JP4253028B2 - 液体アクチュエータ - Google Patents
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Description
(1) 液体を保持する電解質層の両側もしくは片側に電気的に離間した2つ以上の電極部を設け、少なくとも1つの電極部外側表面上にポーラス構造を有する撥水層を設けた構造体とし、前記撥水層を設けた電極部を含む複数の電極部間に電圧を印加し、該印加電圧を調節して前記構造体表面の濡れ性を変化させることを特徴とする液体アクチュエータ。
(2) 前記電解質層の両側にそれぞれ1つ以上の電極部を設け、その両側の電極部間に電圧を印加することを特徴とする(1)記載の液体アクチュエータ。
(3) 前記電解質層の片側に互いに離間した2つ以上の電極部を設け、その片側で離間した電極部間に電圧を印加することを特徴とする(1)記載の液体アクチュエータ。
(4) 前記電極部間に印加する電圧を調節して、前記構造体内部の液体を前記撥水層表面に浸透滲出させて該構造体表面の濡れ性を高め、または前記撥水層表面の液体を構造体内部に浸透吸収して該構造体表面の濡れ性を低下させることを特徴とする(1)〜(3)のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
(5) 前記電極部間に印加する電圧を調節して、該電極部周辺の液体を電気分解し気体を発生させ、該気体を前記撥水層表面に誘導して前記構造体表面の濡れ性を低下させることを特徴とする(1)〜(4)のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
(6) 前記構造体の撥水層の表面の濡れ性を可逆的に変化させることを特徴とする(1)〜(5)のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
(7) 前記電極部間に印加する電圧を−1.229〜1.229Vの範囲で調節することにより前記撥水層表面の液体滲出量もしくは液体吸収量を増減させ、または−1.229未満または1.229Vを超える電圧の範囲で調節することにより前記撥水層表面に誘導する気体量を増減させて前記構造体表面の濡れ性を変化させることを特徴とする(5)または(6)記載の液体アクチュエータ。
(8) 前記電解質が、有機電解質、無機電解質、またはそれらを組み合わせた電解質であることを特徴とする(1)〜(7)のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
(9) 前記電解質が、スルホン酸基、カルボキシル基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、4級アンモニウム基、3級アミノ基、2級アミノ基、および1級アミノ基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基を有する高分子電解質であることを特徴とする(1)〜(8)のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
(10) 前記撥水層が、パラフィン系撥水剤、フッ素系撥水剤、およびシリコン系撥水剤からなる群から選ばれる少なくとも1つの撥水剤を含有することを特徴とする(1)〜(9)のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
(11) 前記電極部が金、白金、銅、カーボン、またはそれらを組み合わせて形成した電極部であることを特徴とする(1)〜(10)のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
(12) 前記電解質層を挟んで前記撥水層の反対側に保液層を設けたことを特徴とする(1)〜(11)のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
(13) 前記撥水層表面上に液滴を形成したときの液滴接触角を90〜150°の範囲で変化させることを特徴とする(1)〜(12)のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
(14) (1)〜(13)のいずれか1項に記載の液体アクチュエータを用いた液体流通制御アクチュエータであって、その撥水層を液体流路内側に向けて設け、前記電極部間に印加する電圧の調節により、前記構造体表面の濡れ性を低下させて液体の侵入を妨げ前記流路中の液体流通を遮断し、前記構造体表面の濡れ性を高めて液体流通を開放することを特徴とする液体流通制御アクチュエータ。
(15) 前記流路が筒状流路または溝形状流路であることを特徴とする(14)記載の液体流通制御アクチュエータ。
(16) (1)〜(13)のいずれか1項に記載の液体アクチュエータの複数を独立して設置し、前記撥水層表面の濡れ性を設置した領域ごとに独立に変化させて、または
前記液体アクチュエータの前記電極部を複数の領域に分割し、該複数の電極部表面上に撥水層を設け、該撥水層表面の濡れ性を分割した領域ごとに独立に変化させて、
所望の領域に目的量の液体を凝集させることを特徴とする液体形成制御アクチュエータ。
(17) (16)記載の液体形成制御アクチュエータの前記領域をそれぞれ独立して制御可能に配置したことを特徴とする液体分布制御アクチュエータ。
(18) (16)記載の液体形成制御アクチュエータを基板上に所定の配列で設置したことを特徴とする液体分布制御アクチュエータ。
(19) (16)記載の液体形成制御アクチュエータを用いて、所定の領域分布に液体を形成することを特徴とする液体分布制御アクチュエータ。
(20) 液体を保持した電解質層の両側もしくは片側に電気的に離間した2つ以上の電極部を設け、少なくとも1つの電極部外側表面上にポーラス構造を有する撥水層を設けた構造体とし、前記撥水層を設けた電極部を含む複数の電極部間に電圧を印加し、該印加電圧を調節して前記構造体表面の液体量を変化させることを特徴とする液体アクチュエータ。
(21) 前記電極部間に印加する電圧を調節して、前記構造体内部の液体を前記撥水層表面に浸透滲出させて該構造体表面上の液量を増加させ、または前記撥水層表面上の液体を浸透吸収し該構造体表面上の液量を減少させることを特徴とする(20)記載の液体アクチュエータ。
(22) 前記電極部間に印加する電圧を調節して、該電極部周辺の液体を電気分解し気体として揮散させ該構造体表面上の液量を減少させることを特徴とする(20)または(21)記載の液体アクチュエータ。
(23) 前記構造体表面上の液量の増減を可逆的に行うことを特徴とする(20)〜(22)のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
(24) 前記電解質が、有機電解質、無機電解質、またはそれらを組み合わせた電解質であることを特徴とする(20)〜(23)のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
(25) 前記電解質が、スルホン酸基、カルボキシル基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、4級アンモニウム基、3級アミノ基、2級アミノ基、および1級アミノ基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基を有する高分子電解質であることを特徴とする(20)〜(24)のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
(26) 前記撥水層が、パラフィン系撥水剤、フッ素系撥水剤、およびシリコン系撥水剤からなる群から選ばれる少なくとも1つの撥水剤を含有することを特徴とする(20)〜(25)のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
(27) 前記電極部が金、白金、銅、カーボン、またはそれらを組み合わせて形成した電極部であることを特徴とする(20)〜(26)のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
(28) 液体分を含む電解質層の両側もしくは片側に電気的に離間した2つ以上の電極部を設け、少なくとも1つの電極部外側表面にポーラス構造を有する撥水層を設けた構造体とし、前記撥水層を設けた電極部を含む複数の電極部間に電圧を印加し、該印加電圧を調節して前記構造体表面上に形成した液体の流動性を変化させることを特徴とする液体アクチュエータ。
(29) 前記電極部間に印加する電圧を調節して、前記構造体中の液体分を前記撥水層表面に浸透滲出して前記構造体表面上に形成した液体を非流動化し、前記撥水層表面の液体分を浸透吸収して前記構造体表面上に形成した液体を流動化することを特徴とする(28)記載の液体アクチュエータ。
(30) 前記電極部間に印加する電圧を調節して、前記電極部周辺の液体を電気分解して発生した気体を前記撥水層表面に誘導し、該気体の圧力により前記構造体表面上に形成した液体を押し上げ流動化することを特徴とする(28)または(29)記載の液体アクチュエータ。
(31) 前記液体流動性を可逆的に変化させることを特徴とする(28)〜(30)のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
(32) 前記電解質が、有機電解質、無機電解質、またはそれらを組み合わせた電解質であることを特徴とする(28)〜(31)のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
(33) 前記電解質が、スルホン酸基、カルボキシル基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、4級アンモニウム基、3級アミノ基、2級アミノ基、および1級アミノ基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基を有する高分子電解質であることを特徴とする(28)〜(32)のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
(34) 前記撥水層が、パラフィン系撥水剤、フッ素系撥水剤、およびシリコン系撥水剤からなる群から選ばれる少なくとも1つの撥水剤を含有することを特徴とする(28)〜(33)のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
(35) 前記電極部が金、白金、銅、カーボン、またはそれらを組み合わせて形成した電極部であることを特徴とする(28)〜(34)のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
(36) 前記撥水層表面に液滴を形成したときの液滴接触角を90〜150°の範囲で変化させて液体流動性を制御することを特徴とする(28)〜(35)のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
(37) (28)〜(36)のいずれか1項に記載の液体アクチュエータを用いた液滴混合アクチュエータであって、電圧の印加により前記構造体表面上で非流動化した複数の液滴を、電圧の調節により流動化して、互いを接触混合させることを特徴とする液滴混合アクチュエータ。
(38) 前記液滴が装置外部から供給形成された液滴であることを特徴とする(37)記載の液滴混合アクチュエータ。
(39) 前記撥水層が透水性を有することを特徴とする(1)記載の液体アクチュエータ。
(40) 前記撥水層が透水性を有することを特徴とする(20)記載の液体アクチュエータ。
(41) 前記撥水層が透水性を有することを特徴とする(28)記載の液体アクチュエータ。
12 撥水層(多孔質層)
14 電解質層(高分子ポンプ層)
15 保液層(保水層)
13a 電極部(撥水層側)
13b 電極部(保液層側)
16 基板
17 端子
18 電源
111 液体(液滴)
112 撥水層(多孔質層)
114 電解質層(高分子ポンプ層)
113a 電極部
113b 電極部
116 基板
117 端子
118 電源
21 液滴
22 撥水層
22a 撥水層表面の凸部(表面粗さ)
22b 撥水層表面の凹部(表面粗さ)
23 電解質層
24 液体分子(水分子)
25a 電極部
25b 電極部
A 液体(水)の流れの向き(撥水層方向)
B 液体(水)の流れの向き(複合材方向)
26 気体分子(水素分子)
27 気体分子(酸素分子)
C、D 気体の揮散方向
30 液滴混合アクチュエータ
31a 液滴
31b 液滴
31c 接触混合した液滴
32、33、34 濡れ性制御面
35 気体
40 液体形成制御アクチュエータ
41 基板
42 液体アクチュエータ(液滴を凝集させたくない位置)
43 液体アクチュエータ(液滴を凝集させたい位置)
44 液滴が不要な領域に凝集した液滴
46 液滴を留めたい領域に凝集した液滴
51 隔壁(筒状流路)
52 液体
53 液体流通制御アクチュエータ(フローバルブ)
54a 泡(素子上に止められた泡)
54b 泡(流された泡)
55 液体の流れる方向
61 基材(壁部)
62 液体
63 液体流通制御アクチュエータ(フローバルブ)
64a 泡(素子上に止められた泡)
64b 泡(流された泡)
65 液体の流れる方向
91 液滴
92 固体表面
92a 表面の凸部(表面粗さ)
92b 表面の凹部(表面粗さ)
有機電界質としては、スルホン酸基、カルボキシル基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、4級アンモニウム基、3級アミノ基、2級アミノ基、1級アミノ基などを有する有機電解質が挙げられ、それらの基の1つまたは複数を有する高分子電解質が好ましい。なかでもスルホン基、カルボキシル基を有する高分子電解質が好ましく、具体的には例えば、パーフルオロスルホン膜(例えば、ナフィオン(商品名)デュポン社製)などが挙げられる。
無機電解質としては、例えば、リチウム、リン、硫黄などで構成された電解質、無機プロトン導電性酸化物粒子(例えば、水和酸化アンチモン(Sb2O5・nH2O))からなる電解質、またはそれと無機マトリックス(例えば、酸化ジルコニウム(ZrO2)、シリカ(SiO2)、チタニア(TiO2)、アルミナ(Al2O3))成分とからなる電解質などが挙げられる。
さらに無機系と有機系の混合電解質としては、例えば、有機電解質層と無機電解質層との間を、イオン交換体からなるバインダで結合した有機無機混合電解質、多環式芳香族スルホン酸でできた無定形のカーボン材料で芳香族炭化水素を熱濃硫酸で処理した後炭化することによって得られる固体酸を用いた電解質などが挙げられる。
電解質の大きさや形状に、特に制限はないが、平板状のときは、縦横100mm程度が好ましく、厚さは200μm以下が好ましい。平板状以外の形状とするときは、例えば、円筒状、目的の形状にあわせた型取り形状のものなどを用いてもよい。
電極部は電解質層の両側もしくは片側に設けられ、ポーラス構造であることが好ましい。さらにその形態を詳しくいえば、例えば、撥水層に浸透滲出、浸透吸収させる液体、またはそこに発生させる気体分子が通過可能であり、かつ電極としての導電性を確保できる形態が好ましい。ただし、電極表面に十分に水が供給される場合は、必ずしもポーラスである必要はない。そのため具体的な電極状態は、電解質膜の面形状に沿って被覆された状態であっても、ポーラス状の薄層膜であってもよい。このような形態の得られる形成方法であれば、その方法はとくに限定されないが、化学メッキ、金属薄膜の接着、スパッタリングなどの方法により形成することができる。また、ポーラス加工は、金属薄膜作製時に行うことも、金属薄膜作製後に行うことも可能とされる。さらに詳しく言えば、例えば、ポーラス加工にはナノインプリント加工やマスキング加工がある。
電極部の厚さに特に制限はないが、10μm以下が好ましい。
撥水剤としては、例えば、パラフィン系撥水剤、フッ素(樹脂)系撥水剤、シリコン(樹脂)系撥水剤、ビニル重合(樹脂)系撥水剤、ウレタン(樹脂)系撥水剤、ポリエチレン(樹脂)系撥水剤、アルキル尿素系撥水剤(アルキルエチレン尿素型撥水剤などを含む)、脂肪酸アミド(樹脂)系撥水剤、エポキシ(樹脂)系撥水剤、フェノール(樹脂)系撥水剤、ブチラール(樹脂)系撥水剤、アクリル(樹脂)系撥水剤、金属錯塩系撥水剤、ワックス系撥水剤(ワックスエマルジョン型撥水剤、アクリル樹脂パラフィンワックス併用型撥水剤、パラフィンワックス系エマルジョン型の撥水剤などを含む)を用いた撥水剤などが挙げられ、なかでもフッ素系撥水剤、パラフィン系撥水剤、またはシリコン系撥水剤が好ましい。
撥水層の厚さに特に制限はないが、数μmが好ましい。撥水層はその内部にポーラス構造を有し、透水性を有するものであり、例えば直径10〜100μmの微細な穴が多数存在し、穴は各々独立していることが好ましい。
保液層に保持される液体は特に限定されず、水性媒体(例えば、水、水に金属イオン、アンモニウムイオンなどを溶解したもの)、メタノール水溶液、エタノール水溶液などが挙げられ、またイオン液体のようにIPMC(Ion polymer and metal composite)等のアクチュエータの駆動可能な液体が利用される。保液層は電極に接着されていることが好ましく、例えば、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤などにより接着固定することができる。
一般に固体表面の濡れ性は水との接触角で区別され、親水性(接触角0°以上90°未満)、撥水性(接触角90°以上150°未満)、さらに超撥水性(接触角150°以上)に区別されている。接触角が150°以上の超撥水性は、固体表面にフラクタル形状の粗さを付与するなどして撥水性を高めることで初めて実現される。
粗さを備えた固体表面の濡れ性は2つの状態をとる。粗さにより生じる隙間に気体が入る状態(キャシー・ステート(Cassie−state))と液体が入る状態(ウエンツェル・ステート(Wenzel−state))とである。この2つの状態を図7に示す。図7中(a)はキャシー・ステートを、(b)はウエンツェル・ステートを模式的に示す部分断面図である。固体表面92には凸部92a、凹部92bが設けられ、固体表面の粗さを示しており、表面に一定の撥水性が付与されていることを示している。図7(a)では液滴91と固体表面92との隙間に気体が入りこんでいるが、図7(b)では隙間なく接触している。同一固体表面においても条件の違いによってキャシー・ステートとウエンツェル・ステートとの双方が発現することがあり、またキャシー・ステートからウエンツェル・ステートへの遷移が起こることもある。
さらにウエンツェル・ステートではキャシー・ステートに比較して液滴が転がり難く、また接触角ヒステリシスが大きくなる。これはウエンツェル・ステートでは固体表面の粗さが液滴移動の障害となりキャシー・ステートでは隙間の気体がクッションになるためであると考えられる。これらの状態を接触角ヒステリシスでいうと、ウエンツェル・ステートは、接触角ヒステリシスが大きい状態、キャシー・ステートは接触角ヒステリシスが低い状態にあたる。例えば、ウエンツェル・ステートは、接触角ヒステリシスが90°以上、キャシー・ステートは90°未満となる。接触角ヒステリシスとは液滴を固定した試料を傾斜させ、液滴が滑り始める時に止め、そのときの前進接触角と後退接触角との差を求めたものである。
まず汚れのない平滑面における濡れ性はヤングの式で記述される。
cosθ=(νsv−νsl)/νlv ・・・数式(1)
θは接触角、νsv、νsl、νlvは気体−固体、固体−液体、液体−気体の単位面積当たりの自由エネルギーである。また粗さのある表面の濡れ性は、ウエンツェルの式で記述される。
cosθ’=r(νsv−νsl)/νlv =r cosθ ・・・数式(2)
θ’とθとは粗さのない面と粗さのある面との接触角であり、r は表面粗さにより大きくなった表面積を見かけの表面積で割った面積比である。さらに隙間に空気が入った表面の濡れ性はキャシーの式で記述される。
cosθ’=f1 cosθ1+(1−f1)cosπ
=f1 cosθ1+(1−f1) ・・・数式(3)
θ1は粗さのない面での接触角であり、f1は液体との界面での固体の面積分率である。
cosθ’=r r’(νsv−νsl)/νlv
+r (1−r’)(ν’sv−ν’sl)/ν’lv ・・・数式(4)
ν’sv、ν’sl、ν’lvは基材における気体−固体、固体−液体、液体−気体の単位面積当たりの自由エネルギーである。r’は基材と親水性コート(層)の表面積比である。
本発明の液体アクチュエータは、電解質層の両側もしくは片側に電極部を電気的に離間して設けたものである(本発明において、「電気的に離間」とは、例えば乾燥状態における抵抗値で定められる。通常、高分子電解質上に形成された電極部間の抵抗値は乾燥状態で、幅1cm長さ1cmあたり、数Ωから数十Ωである。本発明において、電気的に離間とは、例えば該条件で数kΩ以上の抵抗値となることをいい、該条件で数MΩ以上であることが好ましい。例えば高分子電解質をナフィオン(商品名、デュポン社製)として、化学的処理で白金粒子をナフィオン(商品名、デュポン社製)内に還元して生成させる場合、白金粒子は表面から数マイクロメートル程度の深さに多数存在する(通常ほぼ20マイクロメートル以内に収まる。)。そのため、電気的な離間状態は、表面から数十マイクロメートルの深さの溝を形成することで作製することができる。例えばレーザを用いて表面のみを焼ききることで実現される。このとき抵抗値が目的の値にまで増大すればよく、幅は例えば数マイクロメートルでよい。)。2つ以上の電極部を設け、その少なくとも2つに電圧を印加するとき、各電極部の配置は特に限定されない。以下、電極部の配置の異なる2つの好ましい態様について詳しく説明する。
この態様の液体アクチュエータとして、例えば図1−1に示した液体アクチュエータが挙げられる。図1−1の態様においては、電極部13a及び13bが電解質層14の両面に配置されている。そして電極部13aの外側表面には撥水層12が設けられ、その表面の液滴11の濡れ性や液滴量などが制御される。電極部13bの外側表面には保水層15が設けられ、さらにその外側に基板16が設けられている。電極部13a及び電極部13bは端子17により直流電源18に接続されている。このとき電極部13a及び13bを電解質層14の全面に設けず、各面の一部に設け、両電極を対向する位置からずらして配置してもよい。図1−1に示した液体アクチュエータの態様のように、2つの電極(13a、13b)を電解質層14の両面に設けることで、電解質層14中のイオンや溶媒の移動路の断面積を大きくとることが可能である。さらに、移動距離も電解質層14の厚さに応じて短くすることが可能である。それにより、例えばイオン伝導率の低い素材を電解質層14として利用することもでき、電解質層14の材料選択の幅を広げることができる。
この態様の液体アクチュエータとして、例えば図1−2に示した液体アクチュエータが挙げられる。図1−2の態様においては、電解質層114の片面のみに電極部113a及び113bを配置し、それらの電極部は複数(図示した液体アクチュエータでは2つ)に分割され電気的に離間されている。そして電極部113aの外側表面には撥水層112が設けられ、その表面の液滴111の濡れ性や液滴量などが制御される。電解質層114の電極部と反対側には基板116が設けられている(このとき電解質層114と基板116の間にさらに電極層(もしくは電極部)、保水層などを設けてもよい)。電極部113a及び電極部113bは端子117により直流電源118に接続されている。このように、電解質層114の同一面上に2つの電極部(113a、113b)を形成し、一方の電極を陽極とし、他方の電極を陰極とすることができる。
さらに同一極に電圧を印加しつづけたときであっても、態様(B)の場合にはイオンや溶媒の移動が電解質層の片面(図1−2の液体アクチュエータでは電解質層114の電極113a側の面)に集中して、もう一方の面(図1−2の液体アクチュエータでは電解質層114の基板116側の面)でそれらの移動量が減少する。このことは図1−2の液体アクチュエータでいえば、電解質層114の下面(基板116と接する面)でのひずみの発生が抑えられることを示している。さらに、電解質層を厚くすれば、電解質層114の上面のみを変形させ、電解質層114の下面付近にひずみのバッファ機能を果たさせることも可能である。すなわち、本態様の液体アクチュエータによれば、電解質層114とデバイス基材116(必要に応じて電極層、保水層など)との界面の剥離要因を軽減することができる。これにより電解質の選択肢を増加させ、また複数回動作時のデバイス信頼性を向上させることができる。
ここで、図2によりその可逆遷移のメカニズムについて説明する。図2は本発明の液体アクチュエータの一態様を模式的に示した拡大部分断面図である(ここでは、陽イオン交換樹脂を用いたものについて説明するが、本発明はこれに限られるものではない。また装置の各構成部材の大きさは図面により限定されるものではない)。図2(a)は撥水層側の電極電位が反対電極に対して低い状態を示し(以下、特に断らない限り、この状態を負電圧という。)、この表面の濡れ性を高めている(本発明において、濡れ性を高めるとは、接触角ヒステリシスが大きくなる方向に変化させることをいい、90°以上に変化させることが好ましい。またこのことを親水性表面化、液体の非流動化などともいう。)。図2(a)では撥水層22側の電極部25aに負電圧を印加したときの状態を示し、図2(b)は電極部25aに正電圧を印加したときの状態を示している。撥水層表面には粗さが付与されており、その隙間に液体がない状態で撥水性(好ましくはキャシー・ステートまたはホバード・ステート)を示す程度の凸凹が付されていることが好ましい。図中の凸部22a及び凹部22bは表面粗さを模式的に示している。ここで電極部25a及び25bは電解質層23の両側の表面に設けられている(なお、保水層や基板などをさらに設けてもよいが、図2のものではこれらを図示してはいない。)。図2(a)に示すように、電解質層23の撥水層22側の電極部25aに比較的低い負電圧を印加すると(高い電圧を与える場合については後述する。)、内部の水24が電圧に応じて撥水層方向Aに移動する。水24は撥水層22を通じその表面に滲出し表面に形成された液滴21を引き寄せる。このようにして撥水層表面の濡れ性を高めることができる。
上述のように、撥水層表面の濡れ性を変化させて、それに接する液体の(例えば、液滴、液体流体など)の移動を制御することが可能であり、外部力を用いれば駆動制御することも可能である。
装置内の電気抵抗ロスを考慮する場合、採用する回路により異なるが、電源における電圧を−4.5V〜4.5Vの間で水分量を変化させ(好ましくは、親水性表面化し)、−4.5V未満または4.5Vを超える電圧で疎水性表面化することが好ましく、さらに好ましくは、−2V〜2Vの間で水分量を変化させ(好ましくは、親水性表面化し)、−2V未満または2Vを超える電圧で疎水性表面化することが好ましい。
電極に印加する電圧による水の移動は、例えば、高分子電解質の両面に金属電極を配した複合材料(IPMC)表面の色が変わることから目視でも確認することができる。また前述のように、ポンピングによりIPMCは自らの形状を変化させる場合があり、例えばアクチュエータとして利用する場合は、ガラス板に取り付けるなどして形状変化を防止してもよい。
撥水層表面で制御する液体も水に限られるものではなく、濡れ性の変化を与えられるものであればよく、水性媒体(例えば、水、水に金属イオン、アンモニウムイオンなどを溶解したもの)、メタノール水溶液、エタノール水溶液、細胞培養液、分散液などが挙げられる。また撥水層表面で制御する液体の状態にとくに制限はなく、静止した液体、液体流体、液滴などを制御してもよい。液滴を形成して制御する場合、その量は目的に応じて適宜決めることができるが、体積に対して表面が占める割合の大きい微少量が望ましい。例えば、1μl以下が好ましく、1nl以下がより好ましい。
図3(a)は2つの液滴を形成固定した状態を模式的に正面図で示し、図3(b)はそれを平面図で示している。図3(c)は液滴を接触混合した後の状態を模式的に正面図で示し、図3(d)はそれを平面図で示している。図3(a)において、液滴制御領域は、領域32、領域33、領域34の3つの領域に分けられ、両端の領域32および34は、例えば5〜10°の角度で傾けられている。ここで中央の領域33は水平に設置されている(このとき領域32〜34の表面濡れ性を本発明の液体アクチュエータにより制御することができ、制御された領域の表面を「濡れ性制御面」ということもある。)。
図3(a)または(b)は初期状態を示しており、濡れ性制御面32および34をピンド・ステートとし、液滴31a(例えば溶液Aを成分とする液滴)および31b(例えば溶液Bを成分とする液滴)がそれぞれ形成固定されている。濡れ性制御面33はホバード・ステートとしている。この状態から、濡れ性を逆に変化させ、具体的には電圧を調節して各濡れ性制御面を逆の状態にして、接触混合させることができる。
接触混合するとき、例えば、図3(c)、図3(d)に示すように、両側に配置した濡れ性制御面32、34をホバード・ステートにし、中央の面33をピンド・ステートにして、領域32および34上で発生する気体35により液滴31a、31bを押し上げ流動化し、2つの液滴を中央に寄せ付け接触、混合した液滴31c(例えば、AとBの混合溶液を成分とする液滴)とすることができる(図3(c)中、外部に揮散した気体を説明上、模式的に符号をつけて示している)。
次に、別の好ましい態様を挙げると、例えば液滴31aを溶液Aを成分とする液滴とし、液滴31bを水滴とする。これらを上記と同様にして接触混合して、溶液Aを水で希釈した液滴31cとすることができる。
上述の本発明の液滴混合アクチュエータおよびその方法によれば、任意のタイミングで、非接触で液滴を混合することができる。例えば培地に任意のタイミングで薬剤を追加することが可能である。また、液滴が微小なときでも混合を精度よく行うことができる。
この態様では、3つの面を異なる角度に配置したが、1つの制御面でまたは複数の制御面を用いて、2以上の液体の混合を行ってもよい。また傾斜は、液滴の移動を促すものであり、その他の手段(例えば、底面部の濡れ性変化、圧力、風力)により駆動力を得てもよい。
本発明の液滴混合アクチュエータ30においては、複数の表面(領域)を濡れ性(もしくは液滴流動性)の異なる状態にすることで液滴混合が可能となる。このために各表面領域を異なる複合材装置を組み合わせて構成してもよく、1つの複合材装置において電極を分割して印加の状態を各領域で変化させてもよい。
上述のようにして製造した液体形成制御アクチュエータ40を、液滴が凝集しうる環境下に設置させることで、目的の位置に、目的の液滴量を得ることができる。具体的には例えば、高湿度下(好ましくは過飽和状態)におくことが好ましい。図4(a)は設置直後、液体の凝集前の状態を模式的に示す断面図である。液滴が不要の領域42はホバード・ステートとし、液滴を溜めたい領域43をピンド・ステートとすることで、領域43の表面に選択的に液滴を凝集形成することができる。このとき図4(b)に示すように、液滴44が不要の領域42に凝集しはじめた場合でも、電気分解によってこれを消失させることができる。一方、図4(c)のように液滴46が濡れ性制御表面43の上に凝集した場合、その表面をビデオなどで監視しながら適宜電気分解で量や分布を調節することができる。また、形成する液滴量は、体積に対して表面が占める割合の大きい微少量が望ましい。例えば、1μl以下が好ましく、1nl以下がより好ましい。
このようにして、液滴を非接触状態で制御して形成することにより、例えば複数の液滴を排出とするときにも独立して行えるため相互汚染が生じず、またピペットなどを用いないので、ピペットの介在で汚染が生じるなどの問題を解決することができる。また従来の方法では困難なほど微小な液滴についても、本発明の液滴形成アクチュエータによれば精度良く液滴形成を行うことができ、制御の精度を高めることができる。
本発明の液体アクチュエータは、例えば図5に示すような液体流通制御アクチュエータとすることができる。図5おいては、液体アクチュエータよりなる液体流通アクチュエータ53を筒状流路に設置し、フローバルブとしたものである。図5(a)は筒状に構成した流路に泡54aを生じさせバルブを締めた状態を模式的に示す部分平断面図である。この状態でアクチュエータ53の濡れ性制御面はホバード・ステートにされており、その前後の液体は排除され、液体の流通を遮断することができる。図5(b)ではアクチュエータ53の濡れ性制御面をピンド・ステートに変えた状態を模式的に断面図により示している。ここでは液体が該表面に引き込まれ、泡とパイプの結合が弱まり、泡54bが流通方向55に流れ出している。これによりバルブを開放させるものである。パイプ形状は、円筒、直方体形状のほか、一面が開放された形状、例えば溝形状でも良い。
液体52は、撥水層表面で制御する液体で説明したものと同様であり、好ましい範囲も同義である。流路のサイズに特に制限はないが、大きくすることも小さくすることも可能であり、例えば、ガラス基板に形成が容易なサイズ直径10mm以下、あるいはマイクロケミカルの分野で多く利用されるサイズ直径1mm以下とすることができる。上述のアクチュエータおよび方法を用いることにより、少量の部品点数でバルブを構成することができる。
従来のフローバルブは機械的に流通を遮断するものであり、その構造は複雑でありコストのかかるものであり、微細化にも適していない。とくに微細化すると、流路の開閉の問題だけではなく、流路壁との表面張力により流通の制御に支障を生じる場合がある。本発明の液体流通制御アクチュエータによれば、これらの問題を解決し、優れたフローバルブとして用いることができる。
(実施例1)
図1−1に示した構成に従って、縦40mm、横15mm、厚さ178μmのナフィオン117(商品名、含フッ素イオン交換膜、デュポン社製)の両面に白金を厚さ3μm程度になるように化学めっきして付与した。得られた複合材料を16時間撥水剤(FS−1010:フロロテクノロジー社製)に含浸させた後、同撥水剤の乾燥と塗布とを5回繰り返し、多孔質の撥水層を形成した。
保水層には、縦40mm、横15mm、厚さ100μmのアクリル製の不織布を利用し、両面テープ(NW−R15S:ニチバン社製)を用いて片側の電極部表面に固定した。さらに保水層を、縦50mm、横20mm、厚さ2mmのガラス板上にSU接着剤(コニシ社製)により接着固定した。撥水層側の露出した電極部面、ならびにガラス板および保水層に穴(直径2mm)を開け、露出した電極部面に端子を接続し、電源(PA10−3A:ケンウッド社製)の正極および負極にそれぞれ接続して本発明の液体アクチュエータ(試験体1)とした。
この状態で撥水層表面に約15°の傾きを与えると、液滴が転落した。接触角ヒステリシスの変化と転落とから、電圧の変化に応じてピンド・ステートからホバード・ステートへと遷移したことが分かる。
接触角ヒステリシスの変化から、電圧の変化に応じてホバード・ステートからピンド・ステートへと遷移したことが分かる。
実施例1で作製した試験体1を3つ組み合わせ、図3の構成に従って、中央の試験体の撥水層面を水平に配置し、その両端の試験体の撥水層面は20°の傾きを与えて本発明の液滴混合アクチュエータ(試験体2)を作製する。両端の2つの撥水層面側について、電極が2Vとなるように電圧を2分間印加し、中央の撥水層両側の電極については、4.5Vになるよう電圧を2分間印加する。次いで、傾けた撥水層面の一方にスポイトを用いて、3%メタノール水溶液の液滴(直径2mm)を形成する。さらに他方の傾けた撥水層面にスポイトを用いて純水の液滴(直径2mm)を形成する。
その後、両端の傾きのある撥水層面の電極の電圧が4.5Vになるように印加電圧を変え、中央の試験体については、その撥水層両面の電極の電圧が2Vになるように印加電圧を変える。すると液滴は3分後に中央の試験体に転落し、2つの液滴は接触混合する。得られるメタノール混合溶液は均一な混合液となる。
縦100mm、横100mm、厚さ2mmのガラス板上に、縦50mm、横20mm、厚さ2mmのガラス板を配置し接着した。上面のガラス板の中央部に直径10mmの穴を開けた。この穴の部分に試験体1をガラス面と同じ高さとなるように取り付けて、本発明の液体形成制御アクチュエータ(試験体3)を作製した。
得られた試験体3を、温度25℃、過飽和に調整された試験室内にいれ、撥水層表面側の電極が2Vになるよう10分間電圧を印加した。すると撥水層表面に1μl以下の複数の液滴が分散して成長した。
その後、撥水層両側の電圧が4.5Vになるように電圧を変え、2分間電圧を印加した。すると撥水層表面の液滴は無くなった。
以下のようにして本発明の液体流通制御アクチュエータ(試験体4)を作製した。縦40mm、横115mm、厚さ178μmのナフィオン117(商品名、デュポン社製)の両面に白金を厚さ3μm程度になるように化学めっきして付与した。得られた複合材料を16時間撥水剤(FS−1010:フロロテクノロジー社製)に含浸させた後、同撥水剤の乾燥と塗布とを5回繰り返し、多孔質の撥水層を形成した。レーザ加工によって、表面電極の一部を消失させ、複合材料の中心部に直径10mmの電圧印加部を作製した。
さらに、得られた本発明の液体流通制御アクチュエータの上面に縦40mm、横5mm、厚さ5mmのアクリル樹脂を二つ配置して、アクリル樹脂間に液体の流路を形成する。電圧印加部は液体の流路内に配置される。またこの流路の一端にナフィオン(商品名、デュポン社製)面に対して垂直にガラスパイプを配置し、流路への液体供給部を作成する。液体供給部に水を供給する前に、電圧印加部に−4.5Vの電圧を3分間印加する。この状態で液体供給部から水を供給する。水は液体供給部からアクリル樹脂間の流路に侵入し、電圧印加部において滞留する。ガラスパイプには高さ3cm程度の水が溜まる。その後、電圧印加部の電圧を2Vに変える。すると約3分後に撥水層上部の泡は押し流される。
以下のようにして、図1−2に示すような、電極部を片側に配置した本発明の液体アクチュエータを作製した。縦40mm、横115mm、厚さ178μmのナフィオン117(商品名、デュポン社製)の片面に白金を厚さ3μm程度になるように化学めっきして付与した。具体的には、2つの水槽をナフィオン(商品名、デュポン社製)で分離した後、一方の水槽のみに還元液を注入し、他方を空気槽とすることで、片面のみに白金を付与した。このとき白金はナフィオン(商品名、デュポン社製)膜のほぼ全面に付与されていた。白金を付与した電極部について、その一部をガラスナイフを用いて直線状に削り、2つの電気的に離間した矩形の電極部を形成した(このとき、レーザを用いて電極部近傍のみを焼ききり、離間した電極部を形成してもよい。)。1方の電極部の大きさは、縦20mm、横20mmであった(以下、この電極部を電極部Iという。)他方の電極部の大きさは、縦20mm、横5mmであった(以下、この電極部を電極部IIという。)。
Claims (38)
- 液体を保持する電解質層の両側もしくは片側に電気的に離間した2つ以上の電極部を設け、少なくとも1つの電極部外側表面上にポーラス構造を有する撥水層を設けた構造体とし、前記撥水層を設けた電極部を含む複数の電極部間に電圧を印加し、該印加電圧を調節して前記構造体表面の濡れ性を変化させることを特徴とする液体アクチュエータ。
- 前記電解質層の両側にそれぞれ1つ以上の電極部を設け、その両側の電極部間に電圧を印加することを特徴とする請求項1記載の液体アクチュエータ。
- 前記電解質層の片側に互いに離間した2つ以上の電極部を設け、その片側で離間した電極部間に電圧を印加することを特徴とする請求項1記載の液体アクチュエータ。
- 前記電極部間に印加する電圧を調節して、前記構造体内部の液体を前記撥水層表面に浸透滲出させて該構造体表面の濡れ性を高め、または前記撥水層表面の液体を構造体内部に浸透吸収して該構造体表面の濡れ性を低下させることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
- 前記電極部間に印加する電圧を調節して、該電極部周辺の液体を電気分解し気体を発生させ、該気体を前記撥水層表面に誘導して前記構造体表面の濡れ性を低下させることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
- 前記構造体の撥水層の表面の濡れ性を可逆的に変化させることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
- 前記電極部間に印加する電圧を−1.229〜1.229Vの範囲で調節することにより前記撥水層表面の液体滲出量もしくは液体吸収量を増減させ、または−1.229未満または1.229Vを超える電圧の範囲で調節することにより前記撥水層表面に誘導する気体量を増減させて前記構造体表面の濡れ性を変化させることを特徴とする請求項5または6記載の液体アクチュエータ。
- 前記電解質が、有機電解質、無機電解質、またはそれらを組み合わせた電解質であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
- 前記電解質が、スルホン酸基、カルボキシル基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、4級アンモニウム基、3級アミノ基、2級アミノ基、および1級アミノ基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基を有する高分子電解質であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
- 前記撥水層が、パラフィン系撥水剤、フッ素系撥水剤、およびシリコン系撥水剤からなる群から選ばれる少なくとも1つの撥水剤を含有することを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
- 前記電極部が金、白金、銅、カーボン、またはそれらを組み合わせて形成した電極部であることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
- 前記電解質層を挟んで前記撥水層の反対側に保液層を設けたことを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
- 前記撥水層表面上に液滴を形成したときの液滴接触角を90〜150°の範囲で変化させることを特徴とする請求項1〜12のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
- 請求項1〜13のいずれか1項に記載の液体アクチュエータを用いた液体流通制御アクチュエータであって、その撥水層を液体流路内側に向けて設け、前記電極部間に印加する電圧の調節により、前記構造体表面の濡れ性を低下させて液体の侵入を妨げ前記流路中の液体流通を遮断し、前記構造体表面の濡れ性を高めて液体流通を開放することを特徴とする液体流通制御アクチュエータ。
- 前記流路が筒状流路または溝形状流路であることを特徴とする請求項14記載の液体流通制御アクチュエータ。
- 請求項1〜13のいずれか1項に記載の液体アクチュエータの複数を独立して設置し、前記構造体表面の濡れ性を設置した領域ごとに独立に変化させて、または
前記液体アクチュエータの前記電極部を複数の領域に分割し、該複数の電極部表面上に撥水層を設け、該撥水層表面の濡れ性を分割した領域ごとに独立に変化させて、
所望の領域に目的量の液体を凝集させることを特徴とする液体形成制御アクチュエータ。 - 請求項16記載の液体形成制アクチュエータの前記領域をそれぞれ独立して制御可能に配置したことを特徴とする液体分布制御アクチュエータ。
- 請求項16記載の液体形成制御アクチュエータを基板上に所定の配列で設置したことを特徴とする液体分布制御アクチュエータ。
- 請求項16記載の液体形成制御アクチュエータを用いて、所定の領域分布に液体を形成することを特徴とする液体分布制御アクチュエータ。
- 液体を保持した電解質層の両側もしくは片側に電気的に離間した2つ以上の電極部を設け、少なくとも1つの電極部外側表面上にポーラス構造を有する撥水層を設けた構造体とし、前記撥水層を設けた電極部を含む複数の電極部間に電圧を印加し、該印加電圧を調節して前記構造体表面の液体量を変化させることを特徴とする液体アクチュエータ。
- 前記電極部間に印加する電圧を調節して、前記構造体内部の液体を前記撥水層表面に浸透滲出させて該構造体表面上の液量を増加させ、または前記撥水層表面上の液体を浸透吸収し該構造体表面上の液量を減少させることを特徴とする請求項20記載の液体アクチュエータ。
- 前記電極部間に印加する電圧を調節して、該電極部周辺の液体を電気分解し気体として揮散させ該構造体表面上の液量を減少させることを特徴とする請求項20または21記載の液体アクチュエータ。
- 前記構造体表面上の液量の増減を可逆的に行うことを特徴とする請求項20〜22のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
- 前記電解質が、有機電解質、無機電解質、またはそれらを組み合わせた電解質であることを特徴とする請求項20〜23のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
- 前記電解質が、スルホン酸基、カルボキシル基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、4級アンモニウム基、3級アミノ基、2級アミノ基、および1級アミノ基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基を有する高分子電解質であることを特徴とする請求項20〜24のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
- 前記撥水層が、パラフィン系撥水剤、フッ素系撥水剤、およびシリコン系撥水剤からなる群から選ばれる少なくとも1つの撥水剤を含有することを特徴とする請求項20〜25のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
- 前記電極部が金、白金、銅、カーボン、またはそれらを組み合わせて形成した電極部であることを特徴とする請求項20〜26のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
- 液体分を含む電解質層の両側もしくは片側に電気的に離間した2つ以上の電極部を設け、少なくとも1つの電極部外側表面にポーラス構造を有する撥水層を設けた構造体とし、前記撥水層を設けた電極部を含む複数の電極部間に電圧を印加し、該印加電圧を調節して前記構造体表面上に形成した液体の流動性を変化させることを特徴とする液体アクチュエータ。
- 前記電極部間に印加する電圧を調節して、前記構造体中の液体分を前記撥水層表面に浸透滲出して前記構造体表面上に形成した液体を非流動化し、前記撥水層表面の液体分を浸透吸収して前記構造体表面上に形成した液体を流動化することを特徴とする請求項28記載の液体アクチュエータ。
- 前記電極部間に印加する電圧を調節して、前記電極部周辺の液体を電気分解して発生した気体を前記撥水層表面に誘導し、該気体の圧力により前記構造体表面上に形成した液体を押し上げ流動化することを特徴とする請求項28または29記載の液体アクチュエータ。
- 前記液体流動性を可逆的に変化させることを特徴とする請求項28〜30のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
- 前記電解質が、有機電解質、無機電解質、またはそれらを組み合わせた電解質であることを特徴とする請求項28〜31のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
- 前記電解質が、スルホン酸基、カルボキシル基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、4級アンモニウム基、3級アミノ基、2級アミノ基、および1級アミノ基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基を有する高分子電解質であることを特徴とする請求項28〜32のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
- 前記撥水層が、パラフィン系撥水剤、フッ素系撥水剤、およびシリコン系撥水剤からなる群から選ばれる少なくとも1つの撥水剤を含有することを特徴とする請求項28〜33のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
- 前記電極部が金、白金、銅、カーボン、またはそれらを組み合わせて形成した電極部であることを特徴とする請求項28〜34のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
- 前記撥水層表面に液滴を形成したときの液滴接触角を90〜150°の範囲で変化させて液体流動性を制御することを特徴とする請求項28〜35のいずれか1項に記載の液体アクチュエータ。
- 請求項28〜36のいずれか1項に記載の液体アクチュエータを用いた液滴混合アクチュエータであって、電圧の印加により前記構造体表面上で非流動化した複数の液滴を、電圧の調節により流動化して、互いを接触混合させることを特徴とする液滴混合アクチュエータ。
- 前記液滴が装置外部から供給形成された液滴であることを特徴とする請求項37記載の液滴混合アクチュエータ。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7821065B2 (en) | 1999-03-02 | 2010-10-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device comprising a thin film transistor comprising a semiconductor thin film and method of manufacturing the same |
KR20140023245A (ko) * | 2010-07-27 | 2014-02-26 | 더 리전트 오브 더 유니버시티 오브 캘리포니아 | 액체에서 초소수성을 회복하고 유지하기 위한 방법 및 장치 |
Families Citing this family (25)
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---|---|---|---|---|
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US8202686B2 (en) * | 2007-03-22 | 2012-06-19 | Advanced Liquid Logic, Inc. | Enzyme assays for a droplet actuator |
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US8037903B2 (en) * | 2007-04-04 | 2011-10-18 | Micropoint Bioscience, Inc. | Micromachined electrowetting microfluidic valve |
CA2692946C (en) | 2007-06-29 | 2014-11-18 | Swetree Technologies Ab | Method to prepare superhydrophobic surfaces on solid bodies by rapid expansion solutions |
KR100956683B1 (ko) * | 2007-09-20 | 2010-05-10 | 삼성전기주식회사 | 수소발생장치의 전극연결방법 및 그것을 이용한수소발생장치 |
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US8562807B2 (en) * | 2007-12-10 | 2013-10-22 | Advanced Liquid Logic Inc. | Droplet actuator configurations and methods |
JP5345347B2 (ja) * | 2008-07-15 | 2013-11-20 | 日立アロカメディカル株式会社 | 検体処理装置及び方法 |
US20120261264A1 (en) * | 2008-07-18 | 2012-10-18 | Advanced Liquid Logic, Inc. | Droplet Operations Device |
US20110266151A1 (en) * | 2010-04-23 | 2011-11-03 | Fredrik Jansson | Microfluidic systems with electronic wettability switches |
DE102010061909A1 (de) * | 2010-11-24 | 2012-05-24 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Fluidischer Aktor mit verformbarer Verschlussanordnung und langer Lagerfähigkeit |
DE102011115622A1 (de) * | 2010-12-20 | 2012-06-21 | Technische Universität Ilmenau | Mikropumpe sowie Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung einer Fluidströmung |
JP5757521B2 (ja) * | 2011-07-06 | 2015-07-29 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 油脂或いは撥水剤を含むアクチュエータ素子 |
WO2013009927A2 (en) | 2011-07-11 | 2013-01-17 | Advanced Liquid Logic, Inc. | Droplet actuators and techniques for droplet-based assays |
US8637242B2 (en) | 2011-11-07 | 2014-01-28 | Illumina, Inc. | Integrated sequencing apparatuses and methods of use |
WO2013112898A1 (en) * | 2012-01-25 | 2013-08-01 | The Regents Of The University Of California | Micro-analyzer with passive aggregator |
CN103343092B (zh) * | 2013-07-19 | 2014-12-03 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 基于矿物油饱和pdms材料的数字pcr芯片的制作方法 |
EP3177394B1 (en) | 2014-08-07 | 2021-10-06 | Raytheon Technologies Corporation | Article with controllable wettability |
JP6011986B2 (ja) * | 2015-04-09 | 2016-10-25 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 油脂或いは撥水剤を含むアクチュエータ素子 |
JP6931220B2 (ja) * | 2017-06-01 | 2021-09-01 | 学校法人立命館 | 液滴処理方法、液滴処理基板、及び液滴接触用治具 |
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CN112406096B (zh) * | 2020-11-23 | 2022-02-15 | 华中科技大学 | 一种浸润性主动调节装置及其制备方法 |
CN113640357B (zh) * | 2021-09-01 | 2024-04-12 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 一种实时连续检测电解质浓度的可穿戴汗液传感器装置 |
Family Cites Families (10)
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---|---|---|---|---|
JPH06323244A (ja) * | 1993-05-11 | 1994-11-22 | Japan Storage Battery Co Ltd | 輸液ポンプ |
JP3081913B2 (ja) | 1997-09-17 | 2000-08-28 | 愛知教育大学長 | 電子照射による濡れ性の制御方法 |
JP4165941B2 (ja) | 1998-10-16 | 2008-10-15 | Toto株式会社 | 表面の水との濡れ性が制御可能な複合材、表面の水との濡れ性制御方法、および、機能性コーティング液 |
DE10011022A1 (de) * | 2000-03-07 | 2001-09-27 | Meinhard Knoll | Vorrichtung und Verfahren zur Durchführung von Synthesen, Analysen oder Transportvorgängen |
JP2001347218A (ja) | 2000-06-08 | 2001-12-18 | Naoyuki Aoyama | 微少液滴の濡れ性制御方法およびこれに用いる装置 |
JP3876674B2 (ja) * | 2001-10-05 | 2007-02-07 | セイコーエプソン株式会社 | 液体混合方法および液体開放弁 |
JP3699994B2 (ja) | 2001-11-21 | 2005-09-28 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 光による水濡れ性制御型フイルム、及びその製法 |
US7163612B2 (en) * | 2001-11-26 | 2007-01-16 | Keck Graduate Institute | Method, apparatus and article for microfluidic control via electrowetting, for chemical, biochemical and biological assays and the like |
US6911132B2 (en) * | 2002-09-24 | 2005-06-28 | Duke University | Apparatus for manipulating droplets by electrowetting-based techniques |
JP2004342480A (ja) * | 2003-05-16 | 2004-12-02 | Yuasa Corp | 直接メタノール形燃料電池 |
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7821065B2 (en) | 1999-03-02 | 2010-10-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device comprising a thin film transistor comprising a semiconductor thin film and method of manufacturing the same |
US8445962B2 (en) | 1999-03-02 | 2013-05-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
KR20140023245A (ko) * | 2010-07-27 | 2014-02-26 | 더 리전트 오브 더 유니버시티 오브 캘리포니아 | 액체에서 초소수성을 회복하고 유지하기 위한 방법 및 장치 |
KR101906613B1 (ko) | 2010-07-27 | 2018-10-10 | 더 리전트 오브 더 유니버시티 오브 캘리포니아 | 액체에서 초소수성을 회복하고 유지하기 위한 방법 및 장치 |
US10125271B2 (en) | 2010-07-27 | 2018-11-13 | The Regents Of The University Of California | Method and device for restoring and maintaining superhydrophobicity under liquid |
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