JP4207128B2 - 赤外線光源装置と赤外線ガス分析計 - Google Patents
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Description
図5(a),(b)において、赤外線光源は、シリコン基板10に形成された凹部11の両端に、マイクロブリッジ状のフィラメント12が固定されるように形成されている。
また拡散の深さも物理的に限界があり、設計の自由度が少ない。
基板にマイクロブリッジ状に形成されるフィラメントを有し、このフィラメントに通電して発熱させることにより赤外線を発光させる赤外線光源装置において、
厚さ方向に不純物濃度が均等になるように不純物が添加されたシリコンからなりエピタキシャル装置を利用して不純物が添加されつつ堆積されてエッチング形成されたフィラメントを具備したことを特徴とする赤外線光源装置。
前記光源として、請求項1記載の赤外線光源装置が使用されたこと
を特徴とする赤外線ガス分析計。
厚さ方向に不純物濃度が均等になるように不純物が添加されつつ堆積されたポリシリコンからなり、エッチング形成されたフィラメントが使用されたので、フィラメントとなる梁の厚さ方向に不純物濃度が均一となり、不純物濃度に起因する梁の初期ひずみを低減することができ、性能、寿命が向上され、製作が容易な赤外線光源装置が得られる。
高価なSOI基板を必要としないためので、エピタキシャル装置は市場性があり比較的安価に入手出来るので、安価な赤外線光源装置が得られる。
請求項1記載の赤外線光源装置を使用することで、性能、寿命が向上され、部品の交換頻度が減少でき、また部品コストを低減できる赤外線ガス分析計が得られる。
請求項1記載の赤外線光源装置を使用するようにしたので、機能、寿命が向上され製作し易い赤外線光源装置が得られる。
図1は本発明の一実施例の要部構成説明図である。
この場合は、フィラメント21は、エピタキシャル装置を利用して不純物が添加されつつ堆積されてエッチング形成されている。
この場合、凹部22は裏面から異方性エッチングを用いて形成されている。
厚さ方向に不純物濃度が均等になるように不純物が添加されつつ堆積されたポリシリコンからなり、エッチング形成されたフィラメント21が使用されたので、フィラメント21となる梁の厚さ方向に不純物濃度が均一となり、不純物濃度に起因する梁の初期ひずみを低減することができ、性能、寿命が向上され、製作が容易な赤外線光源装置が得られる。
高価なSOI基板を必要としないためので、エピタキシャル装置は市場性があり比較的安価に入手出来るので、安価な赤外線光源装置が得られる。
本実施例においては、フィラメント31は、厚さ方向に不純物濃度が均等になるように不純物が添加されつつ堆積されてエッチング形成されポリシリコンからなる。
この場合、凹部32は表面から異方性エッチングを用いて形成されている。
集積化も可能で、裏面が全面使用できるので放熱に関して有利な赤外線光源装置が得られる。
本実施例においては、フィラメント41は、厚さ方向に不純物濃度が均等になるように不純物が添加されつつ堆積されてエッチング形成されポリシリコンからなる。
この場合、凹部42は裏面からDRYエッチングを用いて形成されている。
したがって本発明は、上記実施例に限定されることなく、その本質から逸脱しない範囲で更に多くの変更、変形をも含むものである。
11 凹部
12 フィラメント
13 二酸化シリコン
14 多結晶シリコン層
15 二酸化シリコン
16a 電極
16b 電極
21 フィラメント
22 凹部
31 フィラメント
32 凹部
41 フィラメント
42 凹部
100 セル
101 赤外線光源
102 波長選択フィルタ
103 赤外線検出器
Claims (2)
- 基板にマイクロブリッジ状に形成されるフィラメントを有し、このフィラメントに通電して発熱させることにより赤外線を発光させる赤外線光源装置において、
厚さ方向に不純物濃度が均等になるように不純物が添加されたシリコンからなりエピタキシャル装置を利用して不純物が添加されつつ堆積されてエッチング形成されたフィラメント
を具備したことを特徴とする赤外線光源装置。 - 被測定ガスに赤外線を照射する光源と、被測定ガスを透過した赤外線を検出する赤外線検出器とを有し、前記赤外線検出器の出力に基づいて前記被測定ガスの濃度を測定する赤外線ガス分析計において、
前記光源として、請求項1記載の赤外線光源装置が使用されたこと
を特徴とする赤外線ガス分析計。
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