される。
【0030】 イジェクタ140は、サンプル検出システム100を通る公知の流量のサンプ
ルストリーム14を生成するように設計される。サンプルストリーム14の流量
は、1次オリフィス154、2次オリフィス156、およびセンサ室入り口オリ
フィス118の径、および調整された圧縮空気34の圧力により決定される。サ
ンプル検索システム100は、1時間当たり約0.425方形(square)立方フ
ィートのサンプルストリーム流量で十分に動作する。この流量は、0.011イ
ンチの1次オリフィス径と、0.024インチの2次オリフィス径と、0.01
3インチのセンサ室入り口オリフィス径と方形インチゲージ当たり約3.0ポン
ドの調整された圧縮空気圧とで達成されてよい。しかしながら、イジェクタ14
0の様々な寸法および動作状況は、様々な種類の排気源のからの排気を効果的に
集めることが要求されてよい。
【0031】 イジェクタ140内への調整された圧縮空気34の圧力を制御することにより
、2次室150内の降圧は制御され、したがって、検索マニホールド106およ
びセンサ室114を通るサンプルストリーム14の速度は、制御される。さらに
、サンプルストリーム14の流量は、イジェクタ140、検索マニホールド10
6、およびセンサ室114の形状、および1次室146への入り口での圧縮空気
の圧力を与えられれば計算可能である。
【0032】 このように、サンプル検索システム100の設計によって、流量センサが検索
マニホールド106を通るサンプルストリームの流量を測定する必要はなくなる
。ここで述べられたシステムにより、排気源の近くに位置するポンプまたはファ
ンがサンプルストリームを集める必要もなくなる。その結果、単純な低コストの
設計が得られる。サンプル検索システムは、EPAサンプル収集要件に従うよう
に設計可能である。
【0033】 本発明の精神および範囲から逸脱することなく、多くの修正および変形をここ
で説明され示された技術および構造に加えてよい。したがって、ここで説明され
た装置および方法はあうまで例示的であり、本発明の範囲を制限するものではな
い。
【図面の簡単な説明】
【図1】 漏排気検出システム内に統合されるサンプル検索システムの主要コンポーネン
トを示す本発明の具体例のブロック図である。
【図2】 本発明にしたがったサンプル検索システムの図である。
【図3】 図2のサンプル検索システムのボンネットカプセルの詳細を示す断面図である
【図4】 図2のサンプル検索システムのイジェクタの詳細を示す断面図である。
【符号の説明】
12 排気源 102 カプセル 140 イジェクタ 100 サンプル検索システム 200、280 センサ 400 通信および制御システム
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成11年10月13日(1999.10.13)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SZ,UG,ZW),EA(AM ,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM) ,AL,AM,AT,AU,AZ,BA,BB,BG, BR,BY,CA,CH,CN,CU,CZ,DE,D K,EE,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM ,HR,HU,ID,IL,IS,JP,KE,KG, KP,KR,KZ,LC,LK,LR,LS,LT,L U,LV,MD,MG,MK,MN,MW,MX,NO ,NZ,PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG, SI,SK,SL,TJ,TM,TR,TT,UA,U G,UZ,VN,YU,ZW

Claims (26)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 排気源から排気を集める装置であって、 a)前記排気源の少なくとも一部分を囲むように適合されるカプセルと、 b)前記カプセルと流体で連通するとともに加圧流体の源に接続可能であるイジ
    ェクタとを備え、これにより前記加圧流体は前記イジェクタを通って流れ、それ
    により降圧を生じさせて前記排気を前記カプセルから前記イジェクタ内に引き寄
    せる装置。
  2. 【請求項2】 前記カプセルは、前記排気源に対し低インピーダンスの制限
    を生じさせるように適合される請求項1に記載の装置。
  3. 【請求項3】 前記カプセルは、前記排気源の少なくとも一部分を取り囲む
    ように適合される複数片を備える請求項1に記載の装置。
  4. 【請求項4】 前記イジェクタは1次ノズルと2次ノズルとを備え、前記1
    次ノズルは前記加圧流体を受け取り、前記加圧流体を前記2次ノズル内に排出す
    るように適合される請求項1に記載の装置。
  5. 【請求項5】 前記1次ノズルが前記加圧流体を受け取る前に、前記加圧流
    体の圧力を調整するマイクロレギュレータをさらに備える請求項4に記載の装置
  6. 【請求項6】 前記カプセルと前記イジェクタとの間に配置されたセンサ室
    をさらに備え、前記排気は前記カプセルから前記センサ室を通って前記イジェク
    タ内に引き寄せられる請求項5に記載の装置。
  7. 【請求項7】 前記センサ室は前記イジェクタと一体化される請求項6に記
    載の装置。
  8. 【請求項8】 前記カプセルと前記センサ室との間に配置されたマニホール
    ドをさらに備える請求項6に記載の装置。
  9. 【請求項9】 前記センサ室と流体で連通する、較正流体の源をさらに備え
    る請求項6に記載の装置。
  10. 【請求項10】 前記排気源は、外表面を有する弁棒パッキングを有する弁
    を備え、前記カプセルは前記弁の前記弁棒パッキングの前記外表面を円周方向に
    囲む請求項6に記載の装置。
  11. 【請求項11】 前記加圧流体は圧縮空気を含む請求項1に記載の装置。
  12. 【請求項12】 前記加圧流体は圧縮空気を含む請求項6に記載の装置。
  13. 【請求項13】 排気源からの漏排気をセンサに送るための装置であって、 a)前記排気源から前記漏排気を集める囲み手段と、 b)前記囲み手段と流体で連通する、前記センサを収容する収容手段と、 c) 前記収容手段と流体で連通し、降圧を生じさせて前記排気源から前記収容 手段を通って前記漏排気を引き寄せそれにより前記センサを前記漏排気にあてる
    ようにする輸送手段とを備える装置。
  14. 【請求項14】 前記輸送手段は1次ノズルと2次ノズルとを備える請求項
    13に記載の装置。
  15. 【請求項15】 前記輸送手段と流体で連通して、前記降圧を調整する調整
    手段をさらに備える請求項14に記載の装置。
  16. 【請求項16】 前記収容手段と流体で連通する、較正流体を与える手段を
    さらに備える請求項13に記載の装置。
  17. 【請求項17】 排気源からの排気に関するデータを集めるためのシステム
    であって、 a)前記排気源の少なくとも一部分を囲むように適合されるカプセルと、 b)前記カプセルと流体で連通し、加圧流体の源に接続可能であるイジェクタ
    とを備え、これにより前記加圧流体は前記イジェクタを通って流れそれにより降
    圧を生じさせて前記カプセルから前記イジェクタ内に前記排気を引き寄せ、さら
    に、 c)前記カプセルと前記イジェクタとの間に配置され、前記イジェクタにより
    前記排気源から引き寄せられた前期排気の濃度を示すデータを生成する少なくと
    もひとつのセンサと、 d)前記データを記憶する手段とを備えるシステム。
  18. 【請求項18】 前記データはプロセス制御システムに伝えられる請求項1
    7に記載のシステム。
  19. 【請求項19】 前記プロセス制御システムは、前記排気を減じるために、
    前記排気データにしたがってプラント状況を制御する請求項18に記載のシステ
    ム。
  20. 【請求項20】 排気源からの排気を減じるためのシステムであって、 a)前記排気源の少なくとも一部分を囲むカプセルと流体で連通するとともに
    加圧流体の源に接続可能であり、降圧を生じさせて前記カプセルからイジェクタ
    に前記排気を引き寄せるためのイジェクタと、前記排気を検出するセンサとを有
    するサンプル検索システムと、 b)前記センサに接続され、前記排気源から引き寄せられた前期排気の濃度を 示すデータ生成する通信および制御システムとを備えるシステム。
  21. 【請求項21】 前記通信および制御システムに遠隔的に接続され、前記デ
    ータを受信して、前記排気を減じるために前記排気源を制御するプロセス制御シ
    ステムをさらに備える請求項20に記載のシステム。
  22. 【請求項22】 前記通信および制御システムは、前記排気源からの前記排
    気の濃度を示すデータを記憶する手段を備える請求項21に記載のシステム。
  23. 【請求項23】 前記通信および制御システムは、前記データを用いて前記
    排気源を制御して排気を減じるかなくす手段を備える請求項20に記載のシステ
    ム。
  24. 【請求項24】 排気源から排気を集める方法であって、 a)前記排気源の少なくとも一部分をエンクロージャで囲むステップと、 b)前記エンクロージャと流体で連通するイジェクタを設けるステップと、 c)加圧流体を前記イジェクタに供給してそれによりイジェクタ内に降圧を生
    じさせて前記排気を前記排気源から前記イジェクタ内に引き寄せるステップとを
    含む方法。
  25. 【請求項25】 前記加圧流体がイジェクタに供給される前に前記前記加圧
    流体の圧力を調整するステップをさらに含む請求項24に記載の方法。
  26. 【請求項26】 前記エンクロージャは、前記排気源に対して低インピーダ
    ンスの制限を生じさせる請求項25に記載の方法。
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