JP4211258B2 - LIGHTING DEVICE MANUFACTURING METHOD, DISPLAY DEVICE USING LIGHTING DEVICE - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は照明装置と照明装置の製造方法、及び照明装置を用いた表示装置とに係り、特に、表示装置の観測側に配置されるフロントライトとして適用可能な照明装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来から液晶表示装置等の電気光学表示装置において、太陽光などの外光を観察者側から液晶パネル等の電気光学パネル内に入射し、入射光のうち電気光学パネル内において反射される反射光を観察者側に出射する形式の反射型表示装置が知られている。しかしながら、反射型表示装置は、暗所では表示が視認困難となる場合があるため、電気光学パネルの観察者側(観察側又は視認側)にフロントライトとして照明装置を備えた反射型表示装置が提案されている。
【0003】
このようなフロントライトとしては、光源を電気光学パネルの側方に配置する側方配置型と光源を電気光学パネルの視認側に配置する前方配置型とが知られている。このうち、前者の側方配置型のフロントライトは、電気光学パネルの視認側の側方に配置される光源と、電気光学パネルの視認側に配置され、光源から出射された光を電気光学パネル側に照射するための導光板とを備えて構成されている。一方、後者の前面配置型のフロントライトは、透明基板に設けられた発光素子からなる発光部を有し、発光素子の発光方向を電気光学パネル側に向けた構造を有している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、このようなフロントライトに適用される照明装置としては、発光部が、例えば陰極と陽極との間に介在する発光層を具備してなるものがあり、具体的には、発光層がEL等の電界発光材料を主体として構成され、陰極と陽極との間に電界を発生させることで発光層における発光を実現している。このように発光部にて発光された光は、上述した電気光学パネルに入射された後、この電気光学パネルにて反射され、反射光が、例えばストライプ状に形成された発光部の間隙を介して観察者側に出射される。したがって、このように発光部をストライプ状に配設したフロントライトは前面配置型として適用可能となる。
【0005】
ところで、ストライプ状の微細構造を具備した発光部を実現するために、例えば陰極をストライプ状に微細パターン化する構成が考えられるが、陰極材料として例えば陰極から発光層への電子注入効率を高め、陰極としての安定性を保ち、反射率を確保するために、仕事関数の小さいCa等のアルカリ土類金属を含む場合、アルカリ土類金属の反応性が極めて高いため、フォトエッチングによる微細パターン化は極めて困難である。そこで、マスク蒸着により陰極等を微細パターン化させる手法があるが、ストライプの線幅が少なくとも60μm程度と大きくなり、例えば前面配置型のフロントライトとして用いると、ストライプ状の影が視認される場合があり、良好な表示が得られなくなる場合がある。
【0006】
本発明は上述の問題点に鑑みてなされたものであり、被照明体として液晶表示装置等の電気光学表示装置を照明するのに好適な照明装置であって、特に電気光学表示装置のフロントライトとして好適な照明装置を提供することを目的とする。また、本発明はこのような照明装置を製造するのに適した製造方法と、さらには、この照明装置を備えた液晶表示装置等の表示装置とを提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明の照明装置は、一対の基板間に発光部を具備する照明装置であって、発光部は、少なくとも陰極と、発光層と、陽極とをこの順で積層して含み、陰極はアルカリ土類金属を主体とするアルカリ土類金属層を備え、陽極は透明電極であって、基板面内で所定形状にパターニングされていることを特徴とする。
【0008】
この場合、基板面内で所定形状にパターニングされた陽極に従って、発光部を所定形状にパターニングさせることが可能となり、例えば被照明体のフロントライトとして用いることが可能となる。すなわち、パターニング形成された陽極(発光部)の間隙から被照明体の反射光をフロント側、つまり当該照明装置の被照明体とは反対側に反射光を出射させ、表示に供させることが可能となる。また、この場合、陽極は例えばITO(Indium-Tin-Oxide)又はIZO(Indium-Zinc-Oxide)等の透明電極であるため、フォトプロセスによるパターニングが可能で、微細なパターン形成が可能となる。つまり、フォトプロセスが困難なCa,Mg等のアルカリ土類金属層を例えばマスク蒸着によりパターン形成する場合や、発光層を例えば塗布によりパターン形成する場合に比して、確実に微細な、例えば50μm以下のパターン形成を実現することができる。したがって、例えば当該照明装置を被照明体のフロントライトとして用い、被照明体からの反射光をパターン形成された陽極(発光部)の間隙から出射させて表示を行う場合にも、例えばパターン形状の影が視認されてしまう等の不具合が生じ難くなる。
【0009】
上記陽極は、基板面内で複数の線状にパターニングされているものとすることができる。この場合、当該照明装置を被照明体のフロントライトとして用い、被照明体からの反射光を、複数の線状にパターン形成された陽極の間隙から出射させて表示を行うことができるが、この場合も、上述した通り線状の影が視認されてしまう等の不具合が生じ難くなる。なお、具体的に陽極は、線幅5〜20μmの線状にパターニングすることができ、例えばアルカリ土類金属層をマスク蒸着によりパターン形成した場合(線幅は小さくても約60μm)に比して、大幅に微細化させることが可能となる。また、本発明においては、発光部におけるパターニング形成の面積率、すなわちパターニング形成された要素の基板面に対する割合は、5〜20%程度となるように形成されている。これにより、十分な発光部における発光と、反射光の透過とを実現することが可能となる。
【0010】
また、上記発光層は、陽極と陰極との間に、正孔輸送層と、発光本体層と、バッファ層とを少なくともこの順で積層して含むものとすることができる。このような正孔輸送層、発光本体層、バッファ層は微細にパターン形成するのが困難な場合が多いものの、本発明では、陽極をパターン形成しているために、フロントライトとして用いた場合にも視認されるに至らない微細なパターンの発光部を実現することが可能とされている。
【0011】
なお、正孔輸送層としては例えばPEDT(ポリエチレンジオキシチオフェン)等の導電性ポリマーを、発光本体層としては例えば高分子ELを、バッファ層としては例えばLiFを主体として構成することができる。この場合、正孔輸送層及び発光本体層は例えばスピンコート、印刷等による塗布により、バッファ層は例えば真空蒸着等によるマスク蒸着により形成することができる。
【0012】
また、正孔輸送層、発光本体層、バッファ層、及びアルカリ土類金属層は、パターニングされた個々の陽極に跨って形成されているものとすることができる。すなわち、陽極を線状等にパターニング形成する一方、正孔輸送層、発光本体層、バッファ層、及びアルカリ土類金属層を基板面内にパターン形成せず、面内ベタ状に非パターン形成したため、簡便な構成にて発光部を微細にパターン化させることが可能となる。なお、正孔輸送層、発光本体層、バッファ層、及びアルカリ土類金属層が、照明領域全域に跨って略板状に形成されているものとすることもできる。
【0013】
さらに、陰極は、例えばCa,Mg等を主体として構成されるアルカリ土類金属層と、Al又はAgを主体とする反射電極層とが積層された構成を具備し、アルカリ土類金属層が反射電極層よりも陽極側に形成されるとともに、反射電極層が陽極と略同一の形状にて基板面内でパターニングされているものとすることができる。このように反射電極層を具備させることにより、被照明体に対する光の照射効率が向上するが、反射電極層は非透明性であるために、上記陽極と略同一の形状にて基板面内でパターニングする必要が生じ、このような反射電極層のパターニングによりパターン化した発光部を形成することが可能となる。なお、アルカリ土類金属層は、層厚を2〜40nmとすることができる。このような層厚とすることにより、アルカリ土類金属層を透明に形成することが可能となり、好ましくは層厚を2〜10nmとするのがよい。
【0014】
なお、反射電極層は例えばAlとAgとの合金を主体として構成することができる。また、陰極と基板との間には、例えば樹脂ブラック層又はクロム層等からなる光吸収層を形成することができ、この場合、例えば陰極による観察者側への反射光を防止することが可能となり視認性が向上する。
【0015】
次に、以上のような照明装置は以下の方法にて製造することができる。すなわち、本発明の照明装置の製造方法は、一対の基板間に、少なくとも陰極と、発光層と、陽極とをこの順で積層して含む発光部を具備する照明装置の製造方法であって、
第1の基板上に、少なくとも透明電極を基板面内に所定形状にパターニングして形成する陽極形成工程と、形成した陽極上に発光層を積層する発光層形成工程と、形成した発光層上に陰極の構成部材の一部としてアルカリ土類金属層を積層するアルカリ土類金属層形成工程とを含む第1基板形成工程と、
第2の基板上に、少なくとも陰極の構成部材の残余の層を形成する陰極形成工程を含む第2基板形成工程と、
第1基板形成工程にて形成された第1基板と、第2基板形成工程にて形成された第2基板とを貼り合わせる基板貼合せ工程とを具備することを特徴とする。
【0016】
このような製造方法により、陽極を所定形状にパターニングした上記構成の照明装置を簡便に提供することが可能となる。この場合、陽極形成工程においては、透明電極を真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等にて成膜した後に、フォトエッチングにて所定形状のパターニングを行うものとすることができる。なお、この場合のエッチング又はレジスト剥離は、ウェット或いはドライのいずれでも行うことが可能である。
【0017】
また、発光層形成工程においては、例えば導電性ポリマーを主体として構成される正孔輸送層を形成する正孔輸送層形成工程と、高分子ELを主体として構成される発光本体層を形成する発光本体層形成工程と、LiFを主体として構成されるバッファ層を形成するバッファ層形成工程とを含むものとすることができる。正孔輸送層形成工程及び発光本体層形成工程においては、スピンコート又は印刷にて各層を形成することができ、バッファ層形成工程においては、LiFの真空蒸着にてバッファ層を形成することができる。さらに、アルカリ土類金属層形成工程においては、アルカリ土類金属の真空蒸着によりアルカリ土類金属層を形成することができる。なお、各層を形成した第1基板は、例えば腐食防止のため、不活性ガス雰囲気、又は真空雰囲気にて保管することが好ましい。
【0018】
なお、上記陽極形成工程において、透明電極を基板面内で複数の線状にパターニング形成することで、上述した線状にパターン化した陽極を形成することができる。また、発光層形成工程及びアルカリ土類金属層形成工程において、発光層及びアルカリ土類金属層は、線状にパターニングされた陽極全体に跨って形成するものとすることができ、これにより面内ベタ状の非パターン化した各層を形成することが可能となる。
【0019】
また、第2の基板上に形成する陰極は、陽極のパターン形状に略一致させてパターン形成するものとすることができる。これにより、陰極をAl又はAg等の反射電極にて構成した場合にも、パターン化した発光部を得ることが可能となる。陰極形成工程においては、Al又はAgを主体とする成分又はこれらの合金を真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等にて成膜し、フォトエッチングにて所定形状にパターニングするものとすることができる。なお、第2の基板上に上述した光吸収層を形成する場合にも、所定形状にパターン形成することで、パターン化した発光部を得ることが可能となる。この場合、光吸収層は、例えば樹脂ブラックを主体として形成する場合、樹脂ブラックを塗布した後に、マスク露光、現像、ポストベークを行うことで、所定形状にパターン形成することができる。なお、陰極形成後の第2基板も、例えば腐食防止のため、不活性ガス雰囲気、又は真空雰囲気にて保管することが好ましい。
【0020】
なお、基板貼合せ工程は、真空ないし減圧下、又は不活性ガス雰囲気にて行い、両基板周辺部をエポキシ樹脂等の封止材にて封止するものとすることができる。
【0021】
次に、本発明の表示装置は、上述した構成の照明装置を光源として備えることを特徴とする。このように本発明の照明装置を光源として備える表示装置は、例えば光源をフロントライトとして用い、被照明体から反射光を反射表示する構成とした場合に、微細な影等が視認されることのない良好な表示特性を実現することが可能となる。
【0022】
すなわち、本発明の照明装置は、例えば被照明体の表示装置の表示視認側に光源として配設することが好ましく、この場合、フロントライト型の表示装置を提供することができる。このような表示装置は、例えば被照明体の当該表示装置の表示視認側に光源たる照明装置を配設して、被照明体からの反射光にて反射表示を行うことが可能となる。この場合、被照明体としては、液晶表示装置等の電気光学表示装置を例示することができる。さらに、本発明の照明装置は、例えば額内に絵画、写真等を収めた展示物の光源として用いることもできる。
【0023】
なお、本明細書において、「主体とする」成分とは、構成成分のうち最も含有量の多い成分のことを言うものとする。
【0024】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
まず、図1〜図3に基づいて、本発明に係る実施形態の照明装置を備えた液晶表示装置の構造について説明する。図1は本実施形態の液晶表示装置を分解した概略斜視図、図2は本実施形態の液晶表示装置の部分概略断面図である。本実施形態では、液晶表示装置の一例として、TFT素子をスイッチング素子として用いたアクティブマトリクス型の反射型液晶表示装置を取り上げて説明する。また、各図において、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【0025】
はじめに、図1、図2に基づいて、本実施形態の照明装置を備えた液晶表示装置の全体構造について説明する。図1、図2において、符号10が本実施形態の液晶表示装置、符号20が液晶パネル(被照明体)、符号30が本実施形態の照明装置を示している。図1、図2において、液晶パネル20(液晶表示装置10)の図示上側が表示を視認する側(視認側、即ち観測者側)であり、本実施形態の照明装置30は液晶パネル20の視認側に備えられ、液晶パネル20と照明装置30とが一体化されて液晶表示装置10が構成されている。すなわち、本実施形態において、照明装置30は、視認側から液晶パネル20を照明するフロントライトとして構成されている。
【0026】
図1、図2に示すように、液晶パネル20は、内面にTFT素子28、画素電極29等が形成された素子基板(下側基板)21と、内面に共通電極24が形成された対向基板(上側基板)22とが対向配置され、素子基板21と対向基板22との間に液晶層(電気光学材料層)23が挟持された構造を基本構成とし、対向基板22の図示上側に偏光板等の偏光子25が取り付けられている。なお、液晶層23が基板21、22間に挟持される基本構成としては、基板21、22の周縁部側に図示略のシール材が介在され、実際には基板21、22とシール材とに囲まれて液晶層23が挟持されている。一方、図1においては、偏光子25と液晶層23の表示は省略している。また、図2においては、素子基板21、対向基板22の内面に形成されたTFT素子28、画素電極29、共通電極24等の表示を省略している。
【0027】
次に、本実施形態において、素子基板21、対向基板22の「内面」とは、素子基板21、対向基板22の「液晶層側の面」を意味しているものとする。図1に示すように、素子基板21の内面には、多数のソース線26(データ線)および多数のゲート線27(走査線)が互いに交差するようにマトリクス状に設けられている。各ソース線26と各ゲート線27の交差点の近傍にはTFT素子28が形成されており、各線には各TFT素子28を介して画素電極29が接続されている。一方、対向基板22の内面側には、表示領域に対応するようにITO(インジウム錫酸化物)などからなる透明の共通電極24が形成されている。
【0028】
液晶パネル20において、個々の画素電極29が形成された領域が画素2とされる。また、通常の液晶表示装置では、素子基板21の内面に、赤、緑、青を表示するためのカラーフィルターが設けられるが、本実施形態ではカラーフィルタは略されて、液晶パネル20は白黒表示タイプとして構成されている。
【0029】
本実施形態では、画素電極29は光反射性の金属材料からなり、反射電極として機能する。そして、使用場所が明所では、照明装置30を点灯せず、太陽光や蛍光灯等の外光を視認側から液晶パネル20内に入射し、素子基板21の内面に形成された画素電極29により反射させて再び観察者側(視認側:図示上方)に出射させることにより表示が行われるようになっている。一方、使用場所が暗所では、照明装置30を点灯し、照明装置30により液晶パネル20側に照射された光を素子基板21の内面に形成された画素電極29により反射させて、再び照明装置30を通過させて観察者側(視認側:図示上方)に出射させ、表示が行われるようになっている。なお、画素電極29を反射層とする代わりに、画素電極29とは別に素子基板21の内面に反射層を設ける構成としてもよいのは勿論である。
【0030】
次に、液晶表示装置10に備えられた本実施形態の照明装置30の構造について説明する。図1、図2に示すように本実施形態の照明装置30は、ガラス、透明樹脂等からなる一対の透明の基板301,302と、これら基板301,302間に挟持された発光部300とから概略構成されている。なお、一対の基板のうち、液晶パネル20側(図示下側)に配設された基板301を下側基板、液晶表示装置10の視認側(図示上側)に配設された基板302を上側基板とする。
【0031】
発光部300は、下側基板301側から陽極303と、発光層311と、陰極310とをこの順で積層して含んでいる。陽極303は、ITO(インジウム錫酸化物)からなる透明電極にて構成され、基板301を平面視した場合に複数の線状となるべくパターニングされている。本実施形態の場合、パターニングされた陽極303の線幅は5〜20μm程度とされ、照明領域全域の面積に対し、線状の陽極303の総面積が5〜20%程度とされている。
【0032】
また、発光層311は、陽極303側から正孔輸送層304と、発光本体層305と、バッファ層306とをこの順で積層して含んでおり、複数の線状にパターニングされた陽極303の各々に跨って形成されている。さらに詳しくは、本実施形態の照明装置30の照明領域全域に跨って、正孔輸送層304、発光本体層305、バッファ層306が平面視ベタ状に形成されている。
【0033】
また、陰極310は、発光層311側からアルカリ土類金属層307と、反射電極層308と、光吸収層309とをこの順で積層して含んでおり、アルカリ土類金属層307は複数の陽極303に跨って、すなわち照明領域全域に跨って平面視ベタ状に形成されている。一方、反射電極層308及び光吸収層309は、陽極303の線状パターンと略一致する線状にパターン形成されており、基板積層方向に陽極303と位置合わせされている。
【0034】
以下、照明装置30を構成する各層について詳しく説明する。
まず、陽極303は、上述した通りITOにて構成されており、線状等の所定形状にパターニングされ、パターニングされた線状の各電極の層厚は0.1〜0.2μm程度とされている。なお、陽極303は、例えばIZO(インジウム亜鉛酸化物)を主体とする透明電極にて構成することも可能である。
【0035】
正孔輸送層304は、陽極303から注入される正孔を発光本体層305に輸送する機能をなし、例えばポリエチレンジオキシチオフェン(導電性ポリマー)を主体として構成され、その層厚は0.05〜0.2μm程度とされている。
【0036】
発光本体層305は、例えば高分子EL(エレクトロルミネセンス:有機電界発光物質)を主体とする電界発光材料にて構成され、その層厚は0.05〜0.2μm程度とされている。このような高分子ELにて構成した発光本体層305では、低電圧で発光が可能であるとともに、高い輝度の発光を実現できる。なお、高分子ELを構成する高分子材料としては、例えばフルオレン系高分子誘導体や、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体等を用いることができる。
【0037】
バッファ層306は、陰極310から発光本体層305への電子の注入を促進するための緩衝層として機能しており、LiFを主体して構成され、その層厚は0.5〜5nm程度されている。
【0038】
陰極310の一部を構成するアルカリ土類金属層307は、Ca又はMgを主体として構成されており、透明性を付与するために薄膜形成され、その層厚は0.2〜40nm程度(好ましくは0.2〜10nm程度)とされている。また、同じく陰極310を構成する反射電極層308はAlを主体として構成されており、その層厚は0.1〜0.2μm程度とされている。なお、反射電極層308は、例えばAl合金、又はAg、若しくはAg合金等を主体として構成することも可能である。さらに、光吸収層309は反射電極308からの観察者側への反射光を防止する機能を有しており、樹脂ブラックを主体として構成され、その層厚は0.5〜2μm程度とされている。なお、光吸収層309は、クロムを主体として構成することも可能である。
【0039】
このように本実施形態の照明装置30においては、ITOを主体として構成される陽極303を線状にパターニングして構成し、発光層311及びアルカリ土類金属層307を照明領域全域に跨って平面視ベタ状に構成するとともに、反射電極層308及び光吸収層309を陽極303の線状パターンに略一致させて構成した。したがって、発光部300を線状パターンにて構成することが可能となり、これを液晶パネル20のフロントライトとして用いることで、発光部のパターン形成による線状の影等が視認される等の不具合の生じ難い液晶表示装置10を実現している。また、陽極303、反射電極層308及び光吸収層309をパターン化する場合はフォトプロセスを用いることが可能で、フォトプロセスを行うことが困難な正孔輸送層304、発光本体層305、バッファ層306、アルカリ土類金属層を線状にパターン化する場合に比して、より線幅の小さいパターニングを実現することが可能となる。したがって、本実施形態の照明装置30は、一層微細化したパターンの発光部300を具備する構成となっている。
【0040】
次に、上記液晶表示装置10に備えられた本実施形態の照明装置30の製造方法の一例について説明する。
まず、図3に示すように、下側基板となるガラス基板301上に透明電極(陽極)303を基板面内で線状にパターン形成する(陽極形成工程)。この場合、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の所定の成膜方法にてITO(インジウム錫酸化物)を基板301上に成膜した後、レジストを塗布し、マスク露光、現像、エッチング、レジスト除去を行うフォトプロセスを採用している。したがって、パターン化された陽極303の線幅は20μm以下と微細なものとなっている。なお、エッチング、レジスト除去工程は、ウェット又はドライのいずれの方式を採用することも可能である。
【0041】
次に、図4に示すように、線状にパターン化された陽極303の各々に跨って平面視ベタ状にポリエチレンジオキシチオフェン(PEDT)を塗布し、正孔輸送層304を形成する(正孔輸送層形成工程)。この場合の塗布形成は、スピンコートないし印刷法にて行うものとされている。また、図5に示すように、正孔輸送層304の上層には、高分子EL材料としてフルオレン系高分子誘導体を、スピンコートないし印刷法にて塗布し、発光本体層305を形成する(発光本体層形成工程)。また、図6に示すように、発光本体層305の上層にLiFを真空蒸着させ、バッファ層306を形成する(バッファ層形成工程)。このような正孔輸送層形成工程、発光本体層形成工程、バッファ層形成工程により、発光層311が形成される(発光層形成工程)。
【0042】
さらに、図7に示すように、バッファ層306の上層にCa(アルカリ土類金属)を真空蒸着させ、アルカリ土類金属層307を形成する(アルカリ土類金属層形成工程)。なお、これら正孔輸送層形成工程、発光本体層形成工程、バッファ層形成工程、アルカリ土類金属層形成工程においては、照明領域全域に各層をベタ状に塗布ないし蒸着して成膜するのみとしている。以上の工程により、下側基板301、陽極303、正孔輸送層304、発光本体層305、バッファ層306、アルカリ土類金属層307を含む第1基板が形成される(第1基板形成工程)。なお、形成した第1基板は、不活性ガス雰囲気下、又は真空雰囲気下にて保管される。
【0043】
一方、図8に示すように、上側基板となるガラス基板302に光吸収層たる樹脂ブラック層を基板面内で線状にパターン形成する(光吸収層形成工程)。この場合、樹脂ブラックを塗布した後、マスク露光、現像、ポストベークを行うことで線状のパターンの樹脂ブラックを得ている。
【0044】
また、図9に示すように、ガラス基板302に形成した光吸収層309に対しAlを積層して反射電極層308を形成する。この場合、Alを真空蒸着、スパッタリング等の所定の成膜方法にてガラス基板302ないし光吸収層309に成膜した後、レジストを塗布し、マスク露光、現像、エッチング、レジスト除去を行うことで、光吸収層309に積層された線状のパターンの反射電極層308が得られる。なお、エッチング、レジスト除去工程は、ウェット又はドライのいずれの方式を採用することも可能である。以上の工程により、上側基板302、光吸収層309、反射電極層308を含む第2基板が形成される(第2基板形成工程)。なお、形成した第2基板は、不活性ガス雰囲気下、又は真空雰囲気下にて保管される。
【0045】
以上のような工程により得られた第1基板及び第2基板を、図10に示すように貼り合せることで照明装置30を得る。具体的には、貼合せ工程においては、各基板を不活性ガス雰囲気中で圧着し、圧着した各基板の周辺部をエポキシ樹脂等の封止材にて封止することで貼合せが行われている。なお、不活性ガス雰囲気の他、減圧雰囲気中において圧着を行うものとすることも可能である。
【0046】
このような製造方法により、上記実施形態の照明装置、すなわち微細化したパターンを有する発光部を具備した照明装置を提供することが可能となる。これは、ITO等の透明電極からなる陽極をフォトプロセス工程にてパターニングしたためであり、本実施形態の照明装置30では、この陽極の線状パターン化に基づいて発光部が線状にパターニングされている。
【0047】
次に、上記実施形態の液晶表示装置10を備えた電子機器の具体例について説明する。図11(a)は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図11(a)において、符号500は携帯電話本体を示し、符号501は上記実施形態の液晶表示装置10を用いた液晶表示部を示している。図11(b)は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図11(b)において、符号600は情報処理装置、符号601はキーボードなどの入力部、符号603は情報処理装置本体、符号602は上記実施形態の液晶表示装置10を用いた液晶表示部を示している。図11(c)は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図11(c)において、符号700は時計本体を示し、符号701は上記実施形態の液晶表示装置10を用いた液晶表示部を示している。図11(a)〜(c)に示すそれぞれの電子機器は、上記実施形態の液晶表示装置10を用いた液晶表示部を備えたものであるので、フロントライトによる常に明るい反射表示を行うことが可能で、特にフロントライトの発光部のパターン形状基づいて、影が視認される等の表示不具合が生じ難いものとなる。
【0048】
なお、これまで説明した実施形態においては、液晶表示装置に本発明の照明装置を適用した例について述べてきたが、本発明の照明装置は液晶表示装置用の照明装置に限らないのは勿論である。すなわち、例えば額に収めた写真、絵画等の展示物を照明するための照明装置として、本発明の照明装置を単独で他の部材や場所の照明用として適用することができる。
【0049】
【発明の効果】
以上のように本発明の照明装置は、ITO等の透明電極からなる陽極を線状にパターニングして構成し、発光層及びアルカリ土類金属層を照明領域全域に跨って平面視ベタ状に構成するとともに、反射電極層及び光吸収層を陽極の線状パターンに略一致させて構成した。したがって、陽極、発光層、陰極から構成される発光部を線状パターンにて構成することが可能となり、これを液晶パネルのフロントライトとして用いることで、発光部のパターン形成による線状の影等が視認される等の不具合の生じ難い液晶表示装置を実現することが可能となる。
【0050】
また、陽極、反射電極層及び光吸収層をパターン化する工程においてフォトプロセスを用いることが可能で、正孔輸送層、発光本体層、バッファ層、アルカリ土類金属層を線状にパターン化する場合に比して、より線幅の小さいパターニングを実現することが可能となる。したがって、本発明の照明装置は、一層微細化したパターンの発光部を具備する構成となり、そのパターンに基づく線状の影が視認される等の不具合が一層生じ難いものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る実施形態の照明装置を備えた液晶表示装置の一例について概略を示す分解斜視図。
【図2】 図1の液晶表示装置の部分断面模式図。
【図3】 図1の照明装置の製造方法を示す説明図。
【図4】 図3に続く、照明装置の製造方法を示す説明図。
【図5】 図4に続く、照明装置の製造方法を示す説明図。
【図6】 図5に続く、照明装置の製造方法を示す説明図。
【図7】 図6に続く、照明装置の製造方法を示す説明図。
【図8】 図7に続く、照明装置の製造方法を示す説明図。
【図9】 図8に続く、照明装置の製造方法を示す説明図。
【図10】 図9に続く、照明装置の製造方法を示す説明図。
【図11】 上記実施形態の液晶表示装置を備えた電子機器について、幾つかの例を示す斜視図。
【符号の説明】
10 液晶表示装置
20 液晶パネル
30 照明装置
300 発光部
301 下側基板
302 上側基板
303 陽極
304 正孔輸送層
305 発光本体層
306 バッファ層
307 アルカリ土類金属層
308 反射電極層
309 光吸収層
310 陰極
311 発光層[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an illuminating device, a method for manufacturing the illuminating device, and a display device using the illuminating device, and more particularly to an illuminating device applicable as a front light arranged on the observation side of the display device.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, in an electro-optical display device such as a liquid crystal display device, external light such as sunlight is incident on an electro-optical panel such as a liquid crystal panel from the observer side, and reflected light reflected in the electro-optical panel from incident light A reflection type display device that emits light toward the viewer is known. However, since the reflective display device may be difficult to visually recognize in a dark place, there is a reflective display device that includes an illumination device as a front light on the viewer side (observation side or viewing side) of the electro-optical panel. Proposed.
[0003]
As such a front light, a side arrangement type in which a light source is arranged on the side of an electro-optical panel and a front arrangement type in which a light source is arranged on the viewing side of the electro-optical panel are known. Among these, the former laterally arranged type front light is a light source disposed on the side of the electro-optical panel on the viewing side, and the light emitted from the light source is disposed on the viewing side of the electro-optical panel. And a light guide plate for irradiating the side. On the other hand, the latter front-facing type front light has a light emitting portion made of a light emitting element provided on a transparent substrate, and has a structure in which the light emitting direction of the light emitting element faces the electro-optical panel side.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, as an illuminating device applied to such a front light, there is one in which a light emitting part includes a light emitting layer interposed between, for example, a cathode and an anode. Specifically, the light emitting layer is an EL. The main component is an electroluminescent material such as the above, and light emission in the light emitting layer is realized by generating an electric field between the cathode and the anode. The light emitted from the light emitting unit in this way is incident on the above-described electro-optical panel and then reflected by the electro-optical panel, and the reflected light passes through the gap between the light emitting units formed in, for example, stripes. To the observer side. Therefore, the front light in which the light emitting portions are arranged in stripes as described above can be applied as a front arrangement type.
[0005]
By the way, in order to realize a light-emitting portion having a stripe-like microstructure, for example, a configuration in which the cathode is finely patterned in a stripe shape can be considered, but as a cathode material, for example, the electron injection efficiency from the cathode to the light-emitting layer is increased, In order to maintain stability as a cathode and ensure reflectivity, when an alkaline earth metal such as Ca having a small work function is included, the alkaline earth metal has extremely high reactivity, so that fine patterning by photoetching is possible. It is extremely difficult. Therefore, there is a method of finely patterning the cathode or the like by mask vapor deposition, but the stripe line width becomes as large as at least about 60 μm. For example, when it is used as a front arrangement type front light, a stripe-shaped shadow may be visually recognized. In some cases, a good display cannot be obtained.
[0006]
The present invention has been made in view of the above-described problems, and is an illumination device suitable for illuminating an electro-optical display device such as a liquid crystal display device as an object to be illuminated, and particularly a front light of the electro-optical display device. An object of the present invention is to provide a suitable lighting device. Another object of the present invention is to provide a manufacturing method suitable for manufacturing such a lighting device, and a display device such as a liquid crystal display device including the lighting device.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problems, the lighting device of the present invention is a lighting device including a light emitting portion between a pair of substrates, and the light emitting portion includes at least a cathode, a light emitting layer, and an anode stacked in this order. The cathode includes an alkaline earth metal layer mainly composed of an alkaline earth metal, and the anode is a transparent electrode, and is patterned into a predetermined shape within the substrate surface.
[0008]
In this case, the light emitting portion can be patterned into a predetermined shape according to the anode patterned into a predetermined shape within the substrate surface, and can be used, for example, as a front light of an illuminated object. That is, the reflected light of the object to be illuminated can be emitted from the gap between the patterned anodes (light emitting parts) to the front side, that is, the side opposite to the object to be illuminated of the illumination device, and used for display. It becomes. In this case, since the anode is a transparent electrode such as ITO (Indium-Tin-Oxide) or IZO (Indium-Zinc-Oxide), patterning by a photo process is possible, and a fine pattern can be formed. In other words, compared to the case where an alkaline earth metal layer such as Ca, Mg or the like, which is difficult to be photoprocessed, is patterned by, for example, mask vapor deposition or the light emitting layer is patterned by, for example, coating, it is surely fine, for example 50 μm The following pattern formation can be realized. Therefore, for example, when the illumination device is used as a front light of an object to be illuminated and the reflected light from the object to be illuminated is emitted from the gap between the patterned anodes (light emitting portions), for example, the pattern shape Problems such as the shadow being visually recognized are less likely to occur.
[0009]
The anode may be patterned into a plurality of lines in the substrate surface. In this case, the illumination device can be used as a front light of the object to be illuminated, and the reflected light from the object to be illuminated can be emitted from the gaps between the anodes that are patterned in a plurality of lines. Even in this case, it is difficult to cause problems such as the fact that a linear shadow is visually recognized as described above. Specifically, the anode can be patterned into a line having a line width of 5 to 20 μm. For example, the anode can be patterned by mask evaporation (line width is about 60 μm even if the line width is small). As a result, it becomes possible to greatly reduce the size. Further, in the present invention, the area ratio of patterning formation in the light emitting portion, that is, the ratio of the patterned elements to the substrate surface is formed to be about 5 to 20%. Thereby, it is possible to realize sufficient light emission in the light emitting section and transmission of reflected light.
[0010]
In addition, the light emitting layer may include a hole transport layer, a light emitting main body layer, and a buffer layer laminated at least in this order between the anode and the cathode. Although such a hole transport layer, a light emitting body layer, and a buffer layer are often difficult to pattern finely, in the present invention, since the anode is patterned, when used as a front light It is possible to realize a light emitting portion having a fine pattern that is not visually recognized.
[0011]
The hole transport layer can be composed mainly of a conductive polymer such as PEDT (polyethylenedioxythiophene), the light emitting body layer can be composed of, for example, polymer EL, and the buffer layer can be composed mainly of LiF. In this case, the hole transport layer and the light emitting main body layer can be formed by, for example, spin coating, printing, or the like, and the buffer layer can be formed by, for example, mask deposition by vacuum deposition or the like.
[0012]
Further, the hole transport layer, the light emitting main body layer, the buffer layer, and the alkaline earth metal layer may be formed across the patterned individual anodes. That is, while the anode was patterned and formed in a linear shape or the like, the hole transport layer, the light emitting body layer, the buffer layer, and the alkaline earth metal layer were not patterned in the substrate surface, but were not patterned in an in-plane solid shape. It becomes possible to finely pattern the light emitting portion with a simple configuration. Note that the hole transport layer, the light emitting main body layer, the buffer layer, and the alkaline earth metal layer may be formed in a substantially plate shape across the entire illumination region.
[0013]
Further, the cathode has a configuration in which, for example, an alkaline earth metal layer mainly composed of Ca, Mg or the like and a reflective electrode layer mainly composed of Al or Ag are laminated, and the alkaline earth metal layer is reflected. It can be formed on the anode side of the electrode layer, and the reflective electrode layer can be patterned in the substrate surface in substantially the same shape as the anode. By providing the reflective electrode layer in this manner, the irradiation efficiency of the light to the object to be illuminated is improved. However, since the reflective electrode layer is non-transparent, it has the same shape as the anode in the substrate plane. Patterning is required, and a patterned light emitting portion can be formed by patterning such a reflective electrode layer. The alkaline earth metal layer can have a layer thickness of 2 to 40 nm. By setting it as such layer thickness, it becomes possible to form an alkaline-earth metal layer transparently, Preferably it is good to set a layer thickness to 2-10 nm.
[0014]
The reflective electrode layer can be composed mainly of, for example, an alloy of Al and Ag. In addition, a light absorption layer made of, for example, a resin black layer or a chromium layer can be formed between the cathode and the substrate, and in this case, for example, it is possible to prevent light reflected by the cathode toward the viewer side. Visibility is improved.
[0015]
Next, the lighting device as described above can be manufactured by the following method. That is, the manufacturing method of the lighting device of the present invention is a manufacturing method of a lighting device including a light emitting unit including at least a cathode, a light emitting layer, and an anode stacked in this order between a pair of substrates,
On the first substrate, at least a transparent electrode is patterned and formed in a predetermined shape on the substrate surface, an anode forming step, a light emitting layer forming step of laminating a light emitting layer on the formed anode, and on the formed light emitting layer A first substrate forming step including an alkaline earth metal layer forming step of laminating an alkaline earth metal layer as a part of a component of the cathode;
A second substrate forming step including a cathode forming step of forming at least a remaining layer of a constituent member of the cathode on the second substrate;
It comprises a substrate bonding step of bonding the first substrate formed in the first substrate forming step and the second substrate formed in the second substrate forming step.
[0016]
With such a manufacturing method, it is possible to simply provide the illumination device having the above-described configuration in which the anode is patterned into a predetermined shape. In this case, in the anode forming step, a transparent electrode can be formed by vacuum evaporation, sputtering, ion plating, etc., and then patterned into a predetermined shape by photoetching. Note that etching or resist stripping in this case can be performed by either wet or dry.
[0017]
In the light emitting layer forming step, for example, a hole transporting layer forming step for forming a hole transporting layer mainly composed of a conductive polymer and a light emitting for forming a light emitting main body layer mainly composed of a polymer EL. A main body layer forming step and a buffer layer forming step of forming a buffer layer mainly composed of LiF can be included. In the hole transport layer forming step and the light emitting body layer forming step, each layer can be formed by spin coating or printing, and in the buffer layer forming step, the buffer layer can be formed by vacuum deposition of LiF. . Furthermore, in the alkaline earth metal layer forming step, the alkaline earth metal layer can be formed by vacuum deposition of alkaline earth metal. The first substrate on which each layer is formed is preferably stored in an inert gas atmosphere or a vacuum atmosphere, for example, to prevent corrosion.
[0018]
In the anode forming step, the above-described linearly patterned anode can be formed by patterning the transparent electrode into a plurality of lines within the substrate surface. Further, in the light emitting layer forming step and the alkaline earth metal layer forming step, the light emitting layer and the alkaline earth metal layer can be formed across the entire anode patterned in a linear manner. It is possible to form solid, non-patterned layers.
[0019]
Further, the cathode formed on the second substrate can be patterned so as to substantially match the pattern shape of the anode. Thereby, even when the cathode is formed of a reflective electrode such as Al or Ag, a patterned light emitting portion can be obtained. In the cathode forming step, a component mainly composed of Al or Ag or an alloy thereof can be formed by vacuum deposition, sputtering, ion plating, or the like, and patterned into a predetermined shape by photoetching. In addition, also when forming the light absorption layer mentioned above on the 2nd board | substrate, it becomes possible to obtain the patterned light emission part by pattern-forming in a predetermined shape. In this case, for example, when the light absorption layer is formed mainly of resin black, the pattern can be formed in a predetermined shape by performing mask exposure, development, and post-baking after applying the resin black. The second substrate after forming the cathode is also preferably stored in an inert gas atmosphere or a vacuum atmosphere, for example, to prevent corrosion.
[0020]
In addition, a board | substrate bonding process can be performed under vacuum or pressure reduction, or in inert gas atmosphere, and can seal both board | substrate peripheral parts with sealing materials, such as an epoxy resin.
[0021]
Next, a display device of the present invention includes the illumination device having the above-described configuration as a light source. As described above, when a display device including the illumination device of the present invention as a light source, for example, a light source is used as a front light and reflected light is reflected from an object to be illuminated, a minute shadow or the like is visually recognized. It is possible to realize good display characteristics.
[0022]
That is, the illumination device of the present invention is preferably arranged as a light source on the display viewing side of the display device of the object to be illuminated, for example. In this case, a front light type display device can be provided. In such a display device, for example, an illuminating device as a light source is provided on the display viewing side of the illuminating body, and reflection display can be performed with reflected light from the illuminating body. In this case, an electro-optical display device such as a liquid crystal display device can be exemplified as the object to be illuminated. Furthermore, the lighting device of the present invention can also be used as a light source for exhibits exhibiting paintings, photographs, etc. in the frame.
[0023]
In the present specification, the “mainly” component means a component having the highest content among the constituent components.
[0024]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
First, based on FIGS. 1-3, the structure of the liquid crystal display device provided with the illuminating device of embodiment which concerns on this invention is demonstrated. FIG. 1 is an exploded schematic perspective view of the liquid crystal display device of this embodiment, and FIG. 2 is a partial schematic cross-sectional view of the liquid crystal display device of this embodiment. In the present embodiment, an active matrix reflection type liquid crystal display device using TFT elements as switching elements will be described as an example of the liquid crystal display device. Moreover, in each figure, in order to make each layer and each member large enough to be recognized on the drawing, the scale is different for each layer and each member.
[0025]
First, the overall structure of the liquid crystal display device including the illumination device of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2,
[0026]
As shown in FIGS. 1 and 2, a
[0027]
Next, in this embodiment, the “inner surface” of the
[0028]
In the
[0029]
In the present embodiment, the
[0030]
Next, the structure of the
[0031]
The
[0032]
The light-emitting
[0033]
The
[0034]
Hereinafter, each layer which comprises the illuminating
First, the
[0035]
The
[0036]
The light emitting
[0037]
The
[0038]
The alkaline
[0039]
As described above, in the
[0040]
Next, an example of a method for manufacturing the
First, as shown in FIG. 3, a transparent electrode (anode) 303 is linearly formed in a substrate surface on a
[0041]
Next, as shown in FIG. 4, polyethylene dioxythiophene (PEDT) is applied in a planar shape across each of the linearly patterned
[0042]
Further, as shown in FIG. 7, Ca (alkaline earth metal) is vacuum-deposited on the upper layer of the
[0043]
On the other hand, as shown in FIG. 8, a resin black layer serving as a light absorption layer is formed in a linear pattern within the substrate surface on a
[0044]
Further, as shown in FIG. 9, a
[0045]
The
[0046]
With such a manufacturing method, it is possible to provide the illumination device of the above-described embodiment, that is, the illumination device including a light emitting unit having a miniaturized pattern. This is because an anode made of a transparent electrode such as ITO was patterned by a photo process, and in the
[0047]
Next, a specific example of an electronic device including the liquid
[0048]
In the embodiments described so far, the example in which the illumination device of the present invention is applied to the liquid crystal display device has been described. However, the illumination device of the present invention is not limited to the illumination device for the liquid crystal display device. is there. That is, for example, as an illumination device for illuminating exhibits such as photographs and paintings contained in a forehead, the illumination device of the present invention can be applied alone for illumination of other members and places.
[0049]
【The invention's effect】
As described above, the lighting device of the present invention is configured by linearly patterning the anode made of a transparent electrode such as ITO, and the light emitting layer and the alkaline earth metal layer are formed in a solid shape in plan view across the entire illumination area. In addition, the reflective electrode layer and the light absorption layer were configured to substantially coincide with the linear pattern of the anode. Therefore, it is possible to configure a light emitting portion composed of an anode, a light emitting layer, and a cathode in a linear pattern. By using this as a front light of a liquid crystal panel, a linear shadow or the like due to the pattern formation of the light emitting portion. It is possible to realize a liquid crystal display device that is less likely to cause problems such as being visually recognized.
[0050]
In addition, a photo process can be used in the step of patterning the anode, the reflective electrode layer, and the light absorption layer, and the hole transport layer, the light emitting body layer, the buffer layer, and the alkaline earth metal layer are linearly patterned. Compared to the case, patterning with a smaller line width can be realized. Therefore, the illumination device of the present invention has a configuration including a light-emitting portion having a further miniaturized pattern, and problems such as a linear shadow being visually recognized based on the pattern are less likely to occur.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an exploded perspective view schematically illustrating an example of a liquid crystal display device including an illumination device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a partial cross-sectional schematic diagram of the liquid crystal display device of FIG.
3 is an explanatory view showing a method for manufacturing the lighting device of FIG. 1. FIG.
FIG. 4 is an explanatory view showing a method for manufacturing the lighting device following FIG. 3;
FIG. 5 is an explanatory diagram illustrating a method for manufacturing the lighting device, following FIG. 4;
FIG. 6 is an explanatory diagram illustrating a method for manufacturing the lighting device, following FIG. 5;
FIG. 7 is an explanatory diagram illustrating a method for manufacturing the lighting device, following FIG. 6;
FIG. 8 is an explanatory diagram illustrating a method for manufacturing the lighting device, following FIG. 7;
FIG. 9 is an explanatory diagram illustrating a method for manufacturing the lighting device, following FIG. 8;
FIG. 10 is an explanatory diagram illustrating a method for manufacturing the lighting device, following FIG. 9;
11 is a perspective view illustrating some examples of an electronic apparatus including the liquid crystal display device according to the embodiment. FIG.
[Explanation of symbols]
10 Liquid crystal display device
20 LCD panel
30 Lighting device
300 Light emitting part
301 Lower substrate
302 Upper substrate
303 anode
304 Hole transport layer
305 Light-emitting body layer
306 Buffer layer
307 Alkaline earth metal layer
308 Reflective electrode layer
309 Light absorption layer
310 cathode
311 Light emitting layer
Claims (5)
第1の基板上に、少なくとも透明電極を該基板面内に所定形状にパターニングする陽極形成工程と、形成した陽極上に発光層を積層する発光層形成工程と、形成した発光層上に陰極の構成部材の一部としてアルカリ土類金属層を前記陽極の全体に跨るように積層するアルカリ土類金属層形成工程とを含む第1基板形成工程と、
第2の基板上に、少なくとも陰極の構成部材の残余の層を前記透明電極に略一致する形状にパターニングする陰極形成工程を含む第2基板形成工程と、
前記第1基板形成工程にて形成された第1基板と、前記第2基板形成工程にて形成された第2基板とを貼り合わせる基板貼合せ工程とを具備し、
前記残余の層は、前記基板貼合せ工程時に、平面視した状態で前記透明電極に重なるように配置されることを特徴とする照明装置の製造方法。A manufacturing method of an illumination device including a light emitting unit including a stack of at least a cathode, a light emitting layer, and an anode in this order between a pair of substrates,
An anode forming step of patterning at least a transparent electrode in a predetermined shape on the first substrate, a light emitting layer forming step of laminating a light emitting layer on the formed anode, and a cathode on the formed light emitting layer. A first substrate forming step including an alkaline earth metal layer forming step of laminating an alkaline earth metal layer as part of the constituent member so as to straddle the entire anode ;
A second substrate forming step including a cathode forming step of patterning at least a remaining layer of the cathode component on the second substrate into a shape substantially matching the transparent electrode;
A substrate laminating step for laminating the first substrate formed in the first substrate forming step and the second substrate formed in the second substrate forming step;
The said remaining layer is arrange | positioned so that it may overlap with the said transparent electrode in the state seen planarly at the time of the said board | substrate bonding process.
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