JP4233758B2 - 医療電極、及び、その製造方法 - Google Patents

医療電極、及び、その製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4233758B2
JP4233758B2 JP2000540893A JP2000540893A JP4233758B2 JP 4233758 B2 JP4233758 B2 JP 4233758B2 JP 2000540893 A JP2000540893 A JP 2000540893A JP 2000540893 A JP2000540893 A JP 2000540893A JP 4233758 B2 JP4233758 B2 JP 4233758B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
insulating layer
contact
electrode
round protrusion
round
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2000540893A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002509776A (ja
Inventor
ヤング・テレンス・アール
ベアーズレイ・ティモシー・エイ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Codman and Shurtleff Inc
Original Assignee
Codman and Shurtleff Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Codman and Shurtleff Inc filed Critical Codman and Shurtleff Inc
Publication of JP2002509776A publication Critical patent/JP2002509776A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4233758B2 publication Critical patent/JP4233758B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61NELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N1/00Electrotherapy; Circuits therefor
    • A61N1/02Details
    • A61N1/04Electrodes
    • A61N1/05Electrodes for implantation or insertion into the body, e.g. heart electrode
    • A61N1/0526Head electrodes
    • A61N1/0529Electrodes for brain stimulation
    • A61N1/0531Brain cortex electrodes
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Neurology (AREA)
  • Neurosurgery (AREA)
  • Psychology (AREA)
  • Cardiology (AREA)
  • Heart & Thoracic Surgery (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Radiology & Medical Imaging (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Electrotherapy Devices (AREA)

Description

【0001】
【発明の背景技術】
埋め込み可能医療電極は様々な医療目的で使用されている。このような目的の1つは、除去すべき癲癇原性脳の病巣を特定するために分析する皮質電気活性の検知である。皮質電気活性の受動的検知に使用するのと同じ埋め込み可能医療電極は、癲癇原性脳の除去における安全性と効率を高めるために、脳の様々な領域を刺激して癲癇原性脳の病巣をさらに分析するのにも使用できる。
【0002】
皮質電気活性の検知に使用する従来の埋め込み可能医療電極の一タイプは縦深(depth)電極であり、これは比較的細長く、一般に円柱形であって、長さに沿って間隔を開けてリング電極がある。縦深電極は脳組織内に挿入する皮質内器具である。縦深電極は脳自体と電気的に接触するので脳内の電気活性に関する情報を提供できる。
【0003】
皮質電気活性を検知するのに使用する別のタイプの埋め込み可能医療電極は帯状(strip)電極である。帯状電極は硬膜と皮質の間に挿入し脳に突入しない。帯状電極は一般に誘電性物質からなる柔軟な実質的に平らな帯であり、1以上の平らな電気接触子(contacts)を支持している。電気接触子により脳の面の皮質電気活性を刺激し及び/又は検知する。平らな接触子の各々は絶縁リードワイヤの近位端と接続し、リードワイヤの遠位端は電気刺激装置及び/又はモニター装置と連結する。患者の皮質と適合するように帯状電極は柔軟であることが重要である。
【0004】
さらに、帯状電極は一般に2つの誘電層を含み、その間に平らな電気接触子が位置する。1つの誘電層には複数の穴が貫通していて、各穴は接触子の少なくとも一部が露出するようにそれぞれ対応する接触子と整合する。
【0005】
平らな接触子の各々は皮質と接触し、一度接触したら、皮質に対して同じ固定の位置を保つことが重要である。適切に電気的読取値を解釈するためには、帯状電極接触子の皮質に対する正確な位置の情報が必要である。
【0006】
従来、埋め込んだ後に帯状電極を適切な位置に保つために、電極には所定量の厚み(例えば、0.020インチ乃至0.030インチ(0.508mm乃至0.762mm))が必要であると考えられている。また、この厚みは、リードワイヤの支持を改善して、リードワイヤが接触子から離れ及び/又は帯状電極内から外れるのを防ぐと考えられている。しかし、硬膜を閉じたとき、特に、硬膜と脳の間に比較的狭い空間しかない場合では、頭蓋内圧力の上昇を避けるために、帯状電極を薄くすることも望まれている。
【0007】
別のタイプの従来の医療電極は、構造は帯状電極と同様であるが、電気接触子の列(array)を含む。このような電極は一般に2つの誘導層を含み、これらの間に複数の平らな電気接触子が二次元列(array)の形態で配列している。1つの誘電層では、各接触子の少なくとも一部が穴から露出している。
【0008】
【発明の開示】
本発明は、端部と、端部の上へ延びて使用時に患者の処置部位と接触する丸形突出部とを有する少なくとも1つの導電性接触子を支持する埋め込み可能医療電極に関する。端部は丸形突出部の少なくとも一部を縁取る。この導電性接触子は、高い信頼性をもって確実に処置部位と接触することにより、従来の医療電極に用いる接触子の欠点を克服する。接触子の丸形突出部により接触子と処置部位の間に摩擦が生じるので、使用時に正確に配置してその配置を維持するのが容易になる。さらに、従来は電極構造体の厚みで電極の移動を防いでいたので、丸形突出部により摩擦が生じることにより電極構造体全体を薄くすることができる。薄い電極は、硬膜を閉じたとき、特に硬膜と脳の間に比較的狭い空間しかない場合、頭蓋内圧力の上昇を避けるために望ましい。
【0009】
埋め込み可能医療電極は、第一の絶縁層と、複数の穴が開いている第二の絶縁層を含む。上述したように各々が端部と丸形突出部を有する複数の導電性接触子は、第一の絶縁層と第二の絶縁層の間に位置する。特に、各導電性接触子はそれぞれ対応する第二の絶縁層の穴と整合してその中を延びる。一実施形態では、丸形突出部はそれぞれ対応する穴の中を延びて第二の絶縁層を越えて頂部で終わる。
【0010】
導電性接触子は、1列の接触子又は二次元列の接触子等様々なパターンで電極に配列できる。さらに、電極に設けられる導電性接触子の数は特定の用途に合わせて容易に変えられる。
【0011】
導電性接触子は様々な形をとり得る。例えば、丸形突出部を縁取る端部は実質的に平らでもよい。また、端部は丸くてもよい。導電性接触子の丸形突出部は、使用時に処置部位と接触する第一の丸形面と対向する第二の面を有する。一実施形態では、対向する第二の面は第一の面と相補的に丸いが、他の実施形態では、対向する第二の面は実質的に平らである。
【0012】
接触子の高さ(端部のベースから丸形突出部の頂部まで)は、第二の絶縁層の厚みの関数として選択される。特に、使用時に丸形突出部の頂部が確実に第二の絶縁層を越えて処置部位と接触するように、接触子の高さを第二の絶縁層の厚みより大きく又は実質的に等しくする。
【0013】
導電性接触子は、白金、ステンレス鋼、金、導電性ポリマー等の様々な生物学的親和性物質から構成できる。同様に、第一の絶縁層と第二の絶縁層の各々も、シリコーン、ポリアミド、ポリエステル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ヒドロゲルを含むポリマー等の様々な生物学的親和性物質から構成できる。
【0014】
複数の導電体が設けられ、各導電体は、それぞれ対応する1つの導電性接触子と電気的に接続する近位端と、電気刺激装置及び/又はモニター装置との接続用端子と電気的に接続する遠位端を有する。導電体を接触子に電気的に接続するのに、はんだ付け等様々な技術が適している。
【0015】
丸形突出部のある導電性接触子の製造方法も開示する。この方法は、第一の面と第二の面を有する実質的に平らな導電性部材を準備する工程と、接触子の第一の面を実質的に丸いデテント(移動止め)のあるアンビルの上に配置する工程を含む。実質的に平らな導電性部材の第二の面に力を加えて、導電性部材の少なくとも一部を実質的に丸いデテントに押し付けて丸形突出部を形成する。この設計では、丸形突出部は、第一の丸形面と、第一の面と相補的な対向する丸い第二の面を有する。
【0016】
他に様々な製造方法が可能であり、それらの幾つかは異なる形と特徴の導電性接触子を製造する。例えば、丸形突出部の第一の面が丸いが対向する第二の面が実質的に平らな導電性接触子を製造する。
【0017】
【発明の詳細な説明】
本発明及び上述のその特徴は図面を用いた説明によりさらによく理解されるであろう。
【0018】
図1に示すように、埋め込み可能医療電極10は第一の絶縁層14と第二の絶縁層18を有する。第二の絶縁層18には少なくとも1つの穴20がある。電極10は、さらに、丸形突出部26のある少なくとも1つの導電性接触子24と、この丸形突出部の少なくとも一部を縁取る端部28とを有する。導電性接触子24は、接触子の丸形突出部26が穴20と整合するように、第一の絶縁層14と第二の絶縁層18の間に位置する。特に、丸形突出部26は少なくとも穴の中へ延びるが、図示するように、穴を通り抜けて穴20を越えて(即ち、第二の絶縁層18の露出面22を越えて)終端する頂部34を有してもよい。
【0019】
電極10は一般に複数の電気接触子24を含み、各電気接触子は第二の絶縁層18にある対応する穴20と整合してその中を延びる。接触子24は、1列の接触子からなる帯状パターンや二次元列(array)の接触子からなる配列(図5及び図6)等の様々なパターンで配置して電極10を形成できる。
【0020】
図2に示すように、導電性接触子24の丸形突出部26は端部28により縁取られ、図示する実施形態では、端部28は実質的に丸い外側輪郭(footprint)を有する。当業者は、本発明の精神と範囲から離れることなく、端部28に他の様々な形状の外側輪郭が可能であることを理解するであろう。図1及び図2の実施形態では丸形突出部26全体が端部28により縁取られているが、突出部26の一部だけを端部28により縁取ってもよい。
【0021】
導電性接触子24の丸形突出部26は、使用時に患者の処置部位と接する第一の丸形面30を有する。丸形突出部26の第二の対向する面32は第一の丸形面30と相補的に丸くなっている。
【0022】
導電性接触子24の製造するのに様々な製造技術を用いることができる。例えば、導電性接触子24を、第一の面30と第二の面32を有する実質的に平らなディスク状導電性部材から製造する。ディスク状部材を実質的に丸いデテント(移動止め)のあるアンビルの上に置き、このとき接触子の第一の面30がデテントの上になるようにする。十分な大きさの力を接触子の第二の面32に加え、ディスク状導電性部材の一部をデテントの形に沿って変形させて丸形突出部26を形成する。
【0023】
当業者は、本発明の精神と範囲から離れることなく、導電性接触子24が様々な形をとり得ることを理解するであろう。接触子24の2つの形を図3及び図4を参照して以下に説明する。
【0024】
様々な導電性原料が導電性接触子24の製造に適している。好ましくは、接触子の原料は生物学的親和性である。好適な材料の例には、白金、ステンレス鋼、金及び導電性ポリマーがある。幾つかの場合では、白金が、磁気共鳴画像化(MRI)技術との両立性のため好ましい。
【0025】
導電性接触子24の寸法は特定の用途に合うように容易に変えられる。一般に、接触子24は高さ「H」(図1)と直径「D」(図2)により特徴付けられる。接触子の丸形突出部26の高さ「h」(図1)は、端部28が平らでないときは接触子の高さ「H」より小さく、又は、端部28が実質的に平らなときは高さ「H」と実質的に等しくなる。
【0026】
一般に、接触子24の高さ「H」は、丸形突出部26の頂部34が使用時に患者の処置部位と確実に接触するように、第二の絶縁層18の厚みと実質的に等しいか又は少し大きくなっている。特に、第二の絶縁層18が使用時に圧縮する原料で構成されている場合は、接触子の高さ「H」は第二の絶縁層18の厚みより大きいか又は実質的に等しくてよいが、幾つかの場合では第二の絶縁層18の厚みより少し小さくすることすらできる。第二の絶縁層18が使用時に圧縮すると、実質的に固い接触子24の丸形突出部26の頂部34が使用時に確実に処置部位と接触する。また、第二の絶縁層18の材料が使用時に圧縮しない場合は、接触子24の高さ「H」を層18の厚みより大きくなるように選択して、丸形突出部26の頂部34が確実に穴20を通り抜け層18の露出面22を越えて処置部位と接触するようにする。図示する実施形態では、第一の絶縁層14と第二の18の各々の厚みは0.01インチ(0.254mm)程度(order)であり、接触子の高さ「H」と丸形突出部26の高さ「h」は0.01インチ(0.254mm)乃至0.03インチ(0.762mm)程度である。
【0027】
さらに、丸形突出部26の直径「d」(図2)は接触子の直径「D」と等しくても又は小さくてもよい。特に、図4に示す実施形態のように、端部78が丸形突出部72の丸い「延長部」である場合は、丸形突出部26の直径「d」は接触子の直径「D」と実質的に等しい。図1に示す実施形態のように、端部28が実質的に平らな場合は、丸形突出部の直径「d」は接触子の直径「D」より小さい。図示する実施形態では、接触子24の直径は0.200インチ(5.08mm)程度であり、丸形突出部26の直径「d」は0.125インチ(3.175mm)程度である。
【0028】
図示する実施形態では、接触子24の厚みは0.002インチ(0.0508mm)程度である。しかし、当業者は接触子の厚みを特定の用途と接触子の形に合わせて変えられることを理解するであろう。
【0029】
第二の絶縁層18を貫通する穴20の直径は接触子24の直径「D」より小さい。図示する実施形態では、穴の直径は0.125インチ(3.175mm)程度である。このような相対的な直径で組み立てると、第二の絶縁層18が端部28の少なくとも一部を覆い、接触子24を第一の絶縁層14の上の所定の位置に留める。
【0030】
様々な材料が、誘電性又は電気的絶縁層14,18を製造するのに適している。好ましくは、絶縁層の原料は既知の生物学的親和性材料であり、例えば、シリコーン、ポリアミド、ポリエステル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン及びヒドロゲル等のポリマーである。絶縁層14,18の厚みは同じでも互いに異なっていてもよく、特定の用途に合わせて容易に変えられる。図示する実施形態では、各絶縁層14,18の厚みは0.01インチ(0.254mm)程度である。
【0031】
図1の電極10を組み立てるのに様々な技術を用いることができる。例えば、第二の絶縁層18を、面22が作業面上に下向きに面するように配置する。次に、導電性接触子24を絶縁層18の穴20に挿入し、丸形突出部26がその中の中央にあって穴20の中を延びるようにする。このように、丸形突出部26は、位置合わせ用の特徴部として製造を簡単にできる。即ち、丸形突出部26を穴に入れることにより、接触子24を穴20に対して適切に配置できる。接触子24をこのように配置しながら、第一の絶縁層14を第二の絶縁層18の上に乗せる。接着剤を用いて第一の絶縁層14を第二の絶縁層18に固着してもよく、端部28が穴20を囲む第二の絶縁層18の一部と接触して接触子を所定の位置に保持して、接触子24を穴20内に留める。絶縁層を共に固着するための他の好適な技術の例として、超音波結合と部分硬化シリコーンの使用がある。
【0032】
使用時は、電極10を患者の処置部位(例えば、皮質)上に配置して、接触子24の頂部34を処置部位と物理的かつ電気的に接触させる。硬膜を絶縁層14の露出面36の上に載せ所定の位置で縫合する。この配置で圧力を電極10にかけて、接触子24を皮質に押し付ける。
【0033】
丸形突出部26と処置部位間の摩擦が接触子24と電極10全体を正しい位置に維持するように作用する。また、当業者は、接触子24と電極10を所定の位置に維持する丸形突出部26の頂部34と処置部位間の摩擦が、より薄い絶縁層14,18の使用を可能にすることを理解するであろう。従来は、電極10の厚み全体により電極を所定の位置に保持していたので、埋め込んだ後に電極がずれる危険があったため、所定の厚みより薄くできなかった。
【0034】
図3に示すように、図1に示すタイプの電極組立体に使用される別の導電性接触子40は、丸形突出部42、端部50、第一の面44及びそれと対向する第二の面48を有する。接触子40の第一の面44は接触子24の面30(図1)と同様に丸い。しかし、接触子40の第二の面48は接触子24の丸形面32(図1)と異なり実質的に平らである。
【0035】
組み立てにおいて、図1の電極10について上述したように、導電性接触子40は第一の絶縁層14と第二の絶縁層18の間に位置される。従って、組み立てにおいて、接触子40の端部50は、接触子40を所定の位置に保持するように作用する穴20を囲む第二の絶縁層18の一部に覆われる。
【0036】
図4に示すように、別の電極60は第一の絶縁層62と第二の絶縁層64を有し、これらは図1の電極10の絶縁層14,18と実質的に同一である。図示するように、導電性接触子70は第二の絶縁層64の穴66の中にある。導電性接触子70は丸形突出部72と端部78を有する。丸形突出部72は、第一の丸形面74と実質的に平らな対向する第二の面76を有する。
【0037】
接触子70は図1の接触子24および図3の接触子40とは形が異なる。接触子70は実質的に半球形である。従って、端部78は丸く、事実、丸形突出部72から実質的に連続する「延長部」である。このため、丸形突出部72の直径「d」は接触子70の直径「D」と実質的に等しい。
【0038】
組み立てにおいて、接触子70は、図1の電極10について上述したように、第一の絶縁層62と第二の絶縁層64の間に位置される。特に、この接触子は、接触子の端部78が穴66を囲む第二の絶縁層64の一部により覆われるように、対応する第二の絶縁層64の穴66内に位置される。接着剤等により第一の絶縁層62と第二の絶縁層64を共に固着すると接触子70が所定の位置に保持される。
【0039】
図5に示すように、別の電極80は、二次元n×m列(array)に配置する複数の導電性接触子841,1 乃至84n,m を支持する。各接触子841,1 乃至84n,m は、それぞれ端部881,1 乃至88n,m (接触子841,1 乃至84n,m を図示する図6に示す)により少なくとも一部縁取られている丸形突出部861,1 乃至86n,m(接触子841,1 乃至84n,m を図示する図6に示す)を有する。
【0040】
図示するように、複数の導電体941,1 乃至94n,m が、それぞれ対応する導電性接触子841,1 乃至84n,m を連結するために設けられている。特に、各導電体は対応する接触子と電気的に接続する近位端を有し、対応する接触子から延びて遠位端で終わる。図示する実施形態では、複数の導電体941,1 乃至94n,m の遠位端は絶縁体98によりひとまとめに絶縁され、絶縁体98は図示するように複数の導電性リング100a乃至100xのある端102で終わる。各導電性リング100a乃至100xは導電体941,1 乃至94n,m の対応する1つのものと電気的に接続する。絶縁体端102はリング電極を使用する縦深電極と同様の形であり、同様の技術を用いて複数の接触子841,1 乃至84n,m と電気的に接続させることができる。
【0041】
図6は、図5の電極列80の断面図であり、この図は、電極80には第一の絶縁層108と複数の穴が開いている第二の絶縁層110があることを示している。接触子841,1 乃至84n,m について示すように、各導電性接触子841,1 乃至84n,m はそれぞれ対応する電極列80の穴901,1 乃至90n,m と整合して少なくともその中を延びる。
【0042】
本発明の好ましい実施形態について説明したが、当業者にはこの思想による他の実施形態があることが明らかである。従って、実施形態は開示された実施形態に限定されず、特許請求の範囲の精神と範囲にのみ限定される。ここに引用した全ての刊行物と文献はその全てを援用する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明による導電性接触子を含む医療電極の断面図である。
【図2】 図1の医療電極の導電性接触子の平面図である。
【図3】 本発明による別の導電性接触子の断面図である。
【図4】 本発明の他の実施形態による医療電極の断面図である。
【図5】 本発明による医療電極列の平面図である。
【図6】 図5のライン6−6に沿った医療電極列の断面図である。

Claims (9)

  1. 第一の絶縁層(14)と、
    貫通する少なくとも1つの穴(20)がある第二の絶縁層(18)と、
    前記少なくとも1つの穴(20)の中を延びる丸形突出部(26)と、前記第一の絶縁層(14)と前記第二の絶縁層(18)の間に位置する端部(28)とを有し、前記穴(20)と整合する、少なくとも1つのドーム形導電性接触子(24)とを含み、
    前記少なくとも1つの導電性接触子(24)の丸形突出部(26)が、前記少なくとも1つの穴(20)を通って、前記第二の絶縁層(18)の露出面(22)を越えて延び、前記丸形突出部(26)の頂部(34)が、前記第二の絶縁層(18)の前記露出面(22)よりも外側に位置し、
    前記少なくとも1つの接触子(24)の前記丸形突出部(26)が患者の脳の面と接触し、前記丸形突出部(26)と患者の脳の間の摩擦により、医療電極(10)の前記脳の面上における位置が維持されることを特徴とする医療電極(10)。
  2. 前記端部(28)が前記丸形突出部(26)の少なくとも一部を縁取って、前記第二の絶縁層(18)と接触する請求項1に記載の電極(10)。
  3. 前記少なくとも1つの導電性接触子(24)が、白金、ステンレス鋼、金及び導電性弾性体からなる群から選択される物質を含む請求項1に記載の電極(10)。
  4. 前記第一の絶縁層(14)と前記第二の絶縁層(18)の各々がポリマーを含む請求項1に記載の電極(10)。
  5. さらに、前記第一の絶縁層(14)と前記第二の絶縁層(18)の間に、接着剤と部分硬化シリコーンから選択される1つを含む請求項1に記載の電極(10)。
  6. 前記少なくとも1つの導電性接触子(24)の丸形突出部(26)が直径と高さを有し、前記丸形突出部(26)の高さが丸形突出部(26)の直径より小さいか又は等しい請求項1に記載の電極(10)。
  7. 前記少なくとも1つの導電性接触子(24)が高さを有し、前記第二の絶縁層(18)が厚みを有し、前記少なくとも1つの導電性接触子(24)の高さが前記第二の絶縁層(18)の厚みより大きいか又は等しい請求項1に記載の電極(10)。
  8. さらに、前記少なくとも1つの導電性接触子(24)と電気的に接続する少なくとも1つの導電体(94)を含む請求項1に記載の電極(10)。
  9. さらに、前記少なくとも1つの導電性接触子(24)と電気的に接触できるように、前記少なくとも1つの導電体(94)と電気的に接続する少なくとも1つの端子を含む請求項8に記載の電極(10)。
JP2000540893A 1998-03-30 1999-03-17 医療電極、及び、その製造方法 Expired - Fee Related JP4233758B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/050,460 US6052608A (en) 1998-03-30 1998-03-30 Implantable medical electrode contacts
US09/050,460 1998-03-30
PCT/US1999/005877 WO1999049933A1 (en) 1998-03-30 1999-03-17 Implantable medical electrode contacts

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002509776A JP2002509776A (ja) 2002-04-02
JP4233758B2 true JP4233758B2 (ja) 2009-03-04

Family

ID=21965383

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000540893A Expired - Fee Related JP4233758B2 (ja) 1998-03-30 1999-03-17 医療電極、及び、その製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6052608A (ja)
EP (1) EP1066082B1 (ja)
JP (1) JP4233758B2 (ja)
AU (1) AU3097499A (ja)
DE (1) DE69928234T2 (ja)
WO (1) WO1999049933A1 (ja)

Families Citing this family (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6438400B1 (en) * 1993-12-06 2002-08-20 Heska Corporation Electrode for evaluating cardiac functions via esophagus
US6745062B1 (en) * 1998-10-05 2004-06-01 Advanced Imaging Systems, Inc. Emg electrode apparatus and positioning system
AU3866600A (en) * 1999-03-24 2000-10-09 Second Sight Medical Products, Inc. Retinal color prosthesis for color sight restoration
US6624510B1 (en) 2000-09-28 2003-09-23 University Of Iowa Research Foundation Electrode array having a thin, flexible substrate
WO2002045795A2 (en) * 2000-12-07 2002-06-13 Medtronic, Inc. Directional brain stimulation and recording leads
US20090069706A1 (en) * 2001-06-21 2009-03-12 Jerome Boogaard Brain probe adapted to be introduced through a canula
US6560472B2 (en) * 2001-06-21 2003-05-06 Microhelix, Inc. Multi-channel structurally robust brain probe and method of making the same
US7697995B2 (en) * 2002-04-25 2010-04-13 Medtronic, Inc. Surgical lead paddle
US7437197B2 (en) * 2003-10-23 2008-10-14 Medtronic, Inc. Medical lead and manufacturing method therefor
US8068892B2 (en) * 2005-06-16 2011-11-29 Aaken Labs Methods and systems for using intracranial electrodes
US9307925B2 (en) 2005-06-16 2016-04-12 Aaken Laboratories Methods and systems for generating electrical property maps of biological structures
US7672734B2 (en) * 2005-12-27 2010-03-02 Boston Scientific Neuromodulation Corporation Non-linear electrode array
US8700178B2 (en) 2005-12-27 2014-04-15 Boston Scientific Neuromodulation Corporation Stimulator leads and methods for lead fabrication
DE102006008050A1 (de) * 2006-02-21 2007-08-23 Imi Intelligent Medical Implants Ag Vorrichtung mit flexiblem Mehrschichtsystem zur Kontaktierung oder Elektrostimulation von lebenden Gewebezellen oder Nerven
WO2008018067A2 (en) * 2006-08-07 2008-02-14 Alpha Omega Engineering Ltd. Cerebral electrodes and methods of operating same
US7742824B2 (en) * 2006-08-21 2010-06-22 Medtronic, Inc. Medical electrode mounting
US7765011B2 (en) * 2006-08-21 2010-07-27 Medtronic, Inc. Assembly methods for medical electrical leads
US7738966B2 (en) 2006-08-21 2010-06-15 Medtronic, Inc. Features for routing conductors in medical electrical lead electrode assemblies
EP2138203B1 (en) * 2008-06-26 2013-01-30 Greatbatch Ltd. Stimulation lead design
US9475709B2 (en) 2010-08-25 2016-10-25 Lockheed Martin Corporation Perforated graphene deionization or desalination
US10376845B2 (en) 2016-04-14 2019-08-13 Lockheed Martin Corporation Membranes with tunable selectivity
US9834809B2 (en) 2014-02-28 2017-12-05 Lockheed Martin Corporation Syringe for obtaining nano-sized materials for selective assays and related methods of use
US9610546B2 (en) 2014-03-12 2017-04-04 Lockheed Martin Corporation Separation membranes formed from perforated graphene and methods for use thereof
US9744617B2 (en) 2014-01-31 2017-08-29 Lockheed Martin Corporation Methods for perforating multi-layer graphene through ion bombardment
US10653824B2 (en) 2012-05-25 2020-05-19 Lockheed Martin Corporation Two-dimensional materials and uses thereof
US10696554B2 (en) 2015-08-06 2020-06-30 Lockheed Martin Corporation Nanoparticle modification and perforation of graphene
US9592475B2 (en) 2013-03-12 2017-03-14 Lockheed Martin Corporation Method for forming perforated graphene with uniform aperture size
US9572918B2 (en) 2013-06-21 2017-02-21 Lockheed Martin Corporation Graphene-based filter for isolating a substance from blood
CA2938273A1 (en) 2014-01-31 2015-08-06 Peter V. Bedworth Perforating two-dimensional materials using broad ion field
WO2015116857A2 (en) 2014-01-31 2015-08-06 Lockheed Martin Corporation Processes for forming composite structures with a two-dimensional material using a porous, non-sacrificial supporting layer
AU2015229331A1 (en) 2014-03-12 2016-10-27 Lockheed Martin Corporation Separation membranes formed from perforated graphene
MX2017002738A (es) 2014-09-02 2017-08-02 Lockheed Corp Membranas de hemodialisis y hemofiltracion basadas en un material de membrana bidimensional y metodos que emplean las mismas.
DE102014014927A1 (de) * 2014-10-07 2016-04-07 Neuroloop GmbH Implantierbare Elektrodenanordnung
TWI696448B (zh) * 2014-11-11 2020-06-21 芬蘭商腦部關懷公司 植入式電極裝置及其製造方法
WO2017023376A1 (en) 2015-08-05 2017-02-09 Lockheed Martin Corporation Perforatable sheets of graphene-based material
SG11201808962RA (en) 2016-04-14 2018-11-29 Lockheed Corp Method for treating graphene sheets for large-scale transfer using free-float method
CA3020874A1 (en) 2016-04-14 2017-10-19 Lockheed Martin Corporation Two-dimensional membrane structures having flow passages
WO2017180134A1 (en) 2016-04-14 2017-10-19 Lockheed Martin Corporation Methods for in vivo and in vitro use of graphene and other two-dimensional materials
KR20180133430A (ko) 2016-04-14 2018-12-14 록히드 마틴 코포레이션 결함 형성 또는 힐링의 인 시츄 모니터링 및 제어를 위한 방법
CA3020880A1 (en) 2016-04-14 2017-10-19 Lockheed Martin Corporation Selective interfacial mitigation of graphene defects
EP4037756A1 (en) 2019-10-02 2022-08-10 BIOTRONIK SE & Co. KG Medical electrode device for implantation into a patient
EP4122527B1 (en) 2021-07-20 2023-11-08 BIOTRONIK SE & Co. KG Method for fabricating a medical electrode device
WO2023099095A1 (en) 2021-12-03 2023-06-08 Biotronik Se & Co. Kg Medical electrode device comprising at least one contact element
WO2023110355A1 (en) 2021-12-14 2023-06-22 Biotronik Se & Co. Kg Medical electrode device comprising at least one contact element
WO2023165829A1 (en) 2022-03-01 2023-09-07 Biotronik Se & Co. Kg Medical electrode device comprising at least one contact element and method for fabricating same

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US372647A (en) * 1887-11-01 John williams
US3612061A (en) * 1969-02-20 1971-10-12 Inst Of Medical Sciences The Flexible cutaneous electrode matrix
DE2124704A1 (de) * 1971-05-18 1972-11-30 Stadelmayr, Hans Guenther, 8100 Garmisch Partenkirchen Elektrodenanordnung fur biomedizinische Zwecke
JPS6055966A (ja) * 1983-09-05 1985-04-01 オリンパス光学工業株式会社 医用電極装置
EP0145429B1 (en) * 1983-12-08 1992-02-26 Kabushiki Kaisha Toshiba Curvilinear array of ultrasonic transducers
US4819647A (en) * 1984-05-03 1989-04-11 The Regents Of The University Of California Intracochlear electrode array
US4969468A (en) * 1986-06-17 1990-11-13 Alfred E. Mann Foundation For Scientific Research Electrode array for use in connection with a living body and method of manufacture
US4735208B1 (en) * 1987-01-09 1995-07-04 Ad Tech Medical Instr Corp Subdural strip electrode for determining epileptogenic foci
US4971070A (en) * 1987-06-18 1990-11-20 Medtronic, Inc. Epicardial patch electrode
US4890623A (en) * 1988-03-14 1990-01-02 C. R. Bard, Inc. Biopotential sensing device and method for making
US5205297A (en) * 1988-03-25 1993-04-27 Lectec Corporation Multipurpose medical stimulation electrode
US4903702A (en) * 1988-10-17 1990-02-27 Ad-Tech Medical Instrument Corporation Brain-contact for sensing epileptogenic foci with improved accuracy
JPH02141409U (ja) * 1989-05-01 1990-11-28
US5265608A (en) * 1990-02-22 1993-11-30 Medtronic, Inc. Steroid eluting electrode for peripheral nerve stimulation
US5201903A (en) * 1991-10-22 1993-04-13 Pi (Medical) Corporation Method of making a miniature multi-conductor electrical cable
EP0559933A1 (de) * 1992-03-10 1993-09-15 Pacesetter AB Elektrodenanordnung für einen implantierbaren Defibrillator/Kardiovertierer
US5324322A (en) * 1992-04-20 1994-06-28 Case Western Reserve University Thin film implantable electrode and method of manufacture
SE9201600L (sv) * 1992-05-21 1993-11-22 Siemens Elema Ab Elektrodanordning
US5255692A (en) * 1992-09-04 1993-10-26 Siemens Aktiengesellschaft Subcostal patch electrode
DE69333945T2 (de) * 1992-09-04 2006-06-29 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kadoma Flache Elektrode
AU5214193A (en) * 1992-12-03 1994-06-16 Pacesetter Ab Implantable medical device lead assembly having high efficiency, flexible electrode head
US5375594A (en) * 1993-03-29 1994-12-27 Cueva; Roberto A. Removable medical electrode system
EP0928212B1 (de) * 1994-07-13 2002-10-02 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Flexible künstliche nervenplatte
US5617865A (en) * 1995-03-31 1997-04-08 Siemens Medical Systems, Inc. Multi-dimensional ultrasonic array interconnect
US5643338A (en) * 1996-04-03 1997-07-01 Pacesetter, Inc. Single-pass A-V lead for pacing with stimulation of right ventricular outflow tract

Also Published As

Publication number Publication date
WO1999049933A1 (en) 1999-10-07
JP2002509776A (ja) 2002-04-02
US6052608A (en) 2000-04-18
EP1066082B1 (en) 2005-11-09
DE69928234T2 (de) 2006-07-27
EP1066082A1 (en) 2001-01-10
AU3097499A (en) 1999-10-18
DE69928234D1 (de) 2005-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4233758B2 (ja) 医療電極、及び、その製造方法
US6024702A (en) Implantable electrode manufactured with flexible printed circuit
EP1370322B1 (en) Lead with adjustable angular and spatial relationships between electrodes
US8170638B2 (en) MEMS flexible substrate neural probe and method of fabricating same
US4969468A (en) Electrode array for use in connection with a living body and method of manufacture
US7039470B1 (en) Medical lead and method for medical lead manufacture
US5902236A (en) Tissue electrode for recording and stimulation
US7445522B2 (en) Electrode connector
EP2617459B1 (en) Implantable neural interface device with a deformable carrier
US7941201B2 (en) Microprobe array structure and method for manufacturing the same
US8435079B1 (en) Electrode for recording and stimulation
US9155486B2 (en) Intracranial sensing and monitoring device with macro and micro electrodes
US20030100823A1 (en) Device for creating a neural interface and method for making same
KR20090047498A (ko) 층상 전극 어레이 및 케이블
KR101616294B1 (ko) 하이브리드형 미세전극 배열체 및 그것의 제조 방법
US20230277137A1 (en) Flexible neural electrode array
US11602630B2 (en) Systems and methods for flexible electrode arrays
KR101613578B1 (ko) 전극 배열체 및 그 제조 방법
US20190254546A1 (en) Neural multielectrode arrays and their manufacture and use
CN117618768B (zh) 一种外周神经定向空间刺激记录的立体柔性电极及其制备方法
WO2016209171A1 (en) Neuroprosthetics devices and methods for providing a neuroprosthetics device
KR20240051426A (ko) 와이어 프로브 및 그를 포함하는 뇌 모니터링 시스템
KR20230112831A (ko) 뇌 삽입 전극을 고정하는 두피 봉합 클립
CN117618768A (zh) 一种外周神经定向空间刺激记录的立体柔性电极及其制备方法
CN112604153A (zh) 电极、电路板及电子设备

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060309

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070515

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20070815

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20070822

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071115

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20071121

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080115

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20080415

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20080422

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080605

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080708

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20081008

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081016

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20081016

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20081111

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20081210

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111219

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111219

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121219

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121219

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131219

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees