JPH10282514A

JPH10282514A - 反射型液晶ディスプレイ装置およびその製造方法

Info

Publication number: JPH10282514A
Application number: JP9096404A
Authority: JP
Inventors: Koji Ichimura; 公二市村
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1997-04-01
Filing date: 1997-04-01
Publication date: 1998-10-23

Abstract

(57)【要約】【課題】反射型液晶ディスプレイ装置において、電極
表面における装置外部物体の映り込みを少なくして視認
性の良い装置およびその製造方法を提供する。【解決手段】電極表面に反射性を持たせた反射型液晶
ディスプレイ装置において、基板上に微細凹凸形状を形
成した絶縁層を介して反射性金属を積層することにより
電極表面に微細凹凸形状が再現されるため、外部物体光
が鏡面反射せず、観察側からの映像の視認性が向上す
る。また、このような絶縁層は、基板上にポジ型感光性
材料層を形成した後、微細凹凸形状を表面に有する光透
過性材料を介して光露光し、現像処理することにより形
成することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射型液晶ディス
プレイ装置およびその製造方法に関し、さらに詳しく
は、ノート型パーソナルコンピュータやワードプロセッ
サなどのＯＡ機器、ポケットテレビ等の各種映像機器お
よびゲーム機器などに好適に用いられる反射型液晶ディ
スプレイ装置とその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ポケット液晶テレビ、ラップトッ
プパソコン、ワードプロセッサなどへの液晶ディスプレ
イ装置の応用が急速に進展している。特に、液晶ディス
プレイ装置のなかでも外部から入射した光を反射させて
表示を行う反射型液晶ディスプレイ装置は、バックライ
トが不要であること、低消費電力で電池駆動ができるこ
と、かつ薄型、軽量である点で注目を集めている。

【０００３】この反射型液晶ディスプレイ装置には、液
晶をツイストネマティック（ＴＮ）モードで駆動するＴ
Ｎ方式、スーパーツイストネマティック（ＳＴＮ）モー
ドで駆動するＳＴＮ方式が知られている。ＴＮ方式は、
液晶表示素子の光学的性質を利用して、電圧無印加時の
旋光特性と、電圧印加時の偏光解消特性とを利用してモ
ノクロ表示を行うものである。また、液晶中に２色性染
料を添加し、電圧により液晶の配向を制御することで２
色性染料の配向を制御し表示を行う、アモルファス・カ
イラル・ネマチック・ゲストホスト液晶も知られてい
る。このものは偏光板が不要であることから高い輝度と
広い視野角が得られる特徴がある。

【０００４】また、カラー液晶表示に関しては、液晶表
示素子内に、Ｒ，Ｇ，Ｂの各カラーフィルターを設け、
光スイッチング特性を利用し、加色混合によりマルチカ
ラー表示あるいはフルカラー表示を行うようにしたもの
である。現在、ＴＮ方式は、アクティブマトリックス駆
動や単純マトリックス駆動を適用した、携帯可能ないわ
ゆるポケット液晶テレビのディスプレイに採用されてい
る。

【０００５】図８は、従来のモノクロ反射型液晶ディス
プレイ装置の構造を示す図である。図において、液晶デ
ィスプレイ装置２０は、対向する２枚のガラス基板２０
ａおよび２０ｂを有しており、基板２０ａの対向面側に
は、絵素を構成するストライプ状の電極２３ａが絶縁層
２２上に設けられており、さらにこれらの上には配向膜
２４ａが形成されている。基板２０ｂの対向面側にもス
トライプ状の対向電極２３ｂが電極２３ａと直交するよ
うに形成されており、さらに対向電極２３ｂ上には、配
向膜２４ｂが形成されている。観察側の基板２０ｂにお
ける対向電極２３ｂは透明電極で形成されるが、基板２
０ａの電極２３ａは反射効果を高めるために反射性の導
電金属で形成される。この基板２０ａと基板２０ｂの電
極を単純マトリックス走査して、液晶画面を表示させ
る。

【０００６】図９は、ＴＦＴ素子を使用した従来のモノ
クロ反射型液晶ディスプレイ装置の構造を示す図であ
る。図において、液晶ディスプレイ装置２０は、対向す
る２枚のガラス基板２０ａおよび２０ｂを有しており、
基板２０ａの対向面側には、絵素を構成するＴＦＴ素子
２１およびマトリックス状に配列された電極２３ａが絶
縁層２２上に設けられており、さらにこれらの上には配
向膜２４ａが形成されている。基板２０ｂの対向面側に
は平面状の共通電極２３ｂが形成されており、さらに共
通電極２３ｂ上には、配向膜２４ｂが形成されている。
観察側の基板２０ｂにおける共通電極２３ｂは透明電極
で形成されるが、基板２０ａの電極２３ａは反射効果を
高めるために反射性の導電金属で形成される。

【０００７】上記電極基板２０ａおよび対向基板２０ｂ
間は、スペーサー（不図示）により一定間隔離されて保
持されており、配向膜間にはゲストホスト型液晶等の液
晶層２５が封入され、両ガラス基板の周囲は封止材料２
６により封止されている。従来の反射型液晶表示素子で
は素子の裏面に、視野角を広くするためにアルミニウム
等の金属表面を研磨して適当な光散乱性を付与したもの
や、反射板の基板表面に凹凸形状を形成した後にアルミ
ニウム等の金属を蒸着して、適当な光散乱性を持たせた
ものも使用されていたが、電極自体に反射性を持たせる
場合は、素子裏面の反射板は通常省略されることが多
い。図８、図９は、そのような場合の反射型液晶ディス
プレイ装置を示すものである。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上記の従来型の反射型
液晶ディスプレイ装置においては、電極２３ａを反射性
金属で形成した場合、当該電極表面が鏡面状であるの
で、観察者側の物体を映し込んで鏡面反射するため、映
像画面の視認性が悪くなるという問題が生じている。そ
こで、本発明では、電極を反射性とした反射型液晶ディ
スプレイ装置において、当該電極表面に微細凹凸形状を
付与して形成することにより映し込みを少なくし視認性
を高めることを着想し本発明の完成に至ったものであ
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】すなわち、上記問題を解
決するための本発明の要旨の第１は、平滑な基板上に光
反射性の電極を有する反射型液晶ディスプレイ装置にお
いて、当該電極が、微細凹凸形状を有する絶縁性樹脂層
上に光反射性金属を積層して形成されていることを特徴
とする反射型液晶ディスプレイ装置、にある。かかる液
晶ディスプレイ装置であるため視認性の高いディスプレ
イ装置とすることができる。

【００１０】上記問題を解決するための本発明の要旨の
第２は、ＴＦＴ素子が形成された基板上に光反射性の電
極を有する反射型液晶ディスプレイ装置において、当該
電極が、微細凹凸形状を有する絶縁性樹脂層上に光反射
性金属を積層して形成されていることを特徴とする反射
型液晶ディスプレイ装置、にある。かかる液晶ディスプ
レイ装置であるため視認性の高いディスプレイ装置とす
ることできる。

【００１１】上記問題を解決するための本発明の要旨の
第３は、平滑な基板上に光反射性の電極を有する反射型
液晶ディスプレイ装置の製造方法において、基板上に絶
縁性を有する感光性樹脂層を形成する工程と、乾燥後の
当該感光性樹脂層に微細凹凸形状を有する光透過性材料
を介して光露光する工程と、当該光露光後の感光性樹脂
層を現像処理して乾燥し、表面に微細凹凸形状を有する
絶縁性樹脂層を形成する工程と、当該微細凹凸形状を有
する絶縁性樹脂層上に光反射性金属を積層する工程と、
を含むことを特徴とする反射型液晶ディスプレイ装置の
製造方法、にある。かかる液晶ディスプレイ装置の製造
方法であるため視認性の高いディスプレイ装置を容易に
製造することができる。

【００１２】上記問題を解決するための本発明の要旨の
第４は、ＴＦＴ素子が形成された基板上に光反射性の電
極を有する反射型液晶ディスプレイ装置の製造方法にお
いて、基板上に絶縁性を有する感光性樹脂層を形成する
工程と、乾燥後の当該感光性樹脂層に微細凹凸形状を有
する光透過性材料を介して光露光する工程と、コンタク
トホールのパターンを有するフォトマスクを用いて光露
光する工程と、当該光露光後の感光性樹脂層を現像処理
して乾燥し、表面に微細凹凸形状を有する絶縁性樹脂層
を形成する工程と、当該微細凹凸形状を有する絶縁性樹
脂層上に光反射性金属を積層する工程と、を含むことを
特徴とする反射型液晶ディスプレイ装置の製造方法、に
ある。かかる液晶ディスプレイ装置の製造方法であるた
めＴＦＴ素子を使用した視認性の高いディスプレイ装置
を容易に製造することができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明の反射型液晶ディスプレイ
装置は、観察側と反対側の電極が導電性の光反射性金属
材料で形成され、特に当該金属材料の層が基板と金属材
料との間にあって微細凹凸形状が施された絶縁性樹脂材
料上に薄膜で形成されているために、金属材料層が、そ
の絶縁材料の凹凸形状を表面に忠実に再現して、観察側
からの入射光を乱反射させ、それにより外部物体の映し
込みの影響を少なくすることに特徴がある。以下、図面
を参照して本発明の反射型液晶ディスプレイ装置および
その製造方法について説明する。

【００１４】図１は、本発明の第１の態様の反射型液晶
ディスプレイ装置を示す図である。図１において、液晶
ディスプレイ装置１０は、対向する２枚のガラス基板１
０ａおよび１０ｂを有しており、基板１０ａの対向基板
面側には、ストライプ状の電極１３ａが設けられてお
り、さらにこれらの上には配向膜１４ａが形成されてい
る。基板１０ｂの対向基板面側には画素電極１３ａと直
交するようにストライプ状の対向電極１３ｂが形成さ
れ、さらに対向電極１３ｂ上には、配向膜１４ｂが形成
されている。観察者側基板１０ｂにおける電極１３ｂは
透明電極で形成されるが、基板１０ａ側の画素電極１３
ａは反射効果を高めるために反射性の導電金属で形成さ
れている。これらの電極は、パネルサイズ、画素数にも
よるが、２００μｍ程度のピッチで形成されることが多
い。

【００１５】本発明の反射型液晶ディスプレイ装置で
は、この電極１３ａが表面微細凹凸形状を有する絶縁層
１２を介し設けられていることに特徴がある。電極１３
ａはスパッタリング等により１μｍ以下の薄層に形成さ
れるので、電極層下の微細凹凸形状を再現した電極が形
成されることになる。電極表面が微細凹凸形状であるた
め、観察側外部物体が鏡面的に反射することがないとい
う効果を奏する。ここで、微細とは液晶ディスプレイ装
置外の観察側の物体が鏡面的に反射して、映像の視認性
を低下させない程度の凹凸形状をいうが、液晶層１５や
絶縁層の厚みまたは電極１３ａの幅等により規制される
ので、任意の大きさの凹凸形状を取りえるという分けで
はない。通常、液晶層の厚みは、１０μｍ以下、強誘電
型液晶の場合には、１〜２μｍとされる。また、絶縁層
１２の厚みも、数μｍ程度であるため、絶縁層の凹凸形
状も凹凸の山と谷間で測って、最大１０μｍから最小は
可視光の波長（４００〜７５０ｎｍ）程度までというこ
とになる。

【００１６】図２は、本発明の第２の態様の反射型液晶
ディスプレイ装置を示す図である。図２において、液晶
ディスプレイ装置１０は、対向する２枚のガラス基板１
０ａおよび１０ｂを有しており、基板１０ａの対向面側
には、液晶に電圧を印加するＴＦＴ素子１１および電極
１３ａが設けられており、さらにこれらの上には配向膜
１４ａが形成されている。基板１０ｂの対向面側には平
面状の共通電極１３ｂが形成されており、さらに共通電
極１３ｂ上には、配向膜１４ｂが形成されている。観察
者側の基板１０ｂにおける共通電極１３ｂは透明材料で
形成されるが、基板１０ａの画素電極１３ａは反射効果
を持たせるために反射性の導電金属で形成されている。
この第２の態様の反射型液晶ディスプレイ装置でも、電
極１３ａが表面微細凹凸形状を有する絶縁層１２を介し
設けられていることに特徴がある。電極１３ａの形成方
法および微細凹凸形状の大きさ等については、第１の態
様の場合と同様である。

【００１７】ここで、絶縁層１２は、画素電極１３ａ間
の絶縁をとるもので、材料的に特に限定されないが、表
面に微細凹凸が形成される必要があるので、簡易な加工
手段を得られるものが望ましい。通常は、乾燥後に絶縁
性を有するポジ型の感光性樹脂が好適に使用することが
できる。また、微細凹凸をサンドブラスト等の機械的手
段により形成する場合は、感光性材料を使用する必要は
なく、一般的な高分子材料やシリコン酸化膜等の絶縁性
材料であっても良い。上記ガラス基板１０ａおよび１０
ｂはスペーサーにより一定間隔離れて保持されており、
配向膜間には液晶層１５が封入され、両ガラス基板の周
囲は、封止材料１６により封止されている。

【００１８】図５は、本発明の第２の態様の反射型液晶
ディスプレイ装置のコンタクトホール部を示す図であ
る。図５（Ａ）は、その断面図、図５（Ｂ）は、その平
面図を示している。図５（Ｂ）のＡ−Ａ線における断面
が、図５（Ａ）に図示されていることになる。図５にお
いて、基板１０ａ上に形成されたＴＦＴ素子１１は窒化
珪素（ＳｉＮｘ）からなる絶縁層１１２と当該絶縁層上
に形成されたアモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）半導体
層１１３と、これらに接続するゲート電極１１１、ソー
ス電極１１６とからなり、さらに表示電極１３ａに接続
するドレイン電極１１５が形成されている。ゲート電極
１１１とソース電極１１６は基板上でマトリックスを形
成するように通常は直交して形成されている。本発明の
第２の態様の反射型液晶ディスプレイ装置では、画素電
極１３ａとこのドレイン電極１１５との接続をとるため
に、絶縁層１２にコンタクトホール３０を形成する必要
がある。

【００１９】図６は、本発明の第２の態様の反射型液晶
ディスプレイ装置のコンタクトホール部を示す斜視図で
ある。電極１３ａが絶縁層１２に形成されたコンタクト
ホール３０を介してドレイン電極１１５に接続されてい
る状態か明瞭に示されている。電極１３ａ表面は絶縁層
１２に形成された微細凹凸形状を再現していて、観察側
からの入射光線Ｉを乱反射している。液晶層１５には、
ゲストホスト型液晶または高分子分散型液晶（ＰＤＬ
Ｃ）が好ましく用いられる。

【００２０】図３は、本発明の第１の態様の反射型液晶
ディスプレイ装置の製造工程を説明する図である。ま
ず、図３（Ａ）のように反射性電極基板となる基板１０
ａを準備する。当該基板材料は、基板全体が反射性のも
のであっても良いし、基板の観察側と反対面にさらに反
射材料を設ける場合は、透明な材料である必要がある。
一般的には平滑なガラス材料が使用される。本発明の特
徴は、この基板上に微細凹凸形状を有する絶縁性樹脂材
料層を設け、その上に反射性の電極を設けることにあ
る。微細凹凸形状は各種の方法で形成することができる
が、その一つの方法は、基板上にポジ型感光性樹脂層を
設け、プリベーク、乾燥した後、当該感光性樹脂の表面
に微細な凹凸形状を有する平面的な光透過性材料を密着
し、当該材料を介して光露光することにより凹凸形状を
感光性材料層上に再現する方法である。微細な凹凸形状
を有する平面的な光透過性材料には例えば、すりガラス
やマット加工したプラスチックシートが使用できる。

【００２１】図３（Ｂ）は、基板上にポジ型感光性樹脂
層１２が塗布された状態を示し、図３（Ｃ）は当該感光
性樹脂層１２を微細な凹凸形状を有する平面的な光透過
性材料１８を介して光源１９により光露光している工程
を示している。露光後、感光した樹脂層を現像処理すれ
ば、ポジ型感光材料であるので露光により光可溶化した
部分が溶解除去され、感光性樹脂層表面に微細凹凸形状
１２ｍを残存させることができる（図３（Ｄ））。この
露光では、光透過性材料の凹凸形状が同一の相似形状で
感光性樹脂層に形成されるわけではないが、光透過性材
料の凸部は光を集光する作用をするので、凸部に対向し
た部分は可溶化が促進され、ほぼ光透過性材料の形状に
平行に対応した形状が感光性樹脂層に形成されるものと
考えられる。このような目的に使用することができるポ
ジ型感光性樹脂材料としては、アルカリ可溶性のクレゾ
ールノボラック樹脂とナフトキノンアジドの混合物また
はアクリル系感光性樹脂が通常使用されている。具体的
には、ＯＦＰＲ−８００、ＯＦＰＲ−５０００、ＯＦＰ
Ｒ−８６００、ＴＳＭＲ−８８００、ＴＳＭＲ−ＣＲＢ
（以上、東京応化工業株式会社製）、オプトマーＰＣ３
０２（日本合成ゴム株式会社製）等がある。

【００２２】続いて、微細凹凸形状１２ｍの表面に電極
１３ａとなる導電性金属材料を積層する（図３
（Ｅ））。これにはスパッタリング等の手法により、薄
層の金属アルミ層を形成することが常用されている。金
属アルミ層は、絶縁層の微細凹凸形状が失われない程度
の薄層（通常、１μｍ以下）に施すので電極表面が絶縁
層の微細凹凸形状を殆どそのまま再現することになる。
電極層形成後、対向電極との間でマトリックス回路を形
成するために、通常のフォトエッチング技術により所定
のストライプ状電極にパターン形成する（図３
（Ｆ））。従って、電極１３ａは図３（Ｆ）において、
紙面に垂直方向に伸びていることになる。

【００２３】光反射性電極基板および対向基板の双方に
配向膜処理を行い、両基板を組み合わせて周囲を封止
し、基板間にＰＤＬＣ液晶またはゲストホスト型液晶を
充填することにより、反射型液晶ディスプレイ装置が完
成する（図１）。

【００２４】図４は、本発明の第２の態様の反射型液晶
ディスプレイ装置の製造工程を説明する図である。ま
ず、図４（Ａ）のように反射性電極基板となる基板１０
ａを準備する。第１の実施態様の場合と異なり、第２の
実施態様の場合は基板上にＴＦＴ素子１１が形成されて
いることに特徴がある。当該基板材料も反射性のもので
あっても良いし、基板の観察側と反対面にさらに反射材
料を設ける場合は、透明な材料である必要がある。一般
的には平滑なガラス材料が使用される。この基板上に微
細凹凸形状を有する絶縁材料層を設け、その上に反射性
の電極を設けることは第１の実施態様の場合と同様であ
る。また、微細凹凸形状も第１の実施態様と同様に形成
する。

【００２５】図４（Ｂ）は、基板上にポジ型感光性樹脂
層１２が塗布された状態を示し、図４（Ｃ）は当該感光
性樹脂層１２を微細な凹凸形状を有する平面的な光透過
性材料１８を介して光源１９により光露光している工程
を示している。続いて、電極１３ａの表面にＴＦＴのド
レイン電極との接触を得るためのコンタクトホール３０
を形成するために、ＴＦＴ位置部分に透明なコンタクト
ホールパターンを有するフォトマスク１７を用いて露光
を行う（図４（Ｄ））。両露光後、感光した樹脂層を現
像処理すれば、ポジ型感光材料であるので露光により光
可溶化した部分が溶解除去され、感光性樹脂層表面に微
細凹凸形状１２ｍを残存させ、かつＴＦＴ素子部分にコ
ンタクトホール３０を有する絶縁層を形成することがで
きる（図４（Ｅ））。

【００２６】次に、微細凹凸形状１２ｍの表面に電極１
３ａとなる導電性金属材料を積層する（図４（Ｆ））。
これにはスパッタリング等の手法により、薄層の金属ア
ルミ層を形成することが常用されている。金属アルミ層
は、絶縁層の微細凹凸形状が失われない程度の１μｍ以
下の薄層に施すので電極表面が絶縁層の微細凹凸形状を
殆どそのまま再現することになる。また、金属アルミ層
は、コンタクトホール内にも形成されるので、ＴＦＴの
ドレイン電極と電極１３ａとの接続がされることにな
る。電極層形成後、通常のフォトエッチング技術により
所定のマトリックス状の電極にパターン形成する（図４
（Ｇ））。

【００２７】光反射性電極基板および対向基板の双方に
配向膜処理を行い、両基板を組み合わせて周囲を封止
し、基板間にゲストホスト型液晶またはＰＤＬＣ液晶を
充填することにより、ＴＦＴ素子を使用した反射型液晶
ディスプレイ装置が完成する（図２）。

【００２８】

【実施例】

（実施例１）（単純マトリクス型の反射型液晶ディスプレイ）＜反射性電極基板＞平滑なガラス基板（コーニング社製
「７０５９ガラス」）上に、絶縁層を形成するためにア
クリル系ポジ型感光性保護膜（日本合成ゴム株式会社製
「オプトマーＰＣ３０２」）をスピンコート法（回転
数：１５００回転／分）で塗布し、膜厚約１．５μｍの
塗膜を形成した（図３（Ｂ））。その後、８０°Ｃのホ
ットプレート上で６０秒間加熱し、プリベークを行っ
た。

【００２９】ポジ型感光性塗膜１２上にすりガラス（興
栄化学株式会社製「すりガラス１５００番」）１８を凹
凸面が当該ポジ型感光性保護膜に接するようにして密着
させ、超高圧水銀灯（１５ｍＷ／ｃｍ²，４０５ｎｍ）
で３秒間露光した（図３（Ｃ））。その後、現像液（日
本合成ゴム株式会社製「ＰＤ５２３ＡＤ」）の１１．９
倍希釈液に９０秒間浸漬して現像した（図３（Ｄ））。
現像後さらに、超高圧水銀灯（１５ｍＷ／ｃｍ²，４０
５ｎｍ）で３０秒間全面露光し、２２０°Ｃのオーブン
で６０分間ポストベークを行った。絶縁層表面には、す
りガラスの微細凹凸形状とほぼ平行な形状となる凹凸形
状１２ｍが形成された面が得られた。

【００３０】絶縁層上に反射機能を有する電極層１３ａ
を形成するために、金属アルミをスパッタ法により、
０．２μｍ厚で形成し（図３（Ｅ））、当該アルミ層を
電極幅１９０μｍ、電極間間隔２００μｍに設定するた
め、フォトマスクを用いた通常のパターニング方法によ
りストライプ状の電極１３ａを形成した（図３
（Ｆ））。

【００３１】図７は、上記で使用したすりガラス表面を
触針式表面形状測定機で実測した結果を示す図である。
すりガラス表面の５００μｍの範囲を、微細凹凸形状を
触針式表面形状測定機（デクタク社製「Ｄｅｋｔａｋ１
６０００」）で実測すると、図７のグラフのような形状
となる。このグラフの表面粗さの算術平均値Ｒａ＝３１
９２Å（約０．３μｍ）、Ｒｍａｘ（山と谷の深さのｍ
ａｘ）＝約２２，０００Å（２．２μｍ）であった。な
お、図中Ｒは、測定データの平均値等の算出開始位置
（１０６．３８μｍ）を、Ｍは、算出終了位置（４２
５．５３μｍ）を表している。

【００３２】＜対向基板＞一方、透明なガラス基板（コ
ーニング社製「７０５９ガラス」）上にＩＴＯを、０．
１５μｍ厚で、電極基板の電極と直交するストライプ状
にスパッタリングすることにより透明電極パターンを形
成した対向基板を作製した。

【００３３】＜液晶パネルの作製＞上記で作製した反射
性電極基板と対向基板の双方に配向膜処理を施した後、
基板間を封止し、ゲストホスト型液晶を充填して液晶パ
ネルを作製し駆動したところ視認性の高い白色表示が実
現できた。

【００３４】（比較例１）上記実施例１と同様にして比
較例１のサンプルを試作した。ただし、反射性電極基板
上に実施例１と同一材料による同一厚さの絶縁層は形成
したが、すりガラスによる露光は行わなかったため、平
滑な絶縁層上に鏡面的な電極が形成された。その他の条
件は実施例１と同様にして液晶パネルを作製した。その
結果は、鏡面状の電極からの反射が強く、画像の視認性
が、実施例１のものよりも劣っていた。

【００３５】（実施例２）（ＴＦＴ型の反射型液晶ディスプレイ）＜反射性電極基板＞基板として、ガラス（コーニング社
製「７０５９ガラス」）上に、ＴＦＴマトリクスを形成
した基板を使用し（図４（Ａ））、実施例１と同様に、
絶縁層を形成するためにアクリル系ポジ型感光性保護膜
（日本合成ゴム株式会社製「オプトマーＰＣ３０２」）
をスピンコート法（回転数：１５００回転／分）で塗布
し、膜厚約１．５μｍの塗膜を形成した（図４
（Ｂ））。その後、８０°Ｃのホットプレート上で６０
秒間加熱し、プリベークを行った。絶縁層側にすりガラ
ス（興栄化学株式会社製「すりガラス１５００番」）を
密着させ、超高圧水銀灯（１５ｍＷ／ｃｍ²，４０５ｎ
ｍ）で３秒間露光した（図４（Ｃ））。なお、すりガラ
スの微細凹凸形状は実施例１と同様であった。

【００３６】続いて、コンタクトホールのパターンを持
つフォトマスク１７を密着させ、超高圧水銀灯（１５ｍ
Ｗ／ｃｍ²，４０５ｎｍ）で１５秒間露光した（図４
（Ｄ））。これは絶縁層上に形成する反射性電極層とＴ
ＦＴ素子１１のドレイン電極との導通をとるためであ
る。その後、現像液（日本合成ゴム株式会社製「ＰＤ５
２３ＡＤ」）の１１．９倍希釈液に９０秒間浸漬して現
像した（図４（Ｅ））。現像後さらに、超高圧水銀灯
（１５ｍＷ／ｃｍ²，４０５ｎｍ）で３０秒間全面露光
し、２２０°Ｃのオーブンで６０分間ポストベークを行
った。絶縁層上に反射機能を有する電極層を形成するた
めに、金属アルミをスパッタ法により、０．２μｍ厚で
形成し、当該アルミ層を通常のパターニング方法により
マトリックス状に電極パターンを形成した（図４
（Ｆ））。

【００３７】＜対向基板＞透明なガラス基板（コーニン
グ社製「７０５９ガラス」）上にＩＴＯをスパッタリン
グにより、０．１５μｍ厚で全面に平面状に共通電極を
形成し対向基板を作製した。

【００３８】＜液晶パネルの作製＞反射性電極基板と当
該対向基板の双方に配向膜処理を施した後、基板間を封
止し、２色性染料を添加したゲストホスト型液晶を充填
して液晶パネルを作製し駆動したところ視認性の高い白
色表示が実現できた。

【００３９】（比較例２）上記実施例２と同様にして比
較例２のサンプルを試作した。ただし、基板上に実施例
２と同一材料による同一厚さの絶縁層は形成したが、す
りガラスによる露光は行わなかったため、平滑な絶縁層
上に鏡面的な電極が形成された。その他の条件は実施例
２と同様にして液晶パネルを作製した。その結果は、鏡
面状の電極からの反射が強く、画像の視認性が、実施例
２のものよりも劣っていた。

【００４０】

【発明の効果】本発明の反射型液晶ディスプレイ装置で
は、電極表面に微細凹凸形状が形成されているので、観
察側液晶ディスプレイ装置外部の物体の像が電極面で鏡
面反射することがないため、外部物体の映し込みが少な
く映像の視認性を優れたものとすることができる。ま
た、本発明の反射型液晶ディスプレイ装置の製造方法に
よれば、このような視認性が優れた液晶ディスプレイ装
置を容易に製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の態様の反射型液晶ディスプレ
イ装置を示す図である。

【図２】本発明の第２の態様の反射型液晶ディスプレ
イ装置を示す図である。

【図３】本発明の第１の態様の反射型液晶ディスプレ
イ装置の製造工程を説明する図である。

【図４】本発明の第２の態様の反射型液晶ディスプレ
イ装置の製造工程を説明する図である。

【図５】本発明の第２の態様の反射型液晶ディスプレ
イ装置のコンタクトホール部を示す図である。

【図６】本発明の第２の態様の反射型液晶ディスプレ
イ装置のコンタクトホール部を示す斜視図である。

【図７】すりガラス表面を触針式表面形状測定機で実
測した結果を示す図である。

【図８】従来のモノクロ反射型液晶ディスプレイ装置
の構造を示す図である。

【図９】ＴＦＴ素子を使用した従来のモノクロ反射型
液晶ディスプレイ装置の構造を示す図である。

【符号の説明】

１０，２０液晶ディスプレイ装置１０ａ，１０ｂ，２０ａ，２０ｂ基板１１，２１ＴＦＴ素子１２ポジ型感光性樹脂層または絶縁層１２ｍ微細凹凸形状１３ａ，１３ｂ，２３ａ，２３ｂ電極１４ａ，１４ｂ，２４ａ，２４ｂ配向膜１５，２５液晶層１６，２６封止材料１７フォトマスク１８微細凹凸形状を有する平面的な光透過性材料１９光源３０コンタクトホール１１１ゲート電極１１２ＳｉＮ_Xからなる絶縁層１１３アモルファスシリコン半導体層１１５ドレイン電極１１６ソース電極

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】平滑な基板上に光反射性の電極を有する
反射型液晶ディスプレイ装置において、当該電極が微細
凹凸形状を有する絶縁性樹脂層上に光反射性金属を積層
して形成されていることを特徴とする反射型液晶ディス
プレイ装置。
【請求項２】ＴＦＴ素子が形成された基板上に光反射
性の電極を有する反射型液晶ディスプレイ装置におい
て、当該電極が微細凹凸形状を有する絶縁性樹脂層上に
光反射性金属を積層して形成されていることを特徴とす
る反射型液晶ディスプレイ装置。
【請求項３】微細凹凸形状の山と谷の高低差が、１０
μｍ〜０．４μｍの範囲内のものであることを特徴とす
る請求項１および請求項２記載の反射型液晶ディスプレ
イ装置。
【請求項４】平滑な基板上に光反射性の電極を有する
反射型液晶ディスプレイ装置の製造方法において、基板
上に絶縁性を有する感光性樹脂層を形成する工程と、乾
燥後の当該感光性樹脂層に微細凹凸形状を有する光透過
性材料を介して光露光する工程と、当該光露光後の感光
性樹脂層を現像処理して乾燥し、表面に微細凹凸形状を
有する絶縁性樹脂層を形成する工程と、当該微細凹凸形
状を有する絶縁性樹脂層上に光反射性金属を積層する工
程と、を含むことを特徴とする反射型液晶ディスプレイ
装置の製造方法。
【請求項５】ＴＦＴ素子が形成された基板上に光反射
性の電極を有する反射型液晶ディスプレイ装置の製造方
法において、基板上に絶縁性を有する感光性樹脂層を形
成する工程と、乾燥後の当該感光性樹脂層に微細凹凸形
状を有する光透過性材料を介して光露光する工程と、コ
ンタクトホールのパターンを有するフォトマスクを用い
て光露光する工程と、当該光露光後の感光性樹脂層を現
像処理して乾燥し、表面に微細凹凸形状を有する絶縁性
樹脂層を形成する工程と、当該微細凹凸形状を有する絶
縁性樹脂層上に光反射性金属を積層する工程と、を含む
ことを特徴とする反射型液晶ディスプレイ装置の製造方
法。
【請求項６】微細凹凸形状を有する光透過性材料がす
りガラスであることを特徴とする請求項４および請求項
５記載の反射型液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項７】微細凹凸形状の山と谷の高低差が、１０
μｍ〜０．４μｍの範囲内のものであることを特徴とす
る請求項４から請求項６記載の反射型液晶ディスプレイ
装置の製造方法。