JP4279161B2 - Ultra-thin flexible wiring board - Google Patents

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Description

本発明は、電気機器、電子機器等の配線のために使用される極薄フレキシブル配線板に係り、特にその厚さが薄く、かつ、使用時の折り曲げ等に対して優れた信頼性を有する極薄フレキシブル配線板に関する。   The present invention relates to an ultra-thin flexible wiring board used for wiring of electrical equipment, electronic equipment, etc., and in particular, the thickness is thin and the pole has excellent reliability against bending during use. The present invention relates to a thin flexible wiring board.

従来より、フレキシブル配線板は高屈曲性を有するため、電気機器、電子機器等の配線として用いられている。特に、近年では、HDD、CD−ROM等のコンピュータ周辺機器等の可動部材の配線として多用されるようになっている。   Conventionally, flexible wiring boards have been highly flexible and thus have been used as wiring for electrical equipment, electronic equipment, and the like. In particular, in recent years, it has been frequently used as a wiring for movable members of computer peripheral devices such as HDDs and CD-ROMs.

フレキシブル配線板は、例えばプラスチックフィルム等の上に必要に応じて含成樹脂等からなる接着剤組成物を介して銅箔を積層し、この銅箔にエッチング等の処理を行って所定の回路パターンを形成した後、さらに、この銅箔上に必要に応じて接着剤組成物を介してプラスチックフィルム等を積層して製造されている。   For example, a flexible wiring board has a predetermined circuit pattern formed by laminating a copper foil on an adhesive composition made of a component resin or the like on a plastic film, for example, and performing a process such as etching on the copper foil. Then, a plastic film or the like is further laminated on the copper foil with an adhesive composition as necessary.

このようなフレキシブル配線板には、機器の筐体空間への高密度配置のためこれまで以上に薄さが求められている。そこで、例えば厚さ1〜5μmの極薄銅箔とポリイミドフィルムとを接着剤層を介してラミネートすることにより、フレキシブル配線板の厚さを薄くすることが知られている(例えば、特許文献1参照。)。   Such a flexible wiring board is required to be thinner than ever because of high density arrangement in the housing space of the device. Therefore, for example, it is known to reduce the thickness of the flexible wiring board by laminating an ultrathin copper foil having a thickness of 1 to 5 μm and a polyimide film via an adhesive layer (for example, Patent Document 1). reference.).

また、10μm以下の極薄金属箔上に、この金属箔と同程度以下のポリイミドまたはポリアミド酸溶液を直接流延・塗布し、この塗布した側にポリイミドフィルムを加熱・圧着し、フレキシブル配線板の厚さを薄くすることが知られている(例えば、特許文献2参照。)。
特開2001−102693号公報 特開平6−190967号公報
Further, a polyimide or polyamic acid solution having a degree equal to or less than that of the metal foil is directly cast and applied onto an ultrathin metal foil having a thickness of 10 μm or less, and a polyimide film is heated and pressure-bonded on the applied side, thereby forming a flexible wiring board. It is known to reduce the thickness (see, for example, Patent Document 2).
JP 2001-102693 A JP-A-6-190967

フレキシブル配線板には機器の筐体空間への高密度配置のために、これまで以上の薄さが求められている。上述したように、極薄金属箔を用いることによりフレキシブル配線板の厚さは薄くなりつつあるものの、その厚さは依然として25μmを超えるようなものとなっており、その厚さを薄くすることが求められている。また、フレキシブル配線板には厚さを薄くすることだけでなく、使用時の折り曲げ等に対して優れた信頼性を有するものであることも求められている。   The flexible wiring board is required to be thinner than ever for high-density arrangement in the housing space of the device. As described above, the thickness of the flexible wiring board is becoming thinner by using the ultrathin metal foil, but the thickness is still over 25 μm, and the thickness can be reduced. It has been demanded. In addition, the flexible wiring board is required not only to have a small thickness but also to have excellent reliability against bending during use.

本発明は、上述したような課題を解決するためになされたものであって、厚さが極めて薄く、かつ、十分な折り曲げ性、屈曲信頼性を有する極薄フレキシブル配線板を提供することを目的としている。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object thereof is to provide an ultrathin flexible wiring board having an extremely thin thickness and sufficient bendability and bend reliability. It is said.

本発明の極薄フレキシブル配線板は、少なくともベースフィルムと極薄銅箔とが接着剤組成物の硬化物を介して積層されてなる部分を有する極薄フレキシブル配線板であって、前記ベースフィルムの厚さが3μm以上6μm以下、そのフィルム物性である引っ張り強度が300MPa以上であり、かつ、前記ベースフィルム、接着剤組成物の硬化物および極薄銅箔からなる積層部分の厚さが20μm以下であることを特徴とする。 The ultrathin flexible wiring board of the present invention is an ultrathin flexible wiring board having a portion in which at least a base film and an ultrathin copper foil are laminated via a cured product of an adhesive composition , The thickness is 3 μm or more and 6 μm or less, the tensile strength which is the film physical property is 300 MPa or more, and the thickness of the laminated portion composed of the base film, the cured product of the adhesive composition and the ultrathin copper foil is 20 μm or less. It is characterized by being.

前記ベースフィルムは、ポリパラフェニレンテレフタルアミドフィルムであることが好ましい。前記接着剤組成物はエラストマーを5重量%以上80重量%以下含有し、前記接着剤組成物の硬化物は引っ張り弾性率が200MPa以上2000MPa以下であることが好ましい。 The base film is preferably a polyparaphenylene terephthalamide film. The adhesive composition preferably contains an elastomer in an amount of 5 wt% to 80 wt%, and the cured product of the adhesive composition preferably has a tensile modulus of 200 MPa to 2000 MPa.

前記極薄銅箔は厚さが3μm以上9μm以下であり、その銅箔物性である引っ張り強度が400MPa以上であることが好ましい。 The ultra-thin copper foil is not less 3μm or more 9μm or less thick, it is not preferable tensile strength is its copper property is not less than 400 MPa.

前記接着剤組成物は、(A)ポリエポキシド化合物、(B)エポキシ用硬化剤、(C)エポキシ用硬化促進剤、(D)無機充填材および(E)エラストマーを必須成分として含有するものであることが好ましい。   The adhesive composition contains (A) a polyepoxide compound, (B) a curing agent for epoxy, (C) a curing accelerator for epoxy, (D) an inorganic filler, and (E) an elastomer as essential components. It is preferable.

本発明によれば、少なくともベースフィルムと極薄銅箔とを接着剤組成物の硬化物を介して貼り合わせてなる積層部分を有する極薄フレキシブル配線板において、該ベースフィルムの厚さを3μm以上6μm以下、そのフィルム物性である引っ張り強度を300MPa以上とすることによって、該ベースフィルム、接着剤組成物の硬化物および極薄銅箔からなる積層部分の厚さを20μm以下とすると共に、その折り曲げ性、曲信頼性を十分なものとすることができる。 According to the present invention, in an ultrathin flexible wiring board having a laminated portion formed by bonding at least a base film and an ultrathin copper foil through a cured product of an adhesive composition, the thickness of the base film is 3 μm or more. 6 μm or less, and the tensile strength, which is a physical property of the film, is 300 MPa or more, so that the thickness of the laminated portion made of the base film, the cured product of the adhesive composition and the ultrathin copper foil is 20 μm or less, and the bending sex, the bending songs reliability can be made sufficient.

以下、本発明の極薄フレキシブル配線板について詳細に説明する。本発明の極薄フレキシブル配線板は、少なくともベースフィルムと極薄銅箔とが接着剤組成物の硬化物を介して積層されてなる部分を有する極薄フレキシブル配線板であって、前記ベースフィルム、接着剤組成物の硬化物および極薄銅箔からなる積層部分の厚さが20μm以下であることを特徴とする。   Hereinafter, the ultrathin flexible wiring board of the present invention will be described in detail. The ultrathin flexible wiring board of the present invention is an ultrathin flexible wiring board having a portion in which at least a base film and an ultrathin copper foil are laminated via a cured product of an adhesive composition, the base film, The thickness of the laminated part consisting of the cured product of the adhesive composition and the ultrathin copper foil is 20 μm or less.

本発明の極薄フレキシブル配線板においては、ベースフィルムの一方の面のみに接着剤組成物の硬化物を介して極薄銅箔が積層された片面構造のものであってもよいし、ベースフィルムの両面にそれぞれ接着剤組成物の硬化物を介して極薄銅箔が積層された両面構造のものであってもよい。このような両面構造のものにおいては、ベースフィルムの少なくとも一方の面側で上記積層部分の厚さが20μm以下であればよいが、それぞれの面側で上記部分の厚さが20μm以下であればより好ましい。   The ultrathin flexible wiring board of the present invention may have a single-sided structure in which an ultrathin copper foil is laminated on only one surface of the base film via a cured product of the adhesive composition. It may have a double-sided structure in which ultrathin copper foils are laminated on each of both sides via a cured product of the adhesive composition. In such a double-sided structure, the thickness of the laminated portion may be 20 μm or less on at least one surface side of the base film, but if the thickness of the portion is 20 μm or less on each surface side, More preferred.

このような本発明の極薄フレキシブル配線板に用いられるベースフィルムは、厚さが3μm以上μm以下であり、そのフィルム物性である引っ張り強度が300MPa以上であるものであるThe base film used in the ultrathin flexible wiring board of the present invention as described above, the thickness is not more 6 [mu] m or less than 3 [mu] m, the film properties in a tensile strength is not lower than 300 MPa.

ベースフィルムの厚さが3μm未満であると、ピンホール、強度等に対する信頼性が確保できず、厚さがμmを超えると、極薄フレキシブル配線板全体の厚さが増加し、狭い筐体空間に折り曲げ実装することが困難となり、折り曲げ信頼性も低下するおそれがあるため好ましくない。また、上記厚さ範囲におけるフィルム物性である引っ張り強度が300MPa未満であると、上記厚さ範囲での折り曲げ信頼性が確保できないため好ましくない。 If the thickness of the base film is less than 3 μm, reliability for pinholes, strength, etc. cannot be ensured. If the thickness exceeds 6 μm, the total thickness of the ultra-thin flexible wiring board increases, resulting in a narrow housing It is not preferable because it is difficult to bend and mount in the space and the bending reliability may be lowered. Moreover, it is not preferable that the tensile strength, which is the physical property of the film in the thickness range, is less than 300 MPa because the bending reliability in the thickness range cannot be ensured.

本発明におけるより好ましいベースフィルムの厚さおよび引っ張り強度は、4μm以上6μm以下、350MPa以上である。また、ベースフィルムは上記厚さ範囲におけるフィルム物性である引っ張り弾性率が、10GPa以上20GPa以下であればより好ましい。   More preferable thickness and tensile strength of the base film in the present invention are 4 μm or more and 6 μm or less and 350 MPa or more. Moreover, it is more preferable if the tensile elasticity modulus which is a film physical property in the said thickness range is 10 GPa or more and 20 GPa or less.

ベースフィルムの材質は少なくとも上記厚さ範囲で上記引っ張り強度を有するものであれば特に制限されるものではなく、例えばポリイミドフィルム、ポリパラフェニレンテレフタルアミドフィルム、ポリエーテルニトリルフィルム、ポリエーテルスルホンフイルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム等のプラスチックフィルムが挙げられる。   The material of the base film is not particularly limited as long as it has the above-described tensile strength in the above thickness range. For example, polyimide film, polyparaphenylene terephthalamide film, polyether nitrile film, polyether sulfone film, polyethylene Examples thereof include plastic films such as a terephthalate film, a polyethylene naphthalate film, and a polyvinyl chloride film.

これらのプラスチックフィルムの中でも、耐熱性、寸法安定性、電気的特性、機械的特性、耐薬品性およびコスト等の観点から、ポリパラフェニレンテレフタルアミドフィルム等が好適なものとして挙げられる。   Among these plastic films, a polyparaphenylene terephthalamide film and the like are preferable from the viewpoints of heat resistance, dimensional stability, electrical characteristics, mechanical characteristics, chemical resistance, cost, and the like.

本発明の極薄フレキシブル配線板に用いられる極薄銅箔は、厚さ3μm以上9μm以下であり、その銅箔物性である引っ張り強度が400MPa以上であることが好ましい。   The ultrathin copper foil used for the ultrathin flexible wiring board of the present invention has a thickness of 3 μm or more and 9 μm or less, and preferably has a tensile strength of 400 MPa or more, which is a physical property of the copper foil.

極薄銅箔の厚さが3μm未満であると、ピンホール等に対する信頼性を確保できず、厚さが9μmを超えると、極薄フレキシブル配線板全体の厚さが増加し狭い筐体空間に折り曲げ実装することが困難となり、また折り曲げ信頼性も低下するおそれがあるため好ましくない。また、上記厚さ範囲における引っ張り強度が400MPa未満であると、上記厚さ範囲での折り曲げ信頼性が確保できないため好ましくない。本発明におけるより好ましい極薄銅箔の厚さおよび引っ張り強度は、3μm以上6μm以下、430MPa以上である。   If the thickness of the ultra-thin copper foil is less than 3 μm, reliability against pinholes cannot be ensured. If the thickness exceeds 9 μm, the thickness of the entire ultra-thin flexible wiring board increases, resulting in a narrow housing space. It is not preferable because it is difficult to bend and mount, and the bending reliability may be lowered. Further, if the tensile strength in the thickness range is less than 400 MPa, it is not preferable because the bending reliability in the thickness range cannot be secured. More preferable thickness and tensile strength of the ultrathin copper foil in the present invention are 3 μm or more and 6 μm or less and 430 MPa or more.

本発明の極薄フレキシブル配線板においてベースフィルムと極薄銅箔とを接着する接着剤組成物の硬化物は、その厚さが5μm以上20μm未満であることが好ましい。5μm未満であると、フレキシブル配線板の半田耐熱性等の耐熱性が低下するおそれがあるため好ましく、20μm以上となると耐屈曲特性が著しく低下するため好ましくない。   The cured product of the adhesive composition that bonds the base film and the ultrathin copper foil in the ultrathin flexible wiring board of the present invention preferably has a thickness of 5 μm or more and less than 20 μm. If it is less than 5 μm, heat resistance such as solder heat resistance of the flexible wiring board may be lowered, and if it is 20 μm or more, the bending resistance is remarkably lowered.

本発明に用いられる接着剤組成物の硬化物は、上記厚さ範囲での引っ張り弾性率が200MPa以上2000MPa以下であればより好ましい。引っ張り弾性率が200MPa未満であると十分な屈曲寿命を得ることができないおそれがあるため好ましくなく、2000MPaを超えると、もろさのためにフレキシブル配線板の柔軟性が低下し、耐折性が著しく低下するおそれがあるため好ましくない。   The cured product of the adhesive composition used in the present invention is more preferable if the tensile elastic modulus in the above thickness range is 200 MPa or more and 2000 MPa or less. If the tensile modulus is less than 200 MPa, a sufficient bending life may not be obtained, which is not preferable. This is not preferable because it may cause

このような硬化物を得るための接着剤組成物は少なくともエラストマーを含むものであることが好ましく、さらに接着剤組成物全体におけるエラストマーの含有量が5重量%以上80重量%以下であるものが好ましい。   The adhesive composition for obtaining such a cured product preferably contains at least an elastomer, and more preferably contains 5% by weight or more and 80% by weight or less of the elastomer in the entire adhesive composition.

接着剤組成物全体におけるエラストマーの含有量が5重量%未満であると、上記厚さ範囲での接着剤組成物の硬化物の引っ張り弾性率が2000MPaを超え、もろさのためにフレキシブル配線板の柔軟性が低下し、耐折性が著しく低下するおそれがあるため好ましくなく、80重量%を超えると、上記厚さ範囲での引っ張り弾性率が200MPa未満となり、十分な屈曲寿命を得ることができないおそれがあるため好ましくない。接着剤組成物の硬化物のより好ましい引っ張り弾性率は厚さ5μm以上10μm以下で500MPa以上1500MPa以下である。また、接着剤組成物全体におけるエラストマーのより好ましい含有量は、10重量%以上60重量%以下である。   If the elastomer content in the entire adhesive composition is less than 5% by weight, the tensile elastic modulus of the cured product of the adhesive composition in the above thickness range exceeds 2000 MPa, and the flexibility of the flexible wiring board due to brittleness This is not preferable because the properties may be lowered and the folding resistance may be significantly lowered, and if it exceeds 80% by weight, the tensile elastic modulus in the above thickness range is less than 200 MPa, and a sufficient bending life may not be obtained. This is not preferable. The more preferable tensile elastic modulus of the cured product of the adhesive composition is 500 MPa to 1500 MPa with a thickness of 5 μm to 10 μm. Further, the more preferable content of the elastomer in the entire adhesive composition is 10% by weight or more and 60% by weight or less.

エラストマーとしては、アクリルゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、カルボキシ含有アクリロニトリルブタジエンゴム等の各種合成ゴム、ゴム変性の高分子化合物、高分子エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、変性ポリイミド、変性ポリアミドイミド等が挙げられ、これらは単独または2種以上混合して使用することができる。好ましくは合成ゴム、ゴム変成高分子化合物、高分子エポキシ樹脂が使用される。   Examples of elastomers include various synthetic rubbers such as acrylic rubber, acrylonitrile butadiene rubber, carboxy-containing acrylonitrile butadiene rubber, rubber-modified polymer compounds, polymer epoxy resins, phenoxy resins, modified polyimides, modified polyamideimides, etc. It can be used alone or in combination of two or more. Preferably, synthetic rubber, rubber-modified polymer compound, and polymer epoxy resin are used.

本発明に用いられる接着剤組成物はより好ましくは、(A)ポリエポキシド化合物、(B)エポキシ用硬化剤、(C)エポキシ用硬化促進剤、(D)無機充填材および(E)エラストマーを必須成分として含有するものである。   More preferably, the adhesive composition used in the present invention comprises (A) a polyepoxide compound, (B) an epoxy curing agent, (C) an epoxy curing accelerator, (D) an inorganic filler, and (E) an elastomer. It is contained as a component.

(A)ポリエポキシド化合物としては、グリシジルエーテル系エポキシ樹脂が好適に用いられる。このようなものとしては、例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂等があげられ、これらは単独または2種以上混含して使用することができる。   (A) As a polyepoxide compound, a glycidyl ether epoxy resin is preferably used. Examples of such a resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, and novolac type epoxy resin. These can be used alone or in combination of two or more.

このグリシジルエーテル系エポキシ樹脂にはグリシジルエーテル系の変性エポキシ樹脂も含まれ、変性エポキシ樹脂としては例えばBT樹脂(ビスマレイミドトリアジン樹脂)、ウレタン変性樹脂、リン変性エポキシ樹脂等を使用することができる。   The glycidyl ether-based epoxy resin also includes a glycidyl ether-based modified epoxy resin. As the modified epoxy resin, for example, a BT resin (bismaleimide triazine resin), a urethane-modified resin, a phosphorus-modified epoxy resin, or the like can be used.

(B)エポキシ用硬化剤としては、通常、エポキシ樹脂の硬化に使用されている化合物であれば特に制限なく使用でき、例えばアミン硬化系としてジシアンジアミド、芳香族ジアミン等が挙げられ、フェノール硬化系としてフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールA型ノボラック樹脂、トリアジン変性フェノールノボラック樹脂等が挙げられ、これらは単独または2種以上混合して使用することができる。   (B) The epoxy curing agent can be used without particular limitation as long as it is a compound usually used for curing an epoxy resin. Examples of amine curing systems include dicyandiamide and aromatic diamine. A phenol novolak resin, a cresol novolak resin, a bisphenol A type novolak resin, a triazine-modified phenol novolak resin, and the like can be used, and these can be used alone or in combination.

(B)エポキシ用硬化剤の含有量は、(A)ポリエポキシド化合物に対する当量比で0.5〜1.5とすることが好ましい。(B)エポキシ用硬化剤の含有量が(A)ポリエポキシド化合物に対する当量比で0.5未満あるいは1.5を超えると、接着剤組成物の硬化物の引っ張り弾性率が所定の値とならないおそれがあるため好ましくない。   The content of the (B) epoxy curing agent is preferably 0.5 to 1.5 in terms of an equivalent ratio to the (A) polyepoxide compound. When the content of the (B) epoxy curing agent is less than 0.5 or more than 1.5 in terms of the equivalent ratio to the (A) polyepoxide compound, the tensile modulus of the cured product of the adhesive composition may not be a predetermined value. This is not preferable.

(C)エポキシ用硬化促進剤としては、通常、エポキシ樹脂の硬化促進剤として使用さているものであればよく、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物、三フッ化ホウ素アミン錯体、トリフェニルホスフィン等が挙げられる。これらの硬化促進剤は単独または、2種類以上混合して使用することができる。(C)エポキシ用硬化促進剤は、(A)ポリエポキシド化合物100重量部に対して、0.01重量部以上5重量部以下とすることが好ましい。   (C) The curing accelerator for epoxy may be any one that is usually used as a curing accelerator for epoxy resins, and imidazole compounds such as 2-ethyl-4-methylimidazole and 1-benzyl-2-methylimidazole. , Boron trifluoride amine complex, triphenylphosphine and the like. These curing accelerators can be used alone or in combination of two or more. (C) The epoxy curing accelerator is preferably 0.01 parts by weight or more and 5 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the (A) polyepoxide compound.

(D)無機充填剤としては特に制限はなく、タルク、アルミナ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、溶融シリカ、合成シリカ等が挙げられ、これらは単独または2種以上混合して使用することができる。   (D) There is no restriction | limiting in particular as an inorganic filler, A talc, an alumina, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, a fused silica, a synthetic silica etc. are mentioned, These can be used individually or in mixture of 2 or more types. .

(E)エラストマーとしては、前述したような種類および含有量とすることが好ましい。すなわち、(E)エラストマーとしては、アクリルゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、カルボキシ含有アクリロニトリルブタジエンゴム等の各種合成ゴム、ゴム変性の高分子化合物、高分子エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、変性ポリイミド、変性ポリアミドイミド等が挙げられ、これらは単独または2種以上混合して使用することができる。好ましくは合成ゴム、ゴム変成高分子化合物、高分子エポキシ樹脂が使用される。   (E) The elastomer is preferably the kind and content as described above. That is, as the elastomer (E), various synthetic rubbers such as acrylic rubber, acrylonitrile butadiene rubber and carboxy-containing acrylonitrile butadiene rubber, rubber-modified polymer compounds, polymer epoxy resins, phenoxy resins, modified polyimides, modified polyamideimides, etc. These may be used alone or in combination of two or more. Preferably, synthetic rubber, rubber-modified polymer compound, and polymer epoxy resin are used.

また、(E)エラストマーの含有量は接着剤組成物全体の5重量%以上80重量%以下であることが好ましい。接着剤組成物における(E)エラストマーの含有量が5重量%未満であると、接着剤組成物の硬化物の引っ張り弾性率が2000MPaを超え、もろさのためにフレキシブル配線板の柔軟性が低下し、耐折性が著しく低下するため好ましくない。また、接着剤組成物におけるエラストマーの含有量が80重量%を超えると、接着剤組成物の硬化物の引っ張り弾性率が200MPa未満となり、十分な屈曲寿命を得ることができないため好ましくない。   Moreover, it is preferable that content of (E) elastomer is 5 to 80 weight% of the whole adhesive composition. When the content of the elastomer (E) in the adhesive composition is less than 5% by weight, the tensile elastic modulus of the cured product of the adhesive composition exceeds 2000 MPa, and the flexibility of the flexible wiring board decreases due to the brittleness. This is not preferable because folding resistance is remarkably lowered. Moreover, when the content of the elastomer in the adhesive composition exceeds 80% by weight, the tensile elastic modulus of the cured product of the adhesive composition becomes less than 200 MPa, which is not preferable because a sufficient bending life cannot be obtained.

本発明の極薄フレキシブル配線板に用いられる接着剤組成物は、上記(A)ポリエポキシド化合物、(B)エポキシ用硬化剤、(C)エポキシ用硬化促進剤、(D)無機充填材および(E)エラストマーを必須成分として含有するが、必要に応じて、また本発明の目的に反しない限度において他の微粉末の無機質または有機質の充填材、顔料および劣化防止剤等を添加配合することができる。   The adhesive composition used for the ultra-thin flexible wiring board of the present invention comprises (A) a polyepoxide compound, (B) an epoxy curing agent, (C) an epoxy curing accelerator, (D) an inorganic filler, and (E ) Elastomer is contained as an essential component, but other fine powder inorganic or organic fillers, pigments, deterioration inhibitors and the like can be added and blended as necessary and within the limits not violating the object of the present invention. .

このような接着剤組成物の調製は、上記(A)ポリエポキシド化合物、(B)エポキシ用硬化剤、(C)エポキシ用硬化促進剤、(D)無機充填材および(E)エラストマー、必要に応じてその他添加剤を、NMP(N−メチルピロリドン)、メチルエチルケトンあるいはトルエン等の溶剤に添加し、均一に混合、溶解させることにより容易に行うことができる。   The preparation of such an adhesive composition includes the above (A) polyepoxide compound, (B) epoxy curing agent, (C) epoxy curing accelerator, (D) inorganic filler and (E) elastomer, as required. The other additives can be easily added by adding them to a solvent such as NMP (N-methylpyrrolidone), methyl ethyl ketone or toluene, and mixing and dissolving them uniformly.

本発明の極薄フレキシブル配線板は、例えば次のような方法によって製造することができる。なお、本発明の極薄フレキシブル配線板の製造方法は以下のようなものに限定されるものではない。   The ultrathin flexible wiring board of the present invention can be manufactured, for example, by the following method. In addition, the manufacturing method of the ultra-thin flexible wiring board of this invention is not limited to the following.

まず、所定の厚さ、引っ張り強度を有するベースフィルム上にロールコータ等で、上述したような接着剤組成物を乾燥後の厚さが5μm以上20μm以下となるように塗布、乾燥する。そして、接着剤組成物を塗布、乾燥させた面に、所定の厚さ、引っ張り強度を有する極薄銅箔の処理面を重ね合わせ、60〜200℃のラミネートロールで圧力をかけながら両者を貼り合わせ、80〜180℃の温度で1〜30時間加熱して、接着剤組成物を硬化させる。この後、例えばパターン形成を行った後、カバーレイを貼り合わせまたはソルダーレジストの塗布を行った後、メッキ等の端子表面処理を行ってもよい。   First, an adhesive composition as described above is applied and dried on a base film having a predetermined thickness and tensile strength with a roll coater or the like so that the thickness after drying is 5 μm or more and 20 μm or less. And the processing surface of the ultrathin copper foil which has predetermined thickness and tensile strength is piled up on the surface which applied and dried adhesive composition, and both are pasted up applying pressure with a 60-200 ° C laminating roll. In combination, the adhesive composition is cured by heating at a temperature of 80 to 180 ° C. for 1 to 30 hours. Thereafter, for example, after pattern formation, a coverlay may be attached or a solder resist may be applied, and then terminal surface treatment such as plating may be performed.

以下、本発明を実施例により説明する。なお、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples. In addition, this invention is not limited by these Examples.

(実施例1)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂 エピコート1001(ジャパンエポキシレジン社製 商品名、エポキシ当量475)43.5重量部、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン(アミン当量62)5.7重量部、2−エチル−4−メチルイミダゾール0.2重量部、水酸化アルミニウム10重量部、カルボキシ含有アクリロニトリルブタジエンゴムのニポール1072(日本ゼオン社製 商品名)40.5重量部、シクロフェノキシホスファゼンオリゴマー(融点100℃)10重量部および老化防止剤のN,N’−ジ−2−ナフチル−p−フェニレンジアミン1重量部を、メチルエチルケトン/トルエン=6/4の混合溶剤250重量部に溶解希釈し、接着剤組成物とした。
(Example 1)
Bisphenol A type epoxy resin Epicoat 1001 (trade name, epoxy equivalent 475, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) 43.5 parts by weight, 4,4′-diaminodiphenylsulfone (amine equivalent 62) 5.7 parts by weight, 2-ethyl-4 -0.2 parts by weight of methylimidazole, 10 parts by weight of aluminum hydroxide, 40.5 parts by weight of carboxy-containing acrylonitrile butadiene rubber Nipol 1072 (trade name, manufactured by Nippon Zeon), 10 parts by weight of cyclophenoxyphosphazene oligomer (melting point: 100 ° C) And 1 part by weight of N, N′-di-2-naphthyl-p-phenylenediamine as an anti-aging agent was dissolved and diluted in 250 parts by weight of a mixed solvent of methyl ethyl ketone / toluene = 6/4 to obtain an adhesive composition.

この接着剤組成物をベースフィルムであるPPTAアラミドフィルム アラミカTM(帝人アドバンストフィルム製 商品名、厚さ4μm、引っ張り強度400MPa、引っ張り弾性率15GPa)に乾燥後の厚さが8μmになるようにロールコーターで塗布、乾燥し、この塗布面に電解銅箔 マイクロシン(三井金属製 商品名、厚さ5μm、引っ張り強度450MPa)の処理面とを重ねあわせ、170℃のラミネートロールで熱圧着後、オーブンで130℃、3時間、180℃、3時間処理し、接着剤組成物を硬化させて、全体厚さ17μmのフレキシブル銅張積層板を得た。   This adhesive composition is a roll coater such that PPTA aramid film Aramika TM (trade name, thickness 4 μm, tensile strength 400 MPa, tensile elastic modulus 15 GPa, manufactured by Teijin Advanced Film) is 8 μm after drying. The coated surface is coated with an electrolytic copper foil micro thin (trade name, thickness 5 μm, tensile strength 450 MPa), and thermocompression bonded with a 170 ° C. laminating roll. It processed at 130 degreeC, 3 hours, 180 degreeC, and 3 hours, the adhesive composition was hardened, and the flexible copper clad laminated board with the whole thickness of 17 micrometers was obtained.

硬化後の接着剤組成物の引っ張り弾性率は1200MPであった。なお、接着剤組成物の硬化物の引っ張り弾性率は、フレキシブル銅張積層板の製造とは別に接着剤組成物を同様な厚さのフィルム状に硬化させて、ASTM D−882に基づいて行ったものである。また、ベースフィルムおよび極薄銅箔の引っ張り強度の測定はIPC−TM−650に基づいて行った。   The tensile modulus of the cured adhesive composition was 1200 MP. The tensile modulus of the cured product of the adhesive composition is determined based on ASTM D-882 by curing the adhesive composition into a film having the same thickness separately from the production of the flexible copper-clad laminate. It is a thing. Moreover, the measurement of the tensile strength of a base film and an ultra-thin copper foil was performed based on IPC-TM-650.

(比較例1)
銅箔として、厚さ18μm、引っ張り強度350MPaの汎用銅箔を用いた以外は実施例1と同様にして、全体厚さ30μmのフレキシブル銅張積層板を得た。
(Comparative Example 1)
A flexible copper clad laminate having a total thickness of 30 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that a general-purpose copper foil having a thickness of 18 μm and a tensile strength of 350 MPa was used as the copper foil.

(比較例2)
ベースフィルムとして、厚さ12μm、引っ張り強度250MPa、引っ張り弾性率3.5GPaのポリイミドフィルム カプトン(東レデュポン社製 商品名)を用い、接着剤組成物におけるカルボキシ含有アクリロニトリルブタジエンゴムのニポール1072の含有量が90重量%となるようにし、接着剤組成物の硬化物の引っ張り弾性率を150MPaとした以外は、実施例1と同様にして、全体厚さ25μmのフレキシブル銅張積層板を得た。
(Comparative Example 2)
As a base film, a polyimide film Kapton (trade name, manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.) having a thickness of 12 μm, a tensile strength of 250 MPa, and a tensile elastic modulus of 3.5 GPa is used. A flexible copper-clad laminate having a total thickness of 25 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the tensile elastic modulus of the cured product of the adhesive composition was 150 MPa.

(比較例3)
ベースフィルムとして、厚さ12μm、引っ張り強度250MPa、引っ張り弾性率3.5GPaのポリイミドフィルム カプトン(東レデュポン社製 商品名)を用い、銅箔として、厚さ18μm、引っ張り強度350MPaの汎用銅箔を用い、接着剤組成物におけるカルボキシ含有アクリロニトリルブタジエンゴムのニポール1072の含有量が90重量%となるようにし、接着剤組成物の硬化物の引っ張り弾性率を150MPaとした以外は、実施例1と同様にして、全体厚さ38μmのフレキシブル銅張積層板を得た。
(Comparative Example 3)
A polyimide film Kapton (trade name, manufactured by Toray DuPont) with a thickness of 12 μm, a tensile strength of 250 MPa, and a tensile elastic modulus of 3.5 GPa is used as the base film, and a general-purpose copper foil with a thickness of 18 μm and a tensile strength of 350 MPa is used as the copper foil. In the same manner as in Example 1 except that the content of nipol 1072 of the carboxy-containing acrylonitrile butadiene rubber in the adhesive composition is 90% by weight and the tensile elastic modulus of the cured product of the adhesive composition is 150 MPa. Thus, a flexible copper clad laminate having a total thickness of 38 μm was obtained.

(比較例4)
ベースフィルムとして、厚さ12μm、引っ張り強度250MPa、引っ張り弾性率3.5GPaのポリイミドフィルム カプトン(東レデュポン社製 商品名)を用い、接着剤組成物におけるカルボキシ含有アクリロニトリルブタジエンゴムのニポール1072の含有量が1重量%となるようにし、接着剤組成物の硬化物の引っ張り弾性率を2500MPaとした以外は、実施例1と同様にして、全体厚さ25μmのフレキシブル銅張積層板を得た。
(Comparative Example 4)
As a base film, a polyimide film Kapton (trade name, manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.) having a thickness of 12 μm, a tensile strength of 250 MPa, and a tensile elastic modulus of 3.5 GPa is used, and the content of carboxy-containing acrylonitrile butadiene rubber Nipol 1072 in the adhesive composition is A flexible copper-clad laminate having a total thickness of 25 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount was 1% by weight and the tensile elastic modulus of the cured product of the adhesive composition was 2500 MPa.

(比較例5)
ベースフィルムとして、厚さ12μm、引っ張り強度250MPa、引っ張り弾性率3.5GPaのポリイミドフィルム カプトン(東レデュポン社製 商品名)を用い、銅箔として、厚さ18μm、引っ張り強度350MPaの汎用銅箔を用い、接着剤組成物におけるカルボキシ含有アクリロニトリルブタジエンゴムのニポール1072の含有量が1重量%となるようにし、接着剤組成物の硬化物の引っ張り弾性率を2500MPaとした以外は、実施例1と同様にして、全体厚さ38μmのフレキシブル銅張積層板を得た。
(Comparative Example 5)
A polyimide film Kapton (trade name, manufactured by Toray DuPont) with a thickness of 12 μm, a tensile strength of 250 MPa, and a tensile elastic modulus of 3.5 GPa is used as the base film, and a general-purpose copper foil with a thickness of 18 μm and a tensile strength of 350 MPa is used as the copper foil. In the same manner as in Example 1 except that the content of nipole 1072 of the carboxy-containing acrylonitrile butadiene rubber in the adhesive composition is 1% by weight and the tensile elastic modulus of the cured product of the adhesive composition is 2500 MPa. Thus, a flexible copper clad laminate having a total thickness of 38 μm was obtained.

このようにして得られた実施例および比較例のフレキシブル銅張積層板について、折り曲げ試験、耐折性試験を行った。結果を表1に示す。   The flexible copper clad laminates of Examples and Comparative Examples thus obtained were subjected to a bending test and a folding resistance test. The results are shown in Table 1.

なお、折り曲げ試験は、試験片を180度折り曲げる操作を5回繰り返し、折り返し部における銅箔のクラックの発生の有無を観察することにより行った。表1中、「○」は銅箔の折り返し部にクラックが発生しなかったもの、「△」は銅箔の折り返し部にクラックがわずかに発生したもの、「×」は銅箔の折り返し部に全体的にクラックが発生したものを示す。   The bending test was performed by repeating the operation of bending the test piece 180 degrees five times and observing the occurrence of cracks in the copper foil at the folded portion. In Table 1, “◯” indicates that no crack was generated in the folded portion of the copper foil, “Δ” indicates that the crack was slightly generated in the folded portion of the copper foil, and “×” indicates that the folded portion of the copper foil was It shows the one where cracks occurred as a whole.

また、耐折性試験はJIS P 8115に準じて行った(R=2mm)。表1中、「○」は1000000回以上の耐折性を有したもの、「△」は1000000回未満100000回以上の耐折性を有したもの、「×」は100000回未満10000以上の耐折性を有したものを示す。   The folding resistance test was performed according to JIS P 8115 (R = 2 mm). In Table 1, “◯” has a folding resistance of 1,000,000 times or more, “Δ” has a folding resistance of less than 1,000,000 times, and 100,000 times or more, and “X” is less than 100,000 times, 10,000 or more. The one with foldability is shown.

Figure 0004279161
Figure 0004279161

表1から明らかなように、実施例のフレキシブル銅張積層板はその厚さが17μmと非常に薄いにもかかわらず、十分な折り曲げ性、耐折性を有することが認められた。   As is apparent from Table 1, it was confirmed that the flexible copper clad laminates of the examples had sufficient bendability and fold resistance even though the thickness was as thin as 17 μm.

Claims (5)

少なくともベースフィルムと極薄銅箔とが接着剤組成物の硬化物を介して積層されてなる部分を有する極薄フレキシブル配線板であって、前記ベースフィルムの厚さが3μm以上6μm以下、そのフィルム物性である引っ張り強度が300MPa以上であり、かつ、前記ベースフィルム、接着剤組成物の硬化物および極薄銅箔からなる積層部分の厚さが20μm以下であることを特徴とする極薄フレキシブル配線板。 An ultrathin flexible wiring board having a portion in which at least a base film and an ultrathin copper foil are laminated via a cured product of an adhesive composition, wherein the base film has a thickness of 3 μm to 6 μm. Ultra-thin flexible wiring, characterized in that the tensile strength, which is a physical property, is 300 MPa or more, and the thickness of the laminated portion composed of the base film, the cured product of the adhesive composition and the ultra-thin copper foil is 20 μm or less Board. 前記ベースフィルムは、ポリパラフェニレンテレフタルアミドフィルムであることを特徴とする請求項1記載の極薄フレキシブル配線板。2. The ultrathin flexible wiring board according to claim 1, wherein the base film is a polyparaphenylene terephthalamide film. 前記接着剤組成物はエラストマーを5重量%以上80重量%以下含有し、前記接着剤組成物の硬化物は引っ張り弾性率が200MPa以上2000MPa以下であることを特徴とする請求項1または2記載の極薄フレキシブル配線板。 3. The adhesive composition according to claim 1, wherein the adhesive composition contains an elastomer in an amount of 5 wt% to 80 wt%, and the cured product of the adhesive composition has a tensile modulus of 200 MPa to 2000 MPa. Ultra-thin flexible wiring board. 前記極薄銅箔は厚さが3μm以上9μm以下であり、その銅箔物性である引っ張り強度が400MPa以上であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の極薄フレキシブル配線板。 The ultrathin flexible wiring according to any one of claims 1 to 3, wherein the ultrathin copper foil has a thickness of 3 µm or more and 9 µm or less, and a tensile strength that is a physical property of the copper foil is 400 MPa or more. Board. 前記接着剤組成物は、(A)ポリエポキシド化合物、(B)エポキシ用硬化剤、(C)エポキシ用硬化促進剤、(D)無機充填材および(E)エラストマーを必須成分として含有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の極薄フレキシブル配線板。 The adhesive composition contains (A) a polyepoxide compound, (B) an epoxy curing agent, (C) an epoxy curing accelerator, (D) an inorganic filler, and (E) an elastomer as essential components. The ultrathin flexible wiring board according to any one of claims 1 to 4.
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