JP4287743B2 - 蛍光体層の製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、蛍光体層を製造する方法及びこの方法を実施するための設備に関する。
異なる飽和蒸気圧を有する、例えばヨウ化セシウム(CsI)とヨウ化タリウム(TlI)又は臭化セシウム(CsBr)と臭化ユウロピウム(EuBr2)のようなハロゲン化物とドーパントとを使用した場合、蒸発時にそれらの融解物から、飽和蒸気圧の高い化合物が飽和蒸気圧の低い化合物よりも早く離れて行く。そのため基板上に析出した結晶中に、ドーパントが不均一に分布する。例えばその表面にある結晶は、その内部にあるものよりも高いドーパント含有量を示す。
この問題に対処すべく、独国特許第4429013号明細書から、X線測定設備で蒸着中の蛍光体層の層厚を測定することが公知である。その測定結果に応じて、できるだけ一様な層厚と、それらの融解物の完全な蒸発を達成すべく、その蒸着率を調節する。
更に独国特許第19516450号明細書で、CsI:Tlの蛍光体層の製造法が公知である。その際少なくとも蒸着中の蒸着装置内の圧力は、使用したタリウム(Tl)の飽和蒸気圧より高く保持される。この方法で、発光量の増した蛍光体層を製造できる。
これら公知方法は、特に飽和蒸気圧が左程異ならないアルカリハロゲン化物から生成する化合物の蒸着に適する。しかしこれら方法は、飽和蒸気圧が互いに著しく異なる、例えばCsBrとEuBr2等の、化合物から成る蛍光体層の製造には不適である。
更に従来技術から、蒸着後、蛍光体層を「十分に熱する」ことが公知である。十分に熱すると、ドーパントの濃度差を低減できる。その結果蛍光体の発光量又は蓄積容量の最適値が得られる。この方法は、欠陥品が多いと言う欠点を持つ。更にその発光量は全ての位置で、即ちx−y方向に一様ではない。特にこの蛍光体層を蛍光X線増倍管として用いる場合、X線画像の品質を不所望に落とすことになる。それ故、最高で5%の発光量の変動をその最大値に対し許容し得るに過ぎない。
本発明の課題は、この従来技術の欠点を除くことにある。特にx−y方向に略一様な発光量を示す蛍光体層を製造すべく、できるたけ普遍的で、簡単な方法を提供することにある。本発明のもう1つの課題は、この方法の実施に適した設備を提供することにある。
この課題は、請求項1及び12の特徴事項により解決される。有効なその実施形態は、請求項2から10及び13並びに14に示す。
本発明は、以下に記載する処理により蛍光体層を製造する方法を提供する。
a)蒸気相から蛍光体層を基板上に析出し、
b)その発光量を場所的分解能をもって測定し、
c)蛍光体層の発光量が所定の値より低い箇所を局所的に焼戻しする。
「場所的分解能をもった測定」とは、x−y方向、即ち蛍光体層の横方向の測定を意味する。所定の値とは、蛍光体層の各使用に必要な発光量の最小値である。蛍光体とは、シンチレータ又は記憶型蛍光体を言う。この種蛍光体は、コンピュータ補助による放射線医学で、X線フィルムとしての倍増板による蛍光X線画像増倍管の製造に使用される。
この方法により、驚くほど簡単な作業で、全ての箇所でほぼ等しい発光量を示す蛍光体層を製造できる。これはx−y方向に厚さの異なる蛍光体層の場合でも上手くいく。上記提案法によりその欠陥品を著しく低減できる。
有利な1実施形態では、蛍光体層の発光量が全箇所において最高でも10%、有利には5%前後、所定の値より少なくなる迄処理bとcを繰返す。この蛍光体層はX線蛍光イメージ増倍管に使用できる。その所定の値は、勿論処理bで測定した最大値である。この発光量を、蛍光体層の他の箇所の局所的な焼戻しで、その最大値に適合させる。
全ての繰返し時に、局所的な焼戻しを行う第1の温度を、先行して行う局所分析焼戻しの際より高く選ぶ。第1の温度を、局所的焼戻し時のどの繰返しの際にも20〜50℃前後高く選択するとよい。上述の特徴は、第1の温度を上げることで、蛍光体の発光量を上昇させ得るという認識に基づく。従って発光量の低い箇所に、発光量がほぼ所定の値に合致する迄上述の処理を反復し、その発光量を高める。第1の温度を高める代わりに、処理bとcの繰返し時にその保持時間を変えることもできる。勿論前記の2つのパラメータ、即ち第1の温度と保持時間を、発光量を高めるべく変化させることも可能である。
もう1つの実施形態の特徴によれば、処理bの前に蛍光体層全体を150〜250℃の第2の温度で焼戻しする。蛍光体層全体のかかる焼戻しは、発光量の平均値を高める役目をする。こうして発光量の著しい局所的差異は均一化される。発光量の局所的差異を均一化すべく、処理bとcの繰返しを少ない回数で行う必要がある。
この発光量の一様な分布をx−y方向で達成するために、処理cの際に第1の温度を第2の温度よりも高く選択すると有利である。
局所的な焼戻しのため、多数の発熱体からなる熱アレイを用い、その際全発熱体を前以て各箇所で測定した発光量の値に応じて算出した第1の温度に適合させる。この発光量が発熱体の関連した位置で所定値以下なら、該発熱体を予め算定した第1の温度に加熱し、所定の保持時間中この温度に保つ。発熱体に関連する位置で、その発光量が既に所定の値に適合するなら、該発熱体を加熱せず、その温度を環境温度に設定する。
場所的分解能をもって発光量を測定するため、スキャナ又はCCDカメラを用いるとよい。この場合スキャナは、LEDスキャナである。この種スキャナやCCDカメラを用いて、蛍光体層を機械的に走査することなく、x−y方向の発光量の分布を把握ができる。即ちその発光量の分布を瞬時に把握し、次いで分析評価する。その際全発熱体に対し、第1の温度を後続の焼戻し処理のために算出する。その保持時間を予め確定しておくか、同様に評価の結果として前以て個別に定めておく。この分析評価を、所定のコンピュータプログラムで自動的に、処理bとcを発光量の所定の配分が達成される迄繰返して行う。
もう1つの実施形態の特徴によれば、この蛍光体層をドープされたアルカリハロゲン化物から製造する。このドープされたアルカリハロゲン化物は、CsBr:Eu、CsI:Tl、CrI:Na、RbBr:Eu及びRbBr:Tlから成る群から選択できる。勿論この蛍光体層は、蒸着に適した他のアルカリハロゲン化物からも製造できる。
本発明方法を実施するため、本発明の別の形態では、場所的分解能をもって蛍光体層の発光量を測定する装置、多数の個別に制御可能な発熱体から構成される熱アレイ、発光量の測定値に依存して発熱体を制御する装置を備えた設備を設ける。
上記の設備で、自動的にx−y方向に一様な発光量を示す蛍光体層が製造可能になる。
この設備の他の構成要素として、蛍光体層を照射するためのX線源を備えるとよい。蛍光体層の照射後、場所的分解能をもって発光量を測定するこの装置で、x−y方向の発光量の分布を測定できる。場所的分解能をもってこの発光量を測定する装置が、CCDカメラやスキャナを包含してもよい。該スキャナはLEDスキャナである。この装置は発光量の分布を迅速に場所的分解能をもって測定することを可能にする。上に提案した設備は、コンピュータプログラムによりオートメーション化して操作できる。
本発明の実施例を図面に基づき以下に詳述する。
図1は熱アレイ1を示す。この熱アレイ1は多数の発熱体2を包含し、それらは行と列をなして配列されている。発熱体2は抵抗素子であると有利である。その一辺の長さは1〜5cmであってよい。どの発熱体2も個別に所定の温度に調整可能である。
図2は、基板3とその上に施された蛍光体層4からなる蛍光板を局所的に焼戻しする設備を示す。この蛍光体は、例えばCsBr:Euである。この蛍光板は熱アレイ1上に載っている。熱アレイ1の発熱体2は制御及び調整装置5と接続されている。同様に、スキャナ6(特にLED面スキャナ)、赤外線カメラ7及びX線管8は制御及び調整装置5と接続されている。このスキャナ6の代えてCCDカメラを備えてもよい。
この設備の操作は以下に記載する通りである。
この蛍光板を熱アレイ1上に載せた後、制御及び調整装置5により熱アレイ1を、例えば170℃の単一の温度に加熱する。この温度を例えば1時間保持する。この温度は赤外線カメラ7と制御及び調整装置5により調節できる。第1の焼戻し処理により、蛍光体層4の発光量を当面の使用に必要な所定の最低値にもたらす。
この蛍光体層3を冷却した後、これをX線管8により所定の時間の間、所定のエネルギーで照射する。その際生成する蛍光をスキャナ6により把握する。制御及び調整装置5により、発熱体2に対応する蛍光体層の面構成要素の全ての発光量を把握する。検出した発光量を所定の値と比較する。所定の値と検出値との間に差異が存在するとき、関連する発熱体2の設定温度を算出する。
引続き、これら発熱体2を算出した焼戻し温度に加熱し、所定の保持時間中焼戻し温度に保つ。焼戻し温度の調整は、同様に赤外線カメラ7及び制御と調整装置5で行う。
蛍光板の冷却後、これをX線管8により再びX線で照射する。新たにこのx−y方向の発光量の分布をスキャナ6で把握し、制御及び調整装置5で分析評価する。所定の値に対しなお差異を持つ蛍光体層3の同じ面構成要素をそれらに配分された発熱体2で、もう1回加熱する。その際この焼戻し温度を先行回の焼戻し温度よりも高く選択するとよい。
上記の方法を、所定の最高の焼戻し温度に達する迄繰返す。この温度は蛍光体の組成に依存する。
上に提案した方法により、その蛍光体層が一様な発光量をx−y方向に示す蛍光板を簡単かつ迅速に製造することができる。この発光量の変動は、面上で最大5%である。
本発明の熱アレイの平面図。 本発明の設備の構成要素の配置図。
符号の説明
1 熱アレイ、2 発熱体、3 基板、4 蛍光体層、5 制御及び調整装置、6 スキャナ、7 赤外線カメラ、8 X線管

Claims (14)

  1. a)蛍光体層(4)を蒸気相から基板(3)上に析出し、
    b)その発光量を場所的分解能をもって測定し、
    c)蛍光体層(4)の発光量が所定の値より低い箇所を局所的に焼戻しする
    各処理により蛍光体層(4)を製造する方法。
  2. 蛍光体層(4)の発光量が全ての部位で所定の値よりも最高で10%低くなる迄処理bとcを繰返す請求項1記載の方法。
  3. 上記の所定の値が処理bで測定した最大値である請求項1又は2記載の方法。
  4. 各繰返しの際に、局所的に焼戻しする際の第1の温度を、先行して行った局所的焼戻しの温度よりも高く選択する請求項1から3の1つに記載の方法。
  5. 各繰返しの際に、局所的に焼戻しする際の第1の温度を、先行して行った局所的焼戻しの温度よりも20〜50℃前後ずつ高く選択する請求項1から4の1つに記載の方法。
  6. 蛍光体層(4)全体を、処理bを行う前に約150〜250℃の範囲の第2の温度で焼戻す請求項1から5の1つに記載の方法。
  7. 処理cの第1の温度を、第2の温度より高く選択する請求項1から6の1つに記載の方法。
  8. 局所的焼戻しのため多数の発熱体(2)から構成される熱アレイ(1)を使用し、その際各発熱体(2)を、予め各箇所で測定した発光量の値に応じて算出した第1の温度に調整する請求項1から7の1つに記載の方法。
  9. 発光量を場所的分解能をもって測定するため、スキャナ(6)又はCCDカメラを使用する請求項1から8の1つに記載の方法。
  10. 上記の蛍光体層(4)を、ドープされたアルカリハロゲン化物から製造する請求項1から9の1つに記載の方法。
  11. ドープされたアルカリハロゲン化物を、CsBr:Eu、CsI:Tl、CsI:Na、RbBr:Eu及びRbBr:Tlの群から選択する請求項10記載の方法。
  12. 蛍光体層(4)の発光量を場所的分解能をもって測定する装置(6)、多数の個別に制御可能な発熱体(2)から構成される熱アレイ(1)及び発光量の測定値に応じて発熱体(2)を制御する装置(5)を備えた請求項1から11の1つに記載の方法を実施するための設備。
  13. 蛍光体層(4)を照射するため、X線源(8)を備えた請求項12記載の設備。
  14. 発光量を場所的分解能をもって測定するための上記装置が、CCDカメラ又はLED素子を備えたスキャナを有する請求項12又は13記載の設備。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2003250307A1 (en) * 2002-07-30 2004-03-03 Siemens Aktiengesellschaft Method for vapor-depositing a substrate with a needle-shaped x-ray fluorescent material, and x-ray fluorescent material

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT649689A (ja) * 1960-07-05
US3984679A (en) * 1975-02-18 1976-10-05 Gte Laboratories Incorporated Coating thickness monitor for multiple layers
US4024291A (en) * 1975-06-17 1977-05-17 Leybold-Heraeus Gmbh & Co. Kg Control of vapor deposition
FR2586508B1 (fr) * 1985-08-23 1988-08-26 Thomson Csf Scintillateur d'ecran d'entree de tube intensificateur d'images radiologiques et procede de fabrication d'un tel scintillateur
JPS6364290A (ja) * 1986-09-05 1988-03-22 株式会社日立製作所 El素子製造装置
US5180610A (en) * 1988-11-15 1993-01-19 Siemens Aktiengesellschaft Method for manufacturing a luminescent storage screen having a phophor which is transparent to read-out radiation
DE4125200A1 (de) * 1991-07-30 1993-02-04 Siemens Ag Verfahren zur herstellung einer leuchtstoffschicht auf einem substrat
JPH05159878A (ja) * 1991-12-02 1993-06-25 Hitachi Ltd 薄膜蛍光体の光アニール方法及び光アニール装置
JPH07240149A (ja) * 1994-02-25 1995-09-12 Nec Kansai Ltd カラー陰極線管用パネル加熱装置
DE4429013C2 (de) * 1994-08-16 2001-08-09 Siemens Ag Vorrichtung zum Bedampfen oder Sputtern eines Substrates
DE19516450C1 (de) * 1995-05-04 1996-08-08 Siemens Ag Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen einer Leuchtschicht aus Cesiumiodid-Thallium auf einem Substrat in einer Bedampfungsanlage
WO1999031509A1 (en) * 1997-11-27 1999-06-24 MAX-PLANCK-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. Improved method for the identification and characterization of interacting molecules using automation
US6100506A (en) * 1999-07-26 2000-08-08 International Business Machines Corporation Hot plate with in situ surface temperature adjustment
US20010007352A1 (en) * 1999-12-27 2001-07-12 Erich Hell Binderless storage phosphor screen with needle shaped crystals
US6730243B2 (en) * 2000-12-22 2004-05-04 Afga-Gevaert Cesium halide storage phosphor with narrow emission spectrum upon UV-excitation
US7026631B2 (en) * 2002-05-31 2006-04-11 Konica Corporation Radiation image conversion panel and preparation method thereof
JP2004340892A (ja) * 2003-05-19 2004-12-02 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線像変換パネルおよびその製造方法

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