JP4258489B2 - エッチング液の製造方法およびエッチング方法 - Google Patents
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本発明のエッチング液は、少なくとも、弗酸、硝酸およびヘキサフルオロ珪酸を含む溶液である。ヘキサフルオロ珪酸の濃度は、特に制限されず、上記以外の成分の使用を考慮して適宜決定される。そして、酢酸や燐酸を実質的に使用しないか、または、その使用量が著しく少ないことを特徴とするエッチング液の場合、ヘキサフルオロ珪酸の濃度の下限は、次の通りである。
ポリエチレン製のエッチング槽を使用し、室温の混酸液を循環しながら使用する。エッチング槽に直径125mmのラッピング処理後のシリコンウェハ1枚を静かに浸漬し、通常30秒から3分経過後に、シリコンウエハを引き上げる。引き上げられたシリコンウエハを水洗し、エッチング終了とする。
エッチングの前後のシリコンウエハの重量差をエッチング量とし、エッチング量をシリコンウエハの混酸液への浸漬時間で除して求める。
本発明のエッチング液は、弗酸、硝酸および珪素化合物を反応させて製造することが出来る。
本発明のエッチング液は、シリコンウエハ、GaAsウエハ、GaPウエハ、InPウエハ等のエッチングに使用することが出来、特にシリコンウエハのエッチングに好適に使用される。
本発明のエッチング液は、特にシリコン基板および/またはシリコン薄膜を構成要素とする半導体装置の製造で使用した場合、正確なエッチングプロセスを再現し、精度良く且つ工業的に安定して微細な回路製造を行えるという効果を発揮する。例えば、シリコン基板上にシリコン酸化膜を成長させた後にフォトリソグラフィ工程や現像工程などの操作により回路を形成する半導体装置の製造工程中、特に下地に残っているシリコン酸化膜の除去、または、ウエハ上に付着した金属などの不純物除去を目的としたエッチング等の工程において、本発明のエッチング液を使用したエッチングプロセスは、使用目的に合致した種々のエッチング速度が得られるという工業的に極めて優れた効果を奏する。
エッチング液製造装置は図1に示したのと同様の装置を使用した。吸収塔(1)の直径は100mm、高さは1000mm、調製タンク(3)は20Lである。組成の分析については次の様に行った。すなわち、本発明で製造した弗酸/硝酸/ヘキサフルオロ珪酸のエッチング液4mlを脱炭酸水100mlと混合して滴定試料溶液を調製し、この滴定試料溶液2mlとアセトン70mlとを混合し、フッ素樹脂被覆回転子を投入後、非水中和滴定装置(三菱化学社製、商品名「GT−07」)を使用し、窒素ガスを流しながら1/10NaOHエタノール標準液を使用して滴定した。滴定結果として、硝酸、ヘキサフルオロ珪酸、弗酸および酢酸などの当量点に対応する三つの変曲点を得、これから濃度を導いた。
20Lの攪拌機付き調製用タンクに発煙硝酸(98重量%硝酸水溶液)4870gと工業用弗酸(50重量%水溶液)3490gを仕込み、混合後、珪素180gを添加し、溶解させた。次いで、水560gと酢酸900gを追加し、表1に示す組成の本発明のエッチング液を得た。組成分析は実施例1と同様に行った。表1に示す組成中、表示成分以外は水である。エッチング液の評価結果を表1に示す。
安定性とはエッチング開始から終了までのエッチング速度の安定性を示し、安定しているとはエッチング速度がエッチング開始から終了までほぼ一定に行われることを示す。その評価基準は以下の表2に示す通りである。
2:冷却器
3:調製タンク
4:循環ポンプ
5:弗酸ボンベ
6:ラシヒリング
Claims (8)
- 少なくとも、弗酸、硝酸およびヘキサフルオロ珪酸を含むエッチング液の製造方法であって、弗化水素ガスを使用し、しかも、吸収塔(1)と調製タンク(3)とが配置され、吸収塔(1)と調製タンク(3)とは循環配管で連結され、循環配管の途中には冷却器(2)と循環ポンプ(4)とが配置され、吸収塔(1)の下方には弗化水素ガスの供給配管が導入されている、エッチング液の製造設備を使用し、調製タンク(3)に収容された硝酸を、循環ポンプ(4)によって吸収塔(1)の上部から導入し、弗化水素ガスを、吸収塔(1)の下部から導入することにより、混酸液を得、当該混酸液と硅素化合物とを反応させることを特徴とするエッチング液の製造方法。
- エッチング液中のヘキサフルオロ珪酸の濃度が40重量%以下である請求項1に記載のエッチング液の製造方法。
- エッチング液中の弗酸の濃度が1〜20重量%である請求項1又は2に記載のエッチング液の製造方法。
- エッチング液中の硝酸の濃度が20〜60重量%である請求項1〜3の何れかに記載のエッチング液の製造方法。
- 更に酢酸を含有する請求項1〜4の何れかに記載のエッチング液の製造方法。
- エッチング液中の酢酸の濃度が0.01〜15重量%である請求項5に記載のエッチング液の製造方法。
- エッチング液がシリコン基板のエッチング用である請求項1〜6に記載のエッチング液の製造方法。
- 少なくとも、弗酸、硝酸およびヘキサフルオロ珪酸を含むエッチング液を調製し、当該エッチング液を使用してシリコン基板のエッチングを行うエッチング方法であって、エッチング液を調製する際に、弗化水素ガスを使用し、しかも、吸収塔(1)と調製タンク(3)とが配置され、吸収塔(1)と調製タンク(3)とは循環配管で連結され、循環配管の途中には冷却器(2)と循環ポンプ(4)とが配置され、吸収塔(1)の下方には弗化水素ガスの供給配管が導入されている、エッチング液の製造設備を使用し、調製タンク(3)に収容された硝酸を、循環ポンプ(4)によって吸収塔(1)の上部から導入し、弗化水素ガスを、吸収塔(1)の下部から導入することにより、混酸液を得、当該混酸液と硅素化合物とを反応させることを特徴とするエッチング方法。
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