KR100701092B1 - 액정표시장치의 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 액정표시장치의 제조방법에 관해 개시한 것으로서, 박막 트랜지스터 및 보호막이 차례로 형성된 투명기판을 제공하는 단계와, 기판 상부에 요철이 형성될 부위를 노출시키는 다수개의 개구부를 가진 쉐도우 마스크를 위치시키는 단계와, 쉐도우 마스크를 이용하여 상기 기판에 스퍼터링 공정을 진행하되 스퍼터링 라디칼이 상기 개구부를 통과하면서 상기 보호막 위에 선택적으로 증착되어 요철을 형성하는 단계와, 쉐도우 마스크를 제거하는 단계와, 요철을 포함한 기판 상에 반사전극을 형성하는 단계를 포함한다.

Description

액정표시장치의 제조방법{method for fabricating liquid crystal display}

도 1은 일반적인 반사형 액정표시장치를 나타낸 단면도.

도 2는 요철이 형성된 반사전극을 갖는 종래의 액정표시장치를 나타낸 평면도.

도 3a 내지 도 3e는 도 2의 Ⅰ-Ⅱ선에 따른 공정별 단면도.

도 4a 내지 도 4d는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 공정별 단면도.

도 5는 쉐도우 마스크의 이동에 대한 평면도.

도 6은 도 5의 일부를 보인 평면도.

도 7은 도 6의 개구부 위치에 따른 요철의 증착 단면도.

도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 공정별 단면도.

도 9 및 도 10은 본 발명에 따른 쉐도우 마스크의 개구부 형상을 보인 평면도.

본 발명은 액정표시장치의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 화소 내에서 반사전극 요철의 효율성을 향상시키고 공정을 단순화시킬 수 있는 액정표시장치의 제조방법에 관한 것이다.

일반적으로 알려진 바와 같이, 액정표시장치는 사용하는 광원에 따라 투과형(transmission type)과 반사형(reflection type)으로 나눌 수 있다. 여기서, 투과형 액정표시장치는 액정패널의 뒷면에 부착된 배면광원인 백 라이트(back light)로부터 나오는 인위적인 빛을 액정에 입사시켜 액정의 배열에 따라 빛의 양을 조절하여 색을 표시하는 형태를 가진다. 따라서, 투과형 액정표시장치는 인위적인 배면광원을 사용하므로 전력소비(power consumption)가 큰 단점이 있다.

반면에, 반사형 액정표시장치는 빛의 대부분을 외부의 자연광이나 인조광원에 의존하는 구조를 하고 있으므로, 투과형 액정표시장치에 비해 전력소비가 적다. 그러나, 반사형 액정표시장치는 어두운 장소나, 날씨가 흐릴 경우에는 외부광을 이용할 수 없다는 제약이 있다.

이러한 반사형 및 반투과형 액정표시장치는 공통적으로 하부기판 상에 반사물질막이 형성되어 있다. 이하에서는, 이러한 반사물질막의 형성과정을 중점으로 하여 반사형 액정표시장치 및 그 제조방법에 대해 설명하면 다음과 같다.

도 1은 일반적인 반사형 액정표시장치를 나타낸 단면도이다.

일반적인 반사형 액정표시장치는, 도 1에 도시한 바와 같이, 칼라 필터층(도시되지 않음) 및 공통 전극(17)이 형성된 상부 기판(13)과, 박막 트랜지스터(도시되지 않음) 및 반사전극(16)이 형성된 하부 기판(11)과, 상부 기판(13)과 하부 기 판(11) 사이에 개재된 액정(19)으로 구성된다.

여기서, 상기 액정(19)은 전계에 의해 소정의 방향으로 배열되어 빛의 흐름을 제어하는 광학적 이방성 매질로서, 액정(19)을 대신하여 이와 유사한 작용을 하는 광학적 이방성 특성을 갖는 임의의 매질을 사용하는 것도 가능하다.

상부 기판(13)과 하부 기판(11)의 외부면에는 빛의 편광 상태를 인위적으로 제어할 수 있도록 다수의 광학매질들이 배치되며, 상부기판(13) 위에는 산란필름(21)과 위상차판(23) 및 편광판(25)이 차례로 적층되어 있다. 여기서, 상기 산란필름(21)은 빛을 산란시켜 관측자의 입장에서 보다 넓은 범위의 시야각을 제공하기 위한 장치이고, 위상차판(23)은 반사전극에 진행하는 빛에 영향을 미치는 λ/4 플레이트의 특성을 가지는 제 1 위상차 필름과 λ/2 플레이트의 특성을 가지는 제 2 위상차 필름이 합착되어 있다. 상기 위상차판(23)은 전압이 인가되지 않은 오프상태에서, 진행하는 빛의 위상을 반전시키고 위상차를 부여하는 방법으로 좀더 많은 양의 빛을 외부로 출사하도록 함으로써, 높은 휘도특성을 가지는 액정패널을 구성하기 위해 형성된다. 그리고 상기 편광판(25)은 투과축 방향으로 진동하는 빛을 투과시키고 나머지 성분은 흡수하는 기능을 한다.

이하, 첨부된 도면을 참고하여 종래의 액정표시장치의 제조방법을 설명하면 다음과 같다.

도 2는 요철이 형성된 반사전극을 갖는 종래의 액정표시장치를 나타낸 평면도이고, 도 3a 내지 도 3e는 도 2의 Ⅰ-Ⅱ선에 따른 공정별 단면도이다.

도 2 및 도 3e에 도시한 바와 같이, 하부 기판(11) 상부의 소정부분에는 공 지의 기술로 형성된 박막 트랜지스터(T)가 형성되고, 상기 박막 트랜지스터(T)가 형성된 하부 기판(11)상에 보호막(36)이 형성되어 있다. 또한, 보호막(36)상에는 일정한 간격을 갖는 레진 재질의 복수개의 요철(37a)이 형성되어 있다. 이때, 요철(37a)은 빛의 반사각을 개선하기 위해 박막 트랜지스터(T)가 형성된 전체 표면에 소정 간격을 갖고 형성된다.

요철(37a)이 형성된 보호막(36)상에 박막 트랜지스터의 드레인 전극(31)과 전기적으로 연결되면서 반사전극(16)이 형성되어 있다. 이때. 반사전극(16)은 하부의 보호막(36)상에 형성된 요철(37a)에 의하여 표면에 요철을 갖게 되어 외부에서 입사하는 광이 다시 반사되어 출사할 경우 상기 요철(37a)에 여러 각도로 입사한 빛을 일정한 각도로 결집하여 출사할 수 있다.

한편, 상기 요철(37a)을 포함한 하부 기판(11)의 전면에 유기 절연막(38)이 형성되어 있고, 상기 유기 절연막(38)상에 반사전극(16)이 형성되어 있다.

이하, 도 3a 및 도 3e를 참고로 하여 상술한 액정표시장치를 제조하는 방법에 대해 설명하기로 한다.

도 3a에 도시한 바와 같이, 박막 트랜지스터가 구비된 하부 기판(11)의 전면에 보호막(36)을 형성하고 나서, 그 위에 레진막(37)을 형성한다. 도 5a에서 미설명된 도면부호 27은 게이트 전극을, 도면부호 28은 게이트 절연막을, 도면부호 29및 31은 소오스전극 및 드레인전극을, 그리고 도면부호 30은 반도체층을 각각 나타낸 것이다.

도 3b에 도시한 바와 같이, 노광 및 현상 공정으로 레진막을 패터닝하여 일 정한 간격을 복수개의 레진막패턴(37b)을 형성한다. 이때, 레진막패턴(37a)은 그 하부에 지주를 형성하고 나서 레진막을 오버코트(overcoat)하여 형성할 수도 있다.

도 3c에 도시한 바와 같이, 상기 레진막패턴에 열처리에 의한 리플로우(reflow) 공정을 진행하여 반구형의 요철(37a)을 형성한다.

도 3d에 도시한 바와 같이, 상기 반구형의 요철(37a)을 포함한 하부 기판(11)의 전면에 유기 절연막(38)을 형성하고 나서, 보호막 및 유기절연막을 패터닝하여 박막 트랜지스터의 드레인 전극(31)의 표면이 소정부분 노출시키는 콘택홀(35)을 형성한다.

도 3e에 도시한 바와 같이, 상기 콘택홀(35)을 포함한 하부 기판(11)의 전면에 반사특성이 우수한 도전성 불투명 금속막(미도시)을 증착하고 나서, 도전성 불투명 금속막을 패터닝하여 드레인전극(31)과 접속하면서 화소영역 상에 화소전극인 반사전극(16)을 형성한다. 이때 상기 반사전극(16)은 상기 복수개의 요철(37a)에 의해 요철 형태를 갖게 된다.

그러나, 상술한 바와 같이, 종래에는 레진을 이용하여 요철을 형성함으로써, 원하는 요철의 각분포를 얻을 수는 있으나, 요철의 지름을 10㎛ 이하로 제작하기에는 많은 어려움이 따랐다. 따라서, 이러한 10㎛ 이상의 지름을 가진 요철 간의 간격을 유지해야 함에 따라 화소 내의 공간을 최대한 사용할 수 없는 문제점이 있다. 또한, 레진을 사용하는 데 따른 추가적인 포토공정 및 열처리 공정을 실시해야 하기 때문에 공정이 복잡할 뿐만 아니라 레진 사용에 따른 제조 비용이 증가한다는 문제점이 있다.

따라서, 상기 문제점을 해결하고자, 본 발명의 목적은, 반사전극 형성 시, 요철의 각분포는 일정하게 유지하면서 요철 크기와 간격을 줄여 일정 크기의 화소 공간에서 차지하는 요철의 밀도의 증가시킴으로써, 반사모드에서의 반사율 및 시야각을 개선시킬 수 있는 액정표시장치의 제조방법을 제공하려는 것이다.

또한, 본 발명의 다른 목적은 쉐도우 마스크를 이용하여 요철을 형성함으로써, 레진 사용에 따른 포토공정 및 열처리 공정을 생략하여 공정을 단순화하고 제조 비용을 절감할 수 있는 액정표시장치의 제조방법을 제공하려는 것이다.

상기 목적들을 달성하고자, 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법은 박막 트랜지스터 및 보호막이 차례로 형성된 투명기판을 제공하는 단계와, 기판 상부에 요철이 형성될 부위를 노출시키는 다수개의 개구부를 가진 쉐도우 마스크를 위치시키는 단계와, 쉐도우 마스크를 이용하여 상기 기판에 스퍼터링 공정을 진행하되 스퍼터링 라디칼이 상기 개구부를 통과하면서 상기 보호막 위에 선택적으로 증착되어 요철을 형성하는 단계와, 쉐도우 마스크를 제거하는 단계와, 요철을 포함한 기판 상에 반사전극을 형성하는 단계를 포함한 것을 특징으로 한다.

상기 개구부는 쉐도우 마스크 전면에 규칙적으로 배치되도록 형성하거나, 불규칙적으로 배치되도록 형성한다. 또는, 상기 개구부는 쉐도우 마스크 전면에 동일 크기로 배치되도록 형성하거나, 다양한 크기로 혼합배치되도록 형성한다.

상기 스퍼터링 공정은 상기 스퍼터링 라디칼의 증착방향의 기울어진 정도 및 시간을 조절하여 원하는 요철 형태로 형성한다.

상기 요철을 형성하는 단계는, 쉐도우 마스크 및 기판 중 어느 하나를 평면 상에서 회전이동시켜 상기 개구부를 통과하여 기판에 증착되는 기판 단위 면적당 스퍼터링 라디칼의 밀도를 조절하거나, 쉐도우 마스크 및 기판 중 어느 하나를 평면 상에서 진동시켜 개구부를 통과하여 기판에 증착되는 기판 단위 면적당 스퍼터링 라디칼의 밀도를 조절한다. 한편, 상기 요철을 형성하는 단계는 사방증착법에 의해 진행할 수도 있다.

상기 요철은 10㎛이하의 지름을 가진다.

상기 반사전극은 전도성 물질을 이용하며, 전도성 물질로는 알루미늄 및 알루미늄 합금 중 어느 하나를 이용한다.

본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법은 박막트랜지스터 및 보호막이 차례로 구비된 투명기판을 제공하는 단계와, 기판 상부에 요철이 형성될 부위를 노출시키는 다수개의 개구부를 가진 쉐도우 마스크를 위치시키는 단계와, 쉐도우 마스크 및 상기 기판 중 어느 하나를 평면 상에서 이동시키면서 쉐도우 마스크를 이용하여 보호막 위에 스퍼터링 공정을 진행하되, 스퍼터링 라디칼이 상기 개구부를 통과하면서 보호막 위에 선택적으로 증착되어 요철을 형성하는 단계와, 쉐도우 마스크를 제거하는 단계와, 요철을 포함한 기판 상에 반사전극을 형성하는 단계를 포함한 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법은 박막트랜지스터 및 보호막이 차례로 구비된 투명기판을 제공하는 단계와, 기판 상부에 요철이 형성될 부위를 노출 시키는 다수개의 개구부를 가진 쉐도우 마스크를 위치시키는 단계와, 쉐도우 마스크 및 상기 기판 중 어느 하나를 평면 상에서 진동시키면서 쉐도우 마스크를 이용하여 상기 기판에 스퍼터링 공정을 진행하되, 스퍼터링 라디칼이 상기 개구부를 통과하면서 상기 보호막 위에 선택적으로 증착되어 요철을 형성하는 단계와, 쉐도우 마스크를 제거하는 단계와, 요철을 포함한 기판 상에 반사전극을 형성하는 단계를 포함한 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법은 박막트랜지스터 및 절연막이 차례로 구비된 투명기판을 제공하는 단계와, 기판 상부에 요철이 형성될 부위를 노출시키는 다수개의 개구부를 가진 쉐도우 마스크를 위치시키는 단계와, 쉐도우 마스크를 이용하여 상기 기판 상에 증착방향이 상기 기판과 경사지도록 사방증착 공정을 진행하되, 스퍼터링 라디칼이 상기 개구부를 통과하면서 기판 위에 선택적으로 증착되어 요철을 형성하는 단계와, 쉐도우 마스크를 제거하는 단계와, 요철을 포함한 기판 상에 반사전극을 형성하는 단계를 포함한 것을 특징으로 한다.

(실시예)

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하도록 한다.

도 4a 내지 도 4d는 본 발명의 일 실시예에 따른 반사형 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 공정별 단면도이다. 또한, 도 5는 쉐도우 마스크의 이동에 대한 평면도이다. 그리고, 도 6은 도 5의 일부를 보인 도면이고, 도 7은 도 6의 개구부 위치에 따른 요철의 증착두께를 보인 단면도이다.

본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법은, 도 4a에 도시된 바와 같이, 박막 트랜지스터가 구비된 하부 기판(41)의 전면에 보호막(51)을 형성한다. 도 4a에서 미설명된 도면부호 43은 게이트 전극을, 도면부호 45은 게이트 절연막을, 도면부호 48, 49는 소오스전극 및 드레인전극을, 그리고 도면부호 47은 반도체층을 각각 나타낸 것이다.

도 4b에 도시된 바와 같이, 보호막(51)이 구비된 기판 상부에 요철이 형성될 부위를 노출시키는 다수개의 개구부(53a)를 가진 쉐도우 마스크(53)를 위치시킨다. 이어, 쉐도우 마스크(53) 및 기판(41) 중 어느 하나를 평면 상에서 회전이동시키면서, 쉐도우 마스크를 이용하여 기판의 보호막(51) 위에 스퍼터링 공정(61)을 진행한다. 여기서, 쉐도우 마스크 및 기판 중 어느 하나를 평면 상에서 회전이동시키는 이유는 개구부(53a)를 통과하여 기판에 증착되는 기판의 단위면적당 스퍼터링 라디칼의 밀도를 조절하기 위함이다.

한편, 쉐도우 마스크(53) 및 기판(41) 중 어느 하나를 평면 상에서 회전이동시키는 대신에, 쉐도우 마스크 및 기판 중 어느 하나를 평면 상에서 진동시켜 개구부를 통과하는 스퍼터링 라디칼의 밀도를 조절할 수도 있다.

상기 스퍼터링 공정(61)에서, 스퍼터링 라디칼이, 도 5에 도시된 바와 같이, 회전이동 또는 진동되는 쉐도우 마스크의 개구부(53a)를 통과하면서 보호막(51) 위에 선택적으로 증착되어 반구형상의 요철(55)이 형성된다. 이때, 요철(55)은 10㎛이하의 지름을 가진다.

한편, 상기 요철(55)은, 도 6및 도 7에 도시된 바와 같이, 이동되는 쉐도우 마스크의 개구부가 중복되는 부위(b)가 그렇지 않은 (a)(c)부위에 비해 요철(55) 두께가 더 두꺼운 것을 알 수 있다.

그런다음, 쉐도우 마스크를 제거한 다음, 도 4c에 도시된 바와 같이, 기판 전면에 유기 절연막(57)을 형성하고 나서, 보호막 및 유기절연막을 패터닝하여 박막 트랜지스터의 드레인 전극(49)의 표면이 소정부분 노출시키는 콘택홀(50)을 형성한다.

도 4d에 도시된 바와 같이, 상기 콘택홀(50)을 포함한 하부 기판(11)의 전면에 알루미늄 또는 알루미늄합금 등과 같은 반사특성이 우수한 도전성 불투명 금속막(미도시)을 증착하고 나서, 도전성 불투명 금속막을 패터닝하여 드레인전극(49)과 접속하면서 화소영역 상에 화소전극인 반사전극(59)을 형성한다. 이때, 반사전극(59)은 상기 복수개의 요철(55)에 의해 요철 형태를 갖게 된다.

도 8는 본 발명의 다른 실시예에 따른 반사형 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 공정별 단면도이다.

본 발명에 따른 다른 실시예에 따른 반사형 액정표시장치의 제조방법은, 도 8에 도시된 바와 같이, 먼저 트랜지스터(43,48,49) 및 보호막(51)이 구비된 기판(41)을 제공한다. 이어, 기판(41) 상부에 요철이 형성될 부위를 노출시키는 다수개의 개구부(53a)를 가진 쉐도우 마스크(53)를 위치시킨다. 그런다음, 쉐도우 마스크(53)를 이용하여 기판의 보호막(51) 상에 사방증착 공정(71)을 진행한다. 여기서, 사방증착 공정(71)이란 산화물(경우에 따라서는 금속이나 불화물일 수도 있음)을 기판에 대해 경사로 증착하는 것으로서, 증착물질은 SiOx가 일반적이다. 이때, 증 착각, 증착속도, 진공도, 기판온도, 막 두께 등의 증착 조건이나 증착물질이 다르면 증착된 박막의 단면 모양이나 박막의 특성이 다르게 된다. 일반적으로 사방증착막은 셀프-쉐도잉효과(self-shadowing effect)때문에 등방성이 아니며, 표면형상을 비롯해서 여러 가지 물성치가 이방성을 나타낸다.

본 발명의 다른 실시예에서는, 사방증착 공정(71) 결과, 스퍼터링 라디칼이 개구부를 통과하면서 기판 위의 보호막(51)에 선택적으로 증착되어 반구형의 요철(55)을 형성한다. 이때, 요철(55)의 모양 및 크기는 쉐도우 마스크의 개구부 모양, 크기 및 간격에 따라 결정된다.

이후의 공정은 본 발명에 따른 제 1실시예와 동일하게 진행된다.

도 9 및 도 10은 본 발명에 따른 쉐도우 마스크의 개구부 형상을 보인 평면도이다.

도 9에 도시된 바와 같이, 개구부(53a)를 쉐도우 마스크(53) 전면에 동일 크기로 규칙성을 가지고 배치되도록 형성한 배치되도록 형성하거나, 도 10에 도시된 바와 같이, 쉐도우 마스크(53) 전면에 다양한 크기로 불규칙성을 가지고 혼합배치되도록 형성할 수도 있다.

본 발명에 따르면, 쉐도우 마스크를 이용하여 요철을 형성함으로써, 원하는 요철의 각분포를 얻으면서도 화소 내의 공간을 최대한 활용할 수 있다. 따라서, 기존의 레진공정이 필요없음에 따라 공정이 단순화되고 레진 구입에 따른 공정비용이 저렴해진다.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명은 쉐도우 마스크 또는 기판을 평면 상에서 이동시키는 상태에서 기판에 스퍼터링 공정을 진행함으로써, 스퍼터링 라디칼이 쉐도우 마스크의 개구부를 통과하면서 기판 위에 선택적으로 증착되어 원하는 모양과 크기를 가진 요철을 형성할 수 있다. 이때, 요철의 모양 및 크기는 쉐도우 마스크의 개구부 모양, 크기 및 간격에 따라 결정된다.

따라서, 본 발명은 쉐도우 마스크를 이용함으로써, 기존의 레진을 사용한 요철보다도 작은 크기로 형성이 가능하며, 화소 내의 반사전극 사용 효율을 극대화할 수 있다. 또한, 본 발명은 기존의 레진 사용에 따른 포토공정 및 열처리 공정을 생략하여 공정을 단순화하고, 또한 제조 비용을 절감할 수 있다.

한편, 본 발명은 쉐도우 마스크를 이용하여 증착방향을 기판과 경사지도록 사방증착함으로써, 원하는 모양과 크기를 가진 요철을 형성할 수 있다. 이때, 요철의 모양 및 크기는 쉐도우 마스크의 개구부 모양, 크기 및 간격에 따라 결정된다.

Claims (15)

1. 삭제
2. 삭제
3. 삭제
4. 삭제
5. 삭제
6. 박막 트랜지스터 및 보호막이 차례로 형성된 투명기판을 제공하는 단계와,

   상기 기판 상부에 요철이 형성될 부위를 노출시키는 다수개의 개구부를 가진 쉐도우 마스크를 위치시키는 단계와,

   상기 쉐도우 마스크를 이용하여 상기 기판에 스퍼터링 공정을 진행하되, 스퍼터링 라디칼이 상기 개구부를 통과하면서 상기 보호막 위에 선택적으로 증착되어 요철을 형성하는 단계와,

   상기 쉐도우 마스크를 제거하는 단계와,

   상기 요철을 포함한 기판 상에 반사전극을 형성하는 단계를 포함하며,

   상기 스퍼터링 공정은 상기 스퍼터링 라디칼의 증착방향의 기울어진 정도 및 시간을 조절하여 원하는 요철 형태로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
7. 박막 트랜지스터 및 보호막이 차례로 형성된 투명기판을 제공하는 단계와,

   상기 기판 상부에 요철이 형성될 부위를 노출시키는 다수개의 개구부를 가진 쉐도우 마스크를 위치시키는 단계와,

   상기 쉐도우 마스크를 이용하여 상기 기판에 스퍼터링 공정을 진행하되, 스퍼터링 라디칼이 상기 개구부를 통과하면서 상기 보호막 위에 선택적으로 증착되어 요철을 형성하는 단계와,

   상기 쉐도우 마스크를 제거하는 단계와,

   상기 요철을 포함한 기판 상에 반사전극을 형성하는 단계를 포함하며,

   상기 요철을 형성하는 단계는, 상기 쉐도우 마스크 및 기판 중 어느 하나를 평면 상에서 회전이동시켜 상기 개구부를 통과하여 기판에 증착되는 기판 단위 면적당 스퍼터링 라디칼의 밀도를 조절하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
8. 박막 트랜지스터 및 보호막이 차례로 형성된 투명기판을 제공하는 단계와,

   상기 기판 상부에 요철이 형성될 부위를 노출시키는 다수개의 개구부를 가진 쉐도우 마스크를 위치시키는 단계와,

   상기 쉐도우 마스크를 이용하여 상기 기판에 스퍼터링 공정을 진행하되, 스퍼터링 라디칼이 상기 개구부를 통과하면서 상기 보호막 위에 선택적으로 증착되어 요철을 형성하는 단계와,

   상기 쉐도우 마스크를 제거하는 단계와,

   상기 요철을 포함한 기판 상에 반사전극을 형성하는 단계를 포함하며,

   상기 요철을 형성하는 단계는, 상기 쉐도우 마스크 및 기판 중 어느 하나를 평면 상에서 진동시켜 상기 개구부를 통과하여 기판에 증착되는 기판 단위 면적당 스퍼터링 라디칼의 밀도를 조절하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
9. 제 6 항, 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서, 상기 요철은 10㎛이하의 지름을 가진 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
10. 제 6 항, 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서, 상기 요철을 형성하는 단계는 사방증착법에 의해 진행하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
11. 제 6 항, 제 7 항, 또는 제 8 항에 있어서, 상기 반사전극은 전도성 물질을 이용하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
12. 제 11항에 있어서, 상기 전도성 물질은 알루미늄 및 알루미늄 합금 중 어느 하나를 이용하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
13. 박막트랜지스터 및 보호막이 차례로 구비된 투명기판을 제공하는 단계와,

    상기 기판 상부에 요철이 형성될 부위를 노출시키는 다수개의 개구부를 가진 쉐도우 마스크를 위치시키는 단계와,

    상기 쉐도우 마스크 및 상기 기판 중 어느 하나를 평면 상에서 이동시키면서, 상기 쉐도우 마스크를 이용하여 상기 보호막 위에 스퍼터링 공정을 진행하되, 스퍼터링 라디칼이 상기 개구부를 통과하면서 상기 보호막 위에 선택적으로 증착되어 요철을 형성하는 단계와,

    상기 쉐도우 마스크를 제거하는 단계와,

    상기 요철을 포함한 기판 상에 반사전극을 형성하는 단계를 포함한 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
14. 박막트랜지스터 및 보호막이 차례로 구비된 투명기판을 제공하는 단계와,

    상기 기판 상부에 요철이 형성될 부위를 노출시키는 다수개의 개구부를 가진 쉐도우 마스크를 위치시키는 단계와,

    상기 쉐도우 마스크 및 상기 기판 중 어느 하나를 평면 상에서 진동시키면서, 상기 쉐도우 마스크를 이용하여 상기 기판에 스퍼터링 공정을 진행하되, 스퍼터링 라디칼이 상기 개구부를 통과하면서 상기 보호막 위에 선택적으로 증착되어 요철을 형성하는 단계와,

    상기 쉐도우 마스크를 제거하는 단계와,

    상기 요철을 포함한 기판 상에 반사전극을 형성하는 단계를 포함한 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
15. 박막트랜지스터 및 절연막이 차례로 구비된 투명기판을 제공하는 단계와,

    상기 기판 상부에 요철이 형성될 부위를 노출시키는 다수개의 개구부를 가진 쉐도우 마스크를 위치시키는 단계와,

    상기 쉐도우 마스크를 이용하여 상기 기판 상에 증착방향이 상기 기판과 경사지도록 사방증착 공정을 진행하되, 스퍼터링 라디칼이 상기 개구부를 통과하면서 상기 기판 위에 선택적으로 증착되어 요철을 형성하는 단계와,

    상기 쉐도우 마스크를 제거하는 단계와,

    상기 요철을 포함한 기판 상에 반사전극을 형성하는 단계를 포함한 것을 특 징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.

Images