JP4272188B2 - 位置測定装置、描画装置及び位置測定方法 - Google Patents
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Description
可変成形型電子線描画装置(EB(Electron beam)描画装置)における第1のアパーチャ410には、電子線330を成形するための矩形例えば長方形の開口411が形成されている。また、第2のアパーチャ420には、第1のアパーチャ410の開口411を通過した電子線330を所望の矩形形状に成形するための可変成形用開口421が形成されている。荷電粒子ソース430から照射され、第1のアパーチャ410の開口411を通過した電子線330は、偏向器により偏向され、第2のアパーチャ420の可変成形用開口421の一部を通過して、所定の一方向(例えば、X方向とする)に連続的に移動するステージ上に搭載された試料に照射される。すなわち、第1のアパーチャ410の開口411と第2のアパーチャ420の可変成形用開口421との両方を通過できる矩形形状が、X方向に連続的に移動するステージ上に搭載された試料340の描画領域に描画される。第1のアパーチャ410の開口411と第2のアパーチャ420の可変成形用開口421との両方を通過させ、任意形状を作成する方式を可変成形方式という(例えば、特許文献1参照)。
移動可能なステージと、
レーザを用いて、前記ステージの移動位置を測定する測定部と、
前記測定部の測定値から所定の周波数領域の成分を減衰させる第1のフィルタと、
前記第1のフィルタと並列に接続され、前記測定部の測定値から前記所定の周波数領域以外の成分を減衰させる第2のフィルタと、
前記第2のフィルタと直列に接続され、前記測定部の測定値から前記所定の周波数領域の成分を減衰させる第3のフィルタと、
前記第1のフィルタを通過した前記測定部の測定値と、前記第2と第3のフィルタを通過した前記測定部の測定値とを合成し、合成された合成値を出力する合成部と、
を備えたことを特徴とする。
前記第2のフィルタとして、ローパスフィルタとハイパスフィルタとのうち、いずれか一方を用い、
前記第3のフィルタとして、前記ローパスフィルタとハイパスフィルタとのうち、前記第2のフィルタとは逆の一方を用いることを特徴とする。
試料を載置し、前記試料を載置した状態で移動するステージと、
レーザを用いて、前記ステージの移動位置を測定する測定部と、
所定のカットオフ周波数に設定した状態で前記測定部の測定値を通過させるローパスフィルタと、
前記所定のカットオフ周波数と同一なカットオフ周波数に設定した状態で、前記測定部の測定値を通過させる1組のローパスフィルタとハイパスフィルタと、
前記ローパスフィルタを通過した前記測定部の測定値と、前記1組のローパスフィルタとハイパスフィルタを通過した前記測定部の測定値との合成値に基づいて、前記試料の所望する位置に所定のパターンを描画する描画部と、
を備えたことを特徴とする。
レーザを用いて、ステージの移動位置を測定する測定工程と、
所定のカットオフ周波数に設定されたローパスフィルタを用いて、前記測定工程により測定された測定値から非線形誤差成分を除去する非線形誤差成分除去工程と、
前記ローパスフィルタと並列に配置され、前記所定のカットオフ周波数と同一なカットオフ周波数に設定された1組のローパスフィルタとハイパスフィルタに前記測定値を通過させることで、前記非線形誤差成分除去工程において前記ローパスフィルタを用いた結果、前記測定値に生じた位相遅れを修正する位相遅れ修正工程と、
を備えたことを特徴とする。
図1は、実施の形態1における描画装置の構成を示す概念図である。
図1において、描画装置100は、描画部の一例となる電子鏡筒102、描画演算回路111、描画室103と、XYステージ105、駆動部106、測定部の一例となるレーザ干渉計300、位置演算部109、フィルタ部110を備えている。電子鏡筒102内には、電子銃201、照明レンズ202、第1のアパーチャ203、投影レンズ204、偏向器205、第2のアパーチャ206、対物レンズ207、偏向器208を有している。レーザ干渉計300は、レーザ光源となるレーザヘッド107、ミラー104、光学系112、受光部108を有している。
試料101に描画する場合には、XYステージ105を駆動部106によりX方向に連続移動させながら、描画(露光)面を電子線200が偏向可能な短冊状の複数のストライプ領域に仮想分割された試料101の1つのストライプ領域上を電子線200が照射する。XYステージ105のX方向の移動は、連続移動とし、同時に電子線200のショット位置もステージ移動に追従させる。連続移動させることで描画時間を短縮させることができる。そして、1つのストライプ領域を描画し終わったら、XYステージ105を駆動部106によりY方向にステップ送りしてX方向(今度は逆向き)に次のストライプ領域の描画動作を行なう。各ストライプ領域の描画動作を蛇行させるように進めることでXYステージ105の移動時間を短縮することができる。
レーザ測長システムの一例であるレーザ干渉計300にて描画室103内に設置されたXYステージ105の位置を測定する。かかるレーザ干渉計300にて測定された測定値を位置演算部109にて位置成分のデータに変換する。そして、所定のカットオフ周波数に設定したローパスフィルタ(以降LPFという)122に前記位置成分のデータを通過させる。一方で、LPF122と並列に配置され、LPF122のカットオフ周波数と同一なカットオフ周波数に設定した1組のハイパスフィルタ(以降HPFという)124とLPF126に、前記位置成分のデータを通過させる。そして、LPF122を通過したデータと1組のHPF124とLPF126を通過したデータとを合成部の一例となる加算器128で加算し合成する。そして、合成された合成値を描画部の描画演算回路111に出力する。
S(ステップ)502において、測定工程として、上述したように、レーザ干渉計300にて描画室103内に設置された連続移動するXYステージ105の位置を測定する。すなわち、描画室103内に設置されたXYステージ105上に取付けられたミラー104に、レーザ投光部となるレーザヘッド107から光学系112を介してレーザ光を当てて、反射したレーザ光を、光学系112を介して受光部108にて受光する。かかるレーザ干渉計300にて測定された測定値を位置演算部109にて位置成分のデータに変換する。ここで、上述したように、かかる位置成分のデータには、非線形誤差成分が内在している。
理想的には測定器から被測定物までの距離とその位置データは完全なリニアリティ(線形)の関係になるはずである。すなわち、位置の変化とその出力は、比例しているはずである。しかしながら、図5に示すように、レーザ測長の場合、光学的なパス(光路)の問題で非線形誤差成分を含んでしまう。具体的には、レーザ光中に混在している垂直波と水平波とが互いに干渉してしまい非線形誤差を生じさせる。すなわち、レーザ測長システム中のミラー等の反射により垂直波には水平波の成分が、水平波には垂直波の成分が干渉して非線形誤差を発生させてしまう。かかる非線形誤差成分が線形成分に乗ったデータとなってしまう。
図6(a)に示すように、LPF122を所定のカットオフ周波数に設定することで、レーザ干渉計300の測定値から変換された位置成分のデータから、高周波領域の非線形誤差成分を含む周波数領域を減衰させ、実質的に除去することができる。しかし、図6(b)に示すように、LPF122を通過させることで、位置成分のデータに位相遅れが生じてしまう。このままLPF122を通過したデータに基づいてXYステージ105の位置を判断すると位相遅れによりリアルタイム性が劣化し、後述するビーム照射位置にずれが生じてしまう恐れがある。
図7(b)に示すように、HPF124を通過させることで、位置成分のデータの位相が速まる。そして、図7(a)に示すように、LPF122が減衰させる周波数領域以外の成分を減衰させておく。さらに、LPF126を通過させることで、LPF122が減衰させる周波数領域の成分と同じ周波数領域の成分を減衰させておく。かかる位相を早め、かつLPF122と同じカットオフ周波数で両側の周波数領域を減衰させた位置成分のデータを形成する。
図8(b)に示すように、2つのデータを加算して合成することで、位相遅れを修正し、位相遅れが始まる周波数領域を高周波側にずらすことができる。また、図8(a)に示すように、ゲインの減衰開始位置も若干高周波側にずらすことができる。
カットオフ周波数をfn、時定数をτn(但し、τ=1/(2πf))、ラプラス演算子をSとして、図9(b)に示すように、LPF122の伝達関数式は、1/(1+τ1・S)で示すことができる。同様に、HPF124の伝達関数式は、τ2・S/(1+τ2・S)で示すことができる。同様に、LPF126の伝達関数式は、1/(1+τ3・S)で示すことができる。よって、図9(a)に示すように、フィルタ部110全体の組み合わせデジタルフィルタの伝達関数G(S)=1/(1+τ1・S)+τ2・S/(1+τ2・S)・1/(1+τ3・S)で示すことができる。
図10では、一例として、LPF122のカットオフ周波数f1とHPF124のカットオフ周波数f2とLPF126のカットオフ周波数f3をどれも5kHzとした場合、どれも3kHzとした場合、どれも1kHzとした場合、の3通りについて、周波数fが100Hzの位置におけるゲインの変化量と位相の変化量、及び周波数fが6.3kHzの位置におけるゲインの変化量と位相の変化量を示している。
図10の例では、カットオフ周波数をどれも1kHzとした場合、例えば、XYステージ105を1mm/sの速度で連続移動する場合の位置検出において必要な周波数100Hzの位置におけるゲインの変化量と位相の変化量がほとんど無い中で、非線形誤差成分にあたる周波数6.3kHzの位置におけるゲインの変化量が大きい(32%に減衰)ことがわかる。よって、本実施の形態1における組合わせフィルタを通過させることで、非線形誤差成分を除去できると共に、位相遅れを改善することができる。
図11(a)には、フィルタOFF、すなわち、組合わせフィルタを通さない場合の位置成分のデータの波形の一例が示されている。図11(a)では、非線形誤差成分により波形の振幅が大きく振れていることがわかる。これに対し、フィルタON、すなわち、本実施の形態1における組合わせフィルタを通すことにより、図11(b)に示すように非線形誤差成分が除去され、波形の振幅が小さくなった様子がわかる。
図12(a)には、従来技術として、本実施の形態1における組合わせフィルタを通さないで電子線露光を行なった場合を示している。非線形誤差成分により正確なXYステージ105の位置が測定できないため、XYステージ105上の試料101の所望する位置も正確に特定することができない。その結果、電子線のショット位置がずれてしまう。図12(a)では、位置ずれによりパターンが断線している様子を示している。これに対し、本実施の形態1における組合わせフィルタを通すことにより、非線形誤差成分が除去され、高精度なXYステージ105の位置を測定することができる。その結果、図12(b)に示すように、電子線のショット位置にずれがなく、所望する位置に所定のパターンを描画することができる。
101,340 試料
102 電子鏡筒
103 描画室
104 ミラー
105 XYステージ
106 駆動部
107 レーザヘッド
108 受光部
109 位置演算部
110 フィルタ部
111 描画演算回路
112 光学系
122,126 LPF
124 HPF
128 加算器
200,330 電子線
201 電子銃
202 照明レンズ
203,206,410,420 アパーチャ
204 投影レンズ
205,208 偏向器
207 対物レンズ
300 レーザ干渉計
411 開口
421 可変成形開口
430 荷電粒子ソース
Claims (5)
- 移動可能なステージと、
レーザを用いて、前記ステージの移動位置を測定する測定部と、
前記測定部の測定値から所定の周波数領域の成分を減衰させる第1のフィルタと、
前記第1のフィルタと並列に接続され、前記測定部の測定値から前記所定の周波数領域以外の成分を減衰させる第2のフィルタと、
前記第2のフィルタと直列に接続され、前記測定部の測定値から前記所定の周波数領域の成分を減衰させる第3のフィルタと、
前記第1のフィルタを通過した前記測定部の測定値と、前記第2と第3のフィルタを通過した前記測定部の測定値とを合成し、合成された合成値を出力する合成部と、
を備えたことを特徴とする位置測定装置。 - 前記第1のフィルタとして、ローパスフィルタを用い、
前記第2のフィルタとして、ローパスフィルタとハイパスフィルタとのうち、いずれか一方を用い、
前記第3のフィルタとして、前記ローパスフィルタとハイパスフィルタとのうち、前記第2のフィルタとは逆の一方を用いることを特徴とする請求項1記載の位置測定装置。 - 試料を載置し、前記試料を載置した状態で移動するステージと、
レーザを用いて、前記ステージの移動位置を測定する測定部と、
所定のカットオフ周波数に設定した状態で前記測定部の測定値を通過させるローパスフィルタと、
前記所定のカットオフ周波数と同一なカットオフ周波数に設定した状態で、前記測定部の測定値を通過させる1組のローパスフィルタとハイパスフィルタと、
前記ローパスフィルタを通過した前記測定部の測定値と、前記1組のローパスフィルタとハイパスフィルタを通過した前記測定部の測定値との合成値に基づいて、前記試料の所望する位置に所定のパターンを描画する描画部と、
を備えたことを特徴とする描画装置。 - 前記描画部は、荷電粒子線を前記試料に照射し、前記ローパスフィルタを通過した前記測定部の測定値と、前記1組のローパスフィルタとハイパスフィルタを通過した前記測定部の測定値との合成値に基づいて、前記荷電粒子線を偏向させることを特徴とする請求項3記載の描画装置。
- レーザを用いて、ステージの移動位置を測定する測定工程と、
所定のカットオフ周波数に設定されたローパスフィルタを用いて、前記測定工程により測定された測定値から非線形誤差成分を除去する非線形誤差成分除去工程と、
前記ローパスフィルタと並列に配置され、前記所定のカットオフ周波数と同一なカットオフ周波数に設定された1組のローパスフィルタとハイパスフィルタに前記測定値を通過させることで、前記非線形誤差成分除去工程において前記ローパスフィルタを用いた結果、前記測定値に生じた位相遅れを修正する位相遅れ修正工程と、
を備えたことを特徴とする位置測定方法。
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