JP4210754B2 - 金属錯体デンドリマー及びその用途 - Google Patents
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Description
また、ITOガラス上に、芳香族ジアミンの第1層(ホール移動層)、Alq3の第2層(発光層)を形成し、Mg/Ag電極で挟みこんだ、二層系ELデバイスが報告されている。二層の有機薄膜のモルホロジーがデバイス性能を左右し、両層ともにスムースで連続的でなければならないが、芳香族ジアミン層がアモルファス性である一方で、Alq3層は500Åの平均サイズを持った微結晶からなっていることが知られている。(非特許文献1参照)
C. W. Tang and S. A. VanSlyke, Appl. Phys. Lett. 51, 913 (1987)
薄膜デバイスとして急速に成長しているELに用いられるAlq3ならびに類縁化合物群は、概して溶解性が低いため、湿式法による薄膜形成が困難で、真空蒸着法により製造されてきた。本発明は、これら従来、難溶性とされるAlq3など、デバイス機能を担う分子を、易溶性ならびにアモルファス性としたもので、湿式法による分子デバイス形成を可能にする分子材料を提供するものである。
本発明は、有機溶剤に溶解しやすい金属錯体デンドリマー及びその用途を開発する。
本発明のデンドリマーをあらかじめデバイス機能の一端を担う分子を含有させた薄膜デバイスは、多層薄膜化を要しない単層薄膜用の分子材料を可能にした。
本発明の錯体において用いる金属原子は、Al,Zn,Be,Ge,Ge,Mgから選ばれる金属であるが、とくに、Alが好ましい。
本発明で用いるデンドロン化合物は、次のようにして多段階反応により合成した。すなわち、
一般式
一般式
で表わされる化合物(N−エチニルフェニルカルバゾール類)を反応させて、
一般式
で表わされる化合物(トリフェニルアミン−カルバゾール複合体)を得、次いで化学式
一般式
で表わされる化合物(カルバゾール−トリフェニルアミン−キノリン複合体)を得、ついで加水分解を行って、
一般式
で表わされるデンドロン化合物(カルバゾール−トリフェニルアミン−キノリノール複合体)を得る。又は、次の方法により製造することも出来る。すなわち、
化学式
一般式
一般式
一般式
で表わされる化合物(N−エチニルフェニルカルバゾール類)と反応させて、
一般式
で表わされる化合物(カルバゾール−トリフェニルアミン−キノリン複合体)を得、ついで加水分解を行って、
一般式
で表わされるデンドロン化合物(カルバゾール−トリフェニルアミン−キノリノール複合体)を得ることができる。
(8-アセトキシ-7-{4-ビス[4-(9-カルバゾリル)フェニルエチニル]-(4’-エチニルフェニル)アミノ}フェニルエチニル5-クロロキノリンの製造)
Route A.
トリス(4-ヨードフェニルアミン) (5.157 g, 8.278 mmol)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.121 g, 0.172 mmol)及びヨウ化銅(0.065 g, 0.341 mmol)の混合物をテトラヒドロフラン(50 ml)-トリエチルアミン(35 ml)の混合溶媒中、窒素下室温で撹拌し、この溶液に9-(4-エチニルフェニル)カルバゾール(4.427 g, 16.560 mmol)のテトラヒドロフラン溶液(35 ml)を一時間かけて滴下した。得られた溶液を4時間撹拌した後、ろ過、溶媒を留去して得られた残差をシリカゲルによるカラムクロマトグラフィーでクロロホルム-ヘキサン(1: 2 v/v)を流出溶媒として精製し、目的物を含む混合物を得た。続いて得られた混合物、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.053 g, 0.076 mmol)及びヨウ化銅(0.037 g, 0.194 mmol)の混合物をテトラヒドロフラン(30 ml)-トリエチルアミン(15 ml)の混合溶媒中、窒素下室温で撹拌し、この溶液に8-アセトキシ-5-クロロ-7-エチニルキノリン(0.733 g, 2.984 mmol)のテトラヒドロフラン溶液(15 ml)を15分かけて滴下した。得られた溶液を2時間撹拌した後、ろ過、溶媒を留去して得られた残差をシリカゲルによるカラムクロマトグラフィーでクロロホルムを流出溶媒として精製し、最後にジクロロメタン-メタノールで再結晶する事により、15.6%の収率(2段階)で粉末として得た。
Route B:
1) 8-アセトキシ7-[4’-ビス(4”-ヨードフェニル)アミノフェニルエチニル]-5-クロロキノリンの製造
トリス(4-ヨードフェニルアミン) (5.002 g, 8.029 mmol)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.134 g, 0.191 mmol)及びヨウ化銅(0.068 g, 0.357 mmol)の混合物をテトラヒドロフラン(50 ml)-トリエチルアミン(35 ml)の混合溶媒中、窒素下室温で撹拌し、この溶液に8-アセトキシ-5-クロロ-7-エチニルキノリン(1.973 g, 8.031 mmol)のテトラヒドロフラン溶液(35 ml)を30分かけて滴下した。得られた溶液を5時間撹拌した後、ろ過、溶媒を留去して得られた残差をシリカゲルによるカラムクロマトグラフィーでクロロホルムを流出溶媒として精製し、最後にジクロロメタン-メタノールで再結晶する事により、目的物を36.9%の収率で粉末として得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3, TMS): δ (ppm) 2.55 (s, 3H, CH3), 6.86 (d, J 8.7 Hz, 4H, arom. H), 7.02 (d, J 8.6 Hz, 2H, arom. H), 7.41 (t, J 8.6 Hz, 2H, arom. H), 7.53(dd, J 8.55 and 4.2 Hz, 1H, quinoline H), 7.58 (d, J 8.7 Hz, 4H, arom. H), 7.745 (s, 1H, quinoline H), 8.53 (dd, J 8.5 and 1.5 Hz, 1H, quinoline H), 8.97 (dd, J 4.15 and 1.4 Hz, 1H, quinoline H).
2) 8-アセトキシ-7-{4-ビス[4-(9-カルバゾリル)フェニルエチニル]-(4’-エチニルフェニル)アミノ}フェニルエチニル5-クロロキノリンの製造
8-アセトキシ-7-[4’-ビス(4”-ヨードフェニル)アミノフェニルエチニル]-5-クロロキノリン(2.001 g, 2.701 mmol)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.054 g, 0.077 mmol)及びヨウ化銅(0.055 g, 0.289 mmol)の混合物をテトラヒドロフラン(30 ml)-トリエチルアミン(15 ml)の混合溶媒中、窒素下室温で撹拌し、この溶液に9-(4-エチニルフェニル)カルバゾール(1.893 g, 7.081 mmol)のテトラヒドロフラン溶液(15 ml)を15分かけて滴下した。得られた溶液を17時間撹拌した後、ろ過、溶媒を留去して得られた残差をシリカゲルによるカラムクロマトグラフィーでクロロホルムを流出溶媒として精製し、最後にジクロロメタン-メタノールで再結晶する事により、目的物を79.6%の収率で粉末として得た。
1H NMR (400 MHz, THF-d8): δ (ppm) 2.35 (s, 3H, CH3), 7.06-7.08 (m, 6H, arom. H), 7.14 (t, J 7.2 Hz, 4H, arom. H), 7.27 (t, J 7.6 Hz, 4H, arom. H), 7.34 (d, J 8.2 Hz, 4H, arom. H), 7.42-7.44 (m, 6H, arom. H), 7.50 (dd, J 8.5 and 4.1 Hz, 1H, quinoline H), 7.545 (d, J 8.4 Hz, 4H, arom. H), 7.68 (d, J 8.45 Hz, 4H, arom. H), 7.72 (s, 1H, quinoline H), 8.03 (d, J 7.7 Hz, 4H, arom. H), 8.44 (dd, J 8.5 and 1.5 Hz, 1H, quinoline H), 8.83 (dd, J 4.1 and 1.5 Hz, 1H, quinoline H); FAB-MS: m/z 1019 (M+).
7-{4-ビス[4-(9-カルバゾリル)フェニルエチニル]-(4’-エチニルフェニル)アミノ}フェニルエチニル-5-クロロ-8-キノリノールの製造
8-アセトキシ7-{4-ビス[4-(9-カルバゾリル)フェニルエチニル]-(4’-エチニルフェニル)アミノ}フェニルエチニル-5-クロロキノリン(2.008 g, 1.969 mmol)をテトラヒドロフラン(50 ml)-エタノール(10 ml)中室温で撹拌した溶液に、水酸化ナトリウム(0.197 g, 4.925 mmol)水溶液5 mlを加え一晩撹拌した。その溶液に150 mlの水を加えて撹拌し、p-トルエンスルホン酸一水和物を用いて中和して得られた沈殿をろ集、乾燥することにより目的物を99.5%の収率で黄色粉末として得た。
1H NMR (400 MHz, THF-d8): δ (ppm) 7.08-7.10 (m, 6H, arom. H), 7.16 (t, J 7.4 Hz, 4H, arom. H), 7.30 (t, J 7.6 Hz, 4H, arom. H), 7.37 (d, J 8.1 Hz, 4H, arom. H), 7.43-7.47 (m, 6H, arom. H), 7.52-7.58 (m, 5H, arom. H + quinoline H), 7.58 (s, 1H, quinoline H), 7.70 (d, J 8.3 Hz, 4H, arom. H), 8.06 (d, J 7.7 Hz, 4H, arom. H), 8.42 (d, J 8.4 Hz, 1H, quinoline H), 8.88 (d, J 4.15 Hz, 1H, quinoline H).
アルミニウム錯体の製造
製造例で示した多段階反応により合成したデンドロン(3.3 eq.)及びアルミニウムトリイソプロポキシド(1 eq.)の混合物を、トルエン-ジメチルホルムアミド(5:1 v/v)の混合溶媒中、数時間加熱還流した後に室温まで冷却する。溶媒を留去して得られた残差をクロロホルム(100 ml)-水(200 ml)から抽出する。有機層を水(200 ml)で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過し、溶媒を留去する。得られた残差をシリカゲルによるカラムクロマトグラフィーでクロロホルムを流出溶媒として精製し、最後にジクロロメタン-メタノール(VI)で再結晶する事により、下記のデンドリマー類をそれぞれ44.9%の収率で得た。
V: 1H NMR (400 MHz, THF-d8): δ (ppm) 7.15 (t, J 7.3 Hz, 6H, arom. H), 7.29 (t, J 7.7 Hz, 6H, arom. H), 7.41 (d, J 8.2 Hz, 6H, arom. H), 7.51 (dd, J 8.55 and 4.2 Hz, 3H, quinoline H), 7.68 (d, J 8.5 Hz, 6H, arom. H), 7.89 (s, 3H, quinoline H), 8.05 (d, J 7.7 Hz, 6H, arom. H), 8.23 (d, J 8.5 Hz, 6H, arom. H), 8.56 (dd, J 8.6 and 1.5 Hz, 3H, quinoline H), 8.915 (dd, J 4.2 and 1.5 Hz, 3H, quinoline H); ESI-MS: m/z 1358.3 (M+); Calcd. for C87H48N6Cl3O3Al・C7H8: C, 77.82; H, 3.68; N, 5.79; Found. C, 77.78; H, 3.69; N, 5.96%.
VI: 1H NMR (400 MHz, THF-d8): δ (ppm) 7.10 (d, J 8.7 Hz, 12H, arom. H), 7.15 (t, J 7.4 Hz, 12H, arom. H), 7.19 (d, J 8.8 Hz, 6H, arom. H), 7.28 (t, J 7.7 Hz, 12H, arom. H), 7.35 (d, J 8.2 Hz, 12H, arom. H), 7.44 (d, J 8.7 Hz, 12H, arom. H), 7.48 (dd, J 8.55 and 4.25 Hz, 3H, quinoline H), 7.55 (d, J 8.6 Hz, 12H, arom. H), 7.69 (d, J 8.6 Hz, 12H, arom. H), 7.84 (s, 3H, quinoline H), 7.92 (d, J 8.75 Hz, 6H, arom. H), 8.04 (d, J 7.7 Hz, 12H, arom. H), 8.54 (dd, J 8.5 and 1.6 Hz, 3H, quinoline H), 8.89 (dd, J 4.2 and 1.6 Hz, 3H, quinoline H); ESI-MS: m/z 2956.3 (M+); Calcd. for C207H120N12Cl3O3Al: C, 84.09; H, 4.09; N, 5.68; Found. C, 84.12; H, 3.99; N, 5.46%.
さらに、熱的安定性及びアモルファス性についても調べた。図1及び図2にその特性を示す。:
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