JP4258817B2 - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
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Description
上記の課題を解決するために、本発明に係る第1の液晶表示装置の製造方法は、薄膜トランジスタ及び保護膜が順に形成された基板を提供するステップと、突起が形成される前記保護膜の部位を露出させる複数の開口部を有するシャドウマスクを前記保護膜の上に位置させるステップと、シャドウマスクを用い前記基板にスパッタリング処理を行って、スパッタリングラジカルに前記開口部を通過させ、前記保護膜上に選択的に蒸着させて前記突起を形成するステップと、前記シャドウマスクを除去するステップと、前記突起を含む基板上に反射電極を形成するステップとを含むことを特徴とする。
13 上部基板
16、59 反射電極
17 共通電極
19 液晶
21 散乱フィルム
23 位相差板
25 偏光板
27、43 ゲート電極
28、45 ゲート絶縁膜
29、48 ソース電極
30、47 半導体層
31、49 ドレイン電極
35、50 コンタクトホール
36、51 保護膜
37 レジン膜
37a、55 突起
37b レジン膜パターン
38、57 有機絶縁膜
53 シャドウマスク
53a 開口部
61 スパッタリング処理
71 斜方蒸着処理
Claims (15)
- 薄膜トランジスタ及び保護膜が順に形成された基板を提供するステップと、
突起が形成される前記保護膜の部位を露出させる複数の開口部を有するシャドウマスクを前記保護膜の上に位置させるステップと、
前記シャドウマスクを用い前記基板にスパッタリング処理を行って、スパッタリングラジカルに前記開口部を通過させ、前記保護膜上に選択的に蒸着させて前記突起を形成するステップと、
前記シャドウマスクを除去するステップと、
前記突起を含む前記基板上に反射電極を形成するステップとを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 前記開口部は、前記シャドウマスクの全面に規則的に配置されるように形成されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記開口部は、前記シャドウマスクの全面に不規則に配置されるように形成されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記開口部は、前記シャドウマスクの全面に同じ大きさで配置されるように形成されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記開口部は、前記シャドウマスクの全面に様々な大きさで混在して配置されるように形成されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記スパッタリング処理において、前記基板に対する前記スパッタリングラジカルの蒸着方向の傾斜角度及び蒸着時間を調節して、所望の形状に前記突起を形成することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記突起を形成するステップにおいて、前記シャドウマスク及び前記基板のいずれか1方を、前記シャドウマスク及び前記基板と平行な平面にて回転又は回動させて、前記開口部を通過し前記基板に蒸着する単位面積当たりのスパッタリングラジカルの密度を調節することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記突起を形成するステップにおいて、前記シャドウマスク及び前記基板のいずれか1方を、前記シャドウマスク及び前記基板と平行な平面にて振動させて、前記開口部を通過して前記基板に蒸着する単位面積当たりのスパッタリングラジカルの密度を調節することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記突起は、10μm以下の直径を有することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記突起を形成するステップは、斜方蒸着法により行われることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記反射電極は、伝導性材料により形成されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記伝導性材料は、アルミニウム又はアルミニウム合金のいずれかの1方であることを特徴とする請求項11に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 薄膜トランジスタ及び保護膜が順に形成された基板を提供するステップと、
突起が形成される前記保護膜の部位を露出させる複数の開口部を有するシャドウマスクを前記保護膜の上に位置させるステップと、
前記シャドウマスク及び前記基板のいずれか1方を、前記シャドウマスク及び前記基板と平行な平面にて移動させながら、前記シャドウマスクを用い、前記保護膜上にスパッタリング処理を行って、スパッタリングラジカルに前記開口部を通過させ、前記保護膜上に選択的に蒸着させて前記突起を形成するステップと、
前記シャドウマスクを除去するステップと、
前記突起を含む基板上に反射電極を形成するステップとを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 薄膜トランジスタ及び保護膜が順に形成された基板を提供するステップと、
突起が形成される前記保護膜の部位を露出させる複数の開口部を有するシャドウマスクを前記保護膜の上に位置させるステップと、
前記シャドウマスク及び前記基板のいずれか1方を、前記シャドウマスク及び前記基板と平行な平面にて振動させながら、前記シャドウマスクを用い前記基板にスパッタリング処理を行って、スパッタリングラジカルに前記開口部を通過させ、前記保護膜上に選択的に蒸着させて前記突起を形成するステップと、
前記シャドウマスクを除去するステップと、
前記突起を含む基板上に反射電極を形成するステップとを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 薄膜トランジスタ及び保護膜が順に形成された基板を提供するステップと、
突起が形成される前記保護膜の部位を露出させる複数の開口部を有するシャドウマスクを前記保護膜の上に位置させるステップと、
前記シャドウマスクを用い、前記基板上に蒸着方向が前記基板と傾斜するように斜方蒸着処理を行って、スパッタリングラジカルに前記開口部を通過させ、前記基板上に選択的に蒸着させて前記突起を形成するステップと、
前記シャドウマスクを除去するステップと、
前記突起を含む基板上に反射電極を形成するステップとを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
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