JP4205558B2 - 汚染評価方法、汚染評価装置、露光方法、及び、露光装置 - Google Patents

Description

この発明は汚染評価方法、汚染評価装置、露光方法、及び、露光装置に関する。更に具体的には、所定の雰囲気内において、基板にエネルギー線を照射した場合に、基板に付着する汚染物質の重量を測定することができる汚染評価方法及び汚染評価装置並びにこれを用いた露光方法及び露光装置に関するものである。

近年半導体装置の高集積化、微細化に伴い、リソグラフィ技術における露光光の短波長化が進められている。具体的には、露光光は、波長２４８nmのＫｒＦレーザ光、波長１９３nmのＡｒＦレーザ光、波長１５７nmのＦ_２エキシマレーザ光、更に、波長１３nmのＥＵＶ光へと短波長化は進んでいる。

一方、露光装置において用いられる光学素子については、短波長化するこれらの露光光に対して、光学的に透明であることが必要である。しかし、露光光の短波長化が進むにつれて、単位光子当たりのエネルギーは増大し、単位光子当たりのエネルギーが大きくなれば、露光装置内の光学素子への汚染が増加してしまう。

具体的には、露光光のエネルギーが増加すると、レジストからのアウトガスの発生量が増加し、露光装置内の雰囲気中の汚染有機物質濃度が増加する。このような汚染濃度の高い雰囲気内で、高エネルギーの露光光により露光を続けて行った場合、光ＣＶＤ効果により、汚染物質が光学物質と結合して、光学素子に汚染物質が付着する。

露光エリア内での光学素子の汚染は、光学素子の露光光に対する透明度を低下させる。従って、露光光の照度の低下や、照度ムラの原因となり、均一な微細パターンの転写が困難になる。

従って、レジストや、露光装置開発のためには、レジストに代表される汚染性物質から発生するアウトガスを含む雰囲気中での露光による、光学素子への汚染物質の付着量を正確に測定して、評価することが重要である。

このような汚染物質を測定する方法として、例えば、基板を被検雰囲気ガス中に放置して、汚染物質を付着させた後、これを、飛行時間分解二次イオン質量分析法（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）や、ＥＳＣＡなどの表面分析装置を用いて、定量的に評価する方法がある。
また、他の方法として、汚染光学素子の透過率を測定する方法等も考えられる（例えば、特許文献１参照）。

特開２００１−１６５７６９号公報

しかし、このような方法により、汚染物質の測定を行う場合、基板を、被検雰囲気の充填された処理室内から、一度、外部に取り出す必要がある。従って、基板は、一度大気に曝されることとなる。その結果、基板の汚染物質の測定結果は、大気による影響を大きく受けることとなり、正確な分析を行うことが困難である。

また、露光装置の評価をするような場合、正確に評価するためには、長時間の露光の結果による汚染の評価を行う必要がある。しかしながら、通常実験可能な露光時間においては、その汚染は、極めて少量であり、高精度の分析が困難である。

従って、この発明は、このような問題を解決し、汚染物質を含む雰囲気中において、基板等に付着する汚染物質を正確に分析できる改良した汚染評価方法、汚染評価装置、露光方法、及び露光装置を提供するものである。

この発明の、汚染評価方法は、処理室内に載置された所定の物質からアウトガスを発生させるアウトガス発生と、
前記アウトガスを含む雰囲気内で、エネルギー線を水晶振動子に照射する照射工程と、
前記エネルギー線の照射の間、前記水晶振動子の共振周波数を検出し、検出された共振周波数の変化により、前記水晶振動子上に付着した物質の重量を測定する測定工程と、
を備えるものである。

また、この発明の汚染評価装置は、処理室と、
前記処理室内に載置された所定の物質から、アウトガスを発生させるアウトガス発生手段と、
前記処理室内に配置された、水晶振動子と、
前記水晶振動子にエネルギー線を照射するエネルギー線発振源と、
前記エネルギー線の照射の間、前記水晶振動子の共振周波数を検出し、検出された共振周波数の変化により、前記水晶振動子上に付着した物質の重量を測定する測定系と、
を備えるものである。

また、この発明の露光方法は、露光装置内において、パターンの形成されたレチクルを透過した露光光を、ウェーハ上のレジストに照射してパターンを転写する露光工程と、
前記露光工程においてレジストから発生したアウトガスを含む露光装置内の雰囲気中で、前記露光装置内に配置された水晶振動子にエネルギー線を照射する照射工程と、
前記エネルギー線の照射の間、前記水晶振動子の共振周波数を検出し、検出された共振周波数の変化により、前記水晶振動子上に付着した物質の重量を測定する測定工程と、
を備えるものである。

また、この発明の露光装置は、露光室と、
前記露光室内に配置された露光光源と、
前記露光室内に、ウエーハを載置するウエーハステージと、
前記ウエーハにパターンを露光するための露光系と、
前記露光室内に配置された水晶振動子と、
前記水晶振動子にエネルギー線を照射するエネルギー線発振源と、
前記ウエーハから発生するアウトガスを含む雰囲気内で前記エネルギー線を照射する間、前記水晶振動子の共振周波数を検出し、検出された共振周波数の変化により、前記水晶振動子上に付着した物質の重量を測定する測定系と、
を備えるものである。

この発明においては、所定の物質を含む雰囲気中に配置された水晶振動子にエネルギー線を照射することにより、汚染物質を付着させる。そして、この水晶振動子の共振周波数の変化から、正確に汚染物質の量を測定することができる。従って、汚染後の基板を、外気等に曝すことなく、正確に汚染物質の量を測定することができる。

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。なお、各図において、同一または相当する部分には同一符号を付してその説明を簡略化ないし省略する。

実施の形態１．
図１は、この発明の実施の形態１における汚染評価装置について説明するための模式図である。
図１に示すように、実施の形態１における汚染評価装置において、チャンバ２は、密閉可能な処理室である。チャンバ２の一部に、透過窓４が設けられている。チャンバ２の外部には、Ｆ_２エキシマレーザ光を発振する光源６が設けられている。光源６から発振するＦ_２エキシマレーザ光の光路には、反射ミラー８が設けられ、Ｆ_２エキシマレーザ光は、この反射ミラー８により反射して、透過窓４から、チャンバ２内に入射するようになっている。また、チャンバ２には、ガス導入口１０が設けられている。

チャンバ２内には、水晶振動子１２が、透過窓４から入射したＦ_２エキシマレーザ光を受ける位置に配置されている。

一方、チャンバ２外部には、共振回路１４と、共振回路１４に接続する周波数計１６と、更に、周波数計１６に接続する計算機１８が配置されている。また、共振回路１４は、チャンバ２内の水晶振動子１２に接続されている。

この汚染評価装置は、マイクロバランス法を利用して汚染物質の量を測定する。マイクロバランス法とは、水晶振動子の電極の重量変化が、水晶振動子の共振周波数の変化に比例することを利用した重量測定方法である。この方法によれば、極めて微量な質量の変化を測定することができる。

以下、具体的に、実施の形態１における汚染評価装置を用いて汚染物質の測定を行う場合について説明する。
まず、ガス導入口１０から、測定用のガスを導入する。この実施の形態１においては、測定用のガスの例として、例えば、１ppmのトルエンガスを導入する。また、ガスの希釈には、窒素（Ｎ_２）を用いる。

光源６からは、Ｆ_２エキシマレーザ光を発振し、反射ミラー８を介して、透過窓４に入射させる。透過窓４からチャンバ２内に入射した光は、トルエンガス雰囲気中を通過して、水晶振動子１２に照射する。なお、この際の光エネルギーは、０．１mJ/cm²パルスとする。このＦ_２エキシマレーザ光の照射により、トルエンガスから活性種が発生し、水晶振動子１２上に、有機汚染物２０として付着し、成長する。

Ｆ_２エキシマレーザ光照射の間、水晶振動子１２の共振周波数は、逐一、共振回路１４、周波数計１６により検出され、計算機１８により、水晶振動子１２の質量の変化が計算される。露光が進むに連れて、水晶振動子１２上の有機汚染物２０は、増加する。この有機汚染物２０が増加するにつれて、共振回路１４、周波数計１６により検出される共振周波数は、比例して低下する。この共振周波数の変化から、計算機１８により重量変化が選出されて記録される。これにより、正確に有機汚染物２０の重量の変化を測定することができる。

図２は、この発明の実施の形態１において、計算機１８により記録した水晶振動子１２の重量変化と、照射した光の総エネルギーとの関係を示すグラフである。図２において、縦軸は水晶振動子の重量(ngcm^-2)を表し、横軸は、総エネルギー(Jcm^-2)を表す。
図２に示すように、総エネルギーが増加するにつれて、水晶振動子１２に付着する有機汚染物２０の量が、増加していくことがわかる。

以上説明したように、実施の形態１によれば、チャンバ２内に汚染雰囲気を直接導入して、その汚染雰囲気による水晶振動子１２への有機汚染物２０の付着量を、チャンバ２内で、直接測定することができる。従って、外気等の影響を受けることなく、有機汚染物２０の重量を、極めて正確に測定することができる。また、これにより、汚染雰囲気内での露光等により光学素子等へ付着する汚染物の量等をある程度正確に予想することができる。

なお、実施の形態１においてはトルエンガスを被検雰囲気としてチャンバ２内に導入し、この雰囲気内で、水晶振動子１２に付着した有機汚染物２０の量を測定する場合について説明した。しかし、この発明において、被検雰囲気は、トルエンガスに限るものではなく、エネルギー線の照射により、有機汚染物を生じるような他のガスであってもよい。

また、実施の形態１においては、光源６から、エネルギー線として、Ｆ２エキシマレーザ光を発振する場合について説明した。しかし、この発明において、エネルギー線は、Ｆ２エキシマレーザ光に限るものではない。例えば、他のエネルギー線としては、ＫｒＦレーザ光、ＡｒＦレーザ光、Ｆ_２レーザ光、波長が、１６０nmより短い光、あるいは、波長が１２nm〜１５nmの光等、高エネルギーの光が考えられる。

また、実施の形態１においては、水晶振動子１２に付着した有機汚染物２０の重量を測定することにより、例えば、光学素子等への汚染量を評価する場合について説明した。しかし、この発明においては、これに限るものではない。例えば、水晶振動子１２上に、予め、被検膜として、ＳｉＯ_２、ＣａＦ_２、ＭｇＦ_２等の膜を堆積、接着したり、Ｗ、Ａｌなど電着、堆積させることにより、成膜し、その後、同様に、エネルギー光を照射することにより、これらの被検膜に付着する汚染物の量を評価することもできる。

実施の形態２．
図３は、この発明の実施の形態２における汚染評価装置について説明するための模式図である。
図３に示すように、実施の形態２における汚染評価装置は、実施の形態１において説明した汚染評価装置と類似するものである。しかし、実施の形態１においては、被検雰囲気を外部から導入するガス導入口１０を有するものについて説明したが、実施の形態２においては、チャンバ２内に、アウトガスを発生する物質を載置して、この物質からアウトガスを発生させて、このアウトガス中でのエネルギー線照射により水晶振動子１２に付着する汚染物質の量を測定するものである。

図３に示すように、実施の形態２において、チャンバ２には、透過窓４に加えて、透過窓２４が設けられている。また、光源６から発振する光は、まず、ハーフミラー２６に照射し、２方向に分岐される。一方は、ハーフミラー２６を透過して、ミラ−８において反射し、透過窓４からチャンバ２内に入射する。他方は、ハーフミラー２６において反射して、透過窓２４から、チャンバ２内に入射する。

チャンバ２内には、実施の形態１と同様に、透過窓４の下方に水晶振動子１２が配置されている。また、それに加えて、透過窓２４の下方に、ウェーハ２８が配置されている。ウェーハ２８上には、レジスト３０が塗布されている。

また、水晶振動子１２は、実施の形態１と同様に、チャンバ２の外部に配置された共振回路１４に接続され、共振回路１４は、更に、周波数計１６と、計算機１８とに接続されている。

実施の形態２において、水晶振動子１２に堆積する有機汚染物２０の量を測定する方法は、実施の形態１において説明したものと同様である。但し、実施の形態２においては、有機汚染物２０を含むアウトガスの発生源が、水晶振動子１２内と同一のチャンバ２内に配置されている。

実施の形態２において、アウトガスの発生源は、ウェーハ２８に塗布したレジスト３０である。実施の形態２においては、レジスト３０に、Ｆ_２レーザ光を照射する。ここで、光エネルギーは、０．１mJ/cm^２パルスとする。これによりレジストからアウトガスが発生し、チャンバ２内の雰囲気は、露光時間経過ともに汚染される。なお、発生するアウトガスは、用いるレジストの種類にもよるが、例えば、芳香族、直鎖炭化水素、アルコール、ケトン、エーテル等が考えられ、更に具体的には、例えば、ベンゼン、トルエン、フルオロベンゼン、イソブテン、イソブタン、アセトン、メタノール、ジメトキシメタン等が考えられる。

一方、Ｆ_２レーザ光は、レジストへの照射と共に、同時に、ミラー８において反射して透過窓４から入射し、チャンバ２内の雰囲気を透過して、水晶振動子１２に照射する。これにより、水晶振動子２０上に有機汚染物２０が堆積する。この堆積量については、実施の形態１と同様に、共振回路１４、周波数計１６により、常に測定され、計算機１８により、有機汚染物２０の重量が計算され、記録されている。

図４は、この発明の実施の形態２において、計算機１８により記録した水晶振動子１２の重量変化と、照射した光の総エネルギーとの関係を示すグラフである。図４において、縦軸は水晶振動子の重量(ngcm^-2)を表し、横軸は、総エネルギー(Jcm^-2)を表す。
総エネルギーが増加するにつれて、チャンバ２内のレジスト３０から発生するアウトガスの濃度は大きくなり、このアウトガスによる汚染雰囲気内でＦ_２レーザ光を照射することにより、水晶振動子１２への有機汚染物２０の量は増加する。図４からも、総エネルギーの増加に伴い、水晶振動子１２に付着する有機汚染物２０の量が増加していることがわかる。

以上説明したように、実施の形態２によれば、レジスト３０と水晶振動子１２とに、同時に、Ｆ_２レーザ光を照射しながら、水晶振動子１２に堆積する有機汚染物２０の測定を行うことができる。従って、レジスト３０からアウトガスを発生させながら、並行して、このアウトガスにより堆積する有機汚染物２０の量を正確に測定することができる。これにより、汚染の進行度合いを、直接、正確に、観測することができる。

なお、実施の形態２においては、レジスト３０からアウトガスを発生する場合について説明した。しかし、この発明においてはこれに限るものではなく、エネルギー光の照射により汚染の原因となるアウトガスを発生する他の物質を用いることができる。

また、ここでは、同一の光源から発振した光を分岐して、別々の透過窓４、２４から入射させる場合について説明した。しかし、この発明は、このような構造に限るものではなく、レジスト３０と、水晶振動子１２とのそれぞれに、エネルギー線を照射するものであってもよい。また、透過窓が２つ設けられている場合に限るものでもなく、１の透過窓から光を透過するようなものであっても良い。

また、実施の形態２においては、エネルギー線として、Ｆ_２エキシマレーザ光を用いてこれを照射することにより、アウトガスを発生させる場合について説明した。しかし、この発明においては、これに限るものではなく、他のエネルギー線を用いるものであってもよい。また、エネルギー線を用いるものに限らず、例えば、汚染の原因となるアウトガスを発生させる物質を、加熱手段により加熱することにより、アウトガスを発生させるものであってもよい。
その他は、実施の形態１と同様であるから説明を省略する。

実施の形態３．
図５は、この発明の実施の形態３における露光装置１００を説明するための模式図である。
図５に示すように、実施の形態３における露光装置１００は、従来の露光装置に、実施の形態２において説明した汚染評価装置を組み合わせたような装置である。

図５において、露光装置１００は、チャンバ３２内に収納されている。チャンバ３２内は、通常の露光の際と同様に、不活性ガスが充填されている。チャンバ３２の上部には、２つの透過窓３４、３６が設けられている。チャンバ３２の外部には、Ｆ_２エキシマレーザ光を発振する露光光源３８が設けられている。露光光源３８から発振した光が照射する位置に、ハーフミラー４０、ミラー４２が設けられている。ミラー４０、４２は、それぞれ、透過窓３４、３６の上方に配置されている。

ハーフミラー４０の下方の透過窓３４下方には、従来の露光装置が配置されている。具体的には、透過窓３４を透過した光を受ける位置に、照明光学系４６が配置され、照明光学系４６を透過した光の光路には、レチクルステージ４８が設けられている。また、レチクルステージ４８を透過した光を受ける位置に、投影光学系５０が配置され、更に、投影光学系５０を透過した光が結像する位置にウェーハステージ５２が配置されている。レチクルステージ４８には、転写するパターンの形成されたレチクル５４が搭載されている。また、ウェーハステージ５２には、ウェーハ５６が載置されている。また、ウェーハ５６には、レジスト５８が塗布されている。

一方、ミラー４２下方の透過窓３６を透過した光を受ける位置には、水晶振動子６２が配置されている。また、水晶振動子６２は、チャンバ３２外部に設けられた共振回路６４に接続されている。更に、共振回路６４は、周波数計６６に接続され、更に、周波数計６６は、計算機６８に接続されている。

以上のように構成された露光装置１００において、従来の露光装置と同様の部分においては、露光光源３８から発振したＦ_２レーザ光が、ミラー４０において反射し、透過窓３４を透過する。透過窓３４を透過した光は、照明光学系４６を透過して、パターンの形成されたレチクル５４に入射する。レチクル５４を透過した光は、投影光学系４８を経て、レジスト５８において結像する。この露光の際に、レジスト５８からは、有機汚染の原因となるアウトガスが発生する。なお、発生するアウトガスは、用いるレジストの種類にもよるが、例えば、芳香族、直鎖炭化水素、アルコール、ケトン、エーテル等が考えられ、更に具体的には、例えば、ベンゼン、トルエン、フルオロベンゼン、イソブテン、イソブタン、アセトン、メタノール、ジメトキシメタン等が考えられる。

一方、露光光源３８から発振し、ハーフミラー４０を透過した光は、ミラー４２において反射して、透過窓３６からチャンバ２内に入射する。この光は、チャンバ２内の雰囲気を通過して、水晶振動子６２に照射される。この光の照射により、水晶振動子６２上には、有機汚染物７０が次第に堆積する。

水晶振動子１２の共振周波数は、この露光の間、共振回路６４、周波数計６６により、測定されている。実施の形態１、２においても説明したように、水晶振動子６２は、その重さが増すと、比例して、共振周波数が低下する。この性質を利用して、共振周波数から、計算機６８において、水晶振動子１２の重さが計算され、記録されている。

以上のように、露光装置による露光の際、並行して、水晶振動子１２に付着する有機汚染物７０の量をモニターする。そして、水晶振動子１２の重さが所定の量を超えた場合、露光装置における光学系のレンズ等に付着した有機汚染物も所定の量を超えたものと判断し、有機汚染の除去を行う。有機汚染物の除去においては、有機汚染物の種類や付着量等を考慮して、適切な方法を用いればよい。例えば、レジストに近い部分の光学素子を交換することや、レーザアッシング等による、有機汚染の除去が考えられる。なお、ここで、レーザアッシングとは、レーザ照射により、オゾン雰囲気を作り出し、これにより、有機汚染物を分解する洗浄方法である。洗浄後は、再び、水晶振動子１２による有機汚染物の重量のモニターを行いながら、露光装置による露光を行う。

以上説明したように、実施の形態３においては、水晶振動子１２に付着した有機汚染物２０の重量の測定を、露光を行うチャンバ２内で、露光の間、並行して行っている。従って、汚染の進行具合を直接観察することができる。これにより、露光装置側の、例えば照明光学系のレンズ等に付着した異物の量を測定することができる。また、この有機汚染物の重量を測定するシステムは、通常の露光装置に取付けられているため、長時間に渡っての汚染の進行を、より正確に観察することができる。

なお、実施の形態３においては、露光装置に、実施の形態２において説明したような汚染評価装置を加えたものについて説明した。しかし、この発明においてはこれに限るものではなく、実施の形態１、２において説明した汚染評価装置に、汚染の付着量の測定が必要な他の装置を設けて用いることもできる。

また、ここでは、露光際、常に、有機汚染物の量を測定する場合について説明した。しかし、この発明は、必ずしもこれに限るものではなく、必要が生じた場合にのみ有機汚染物の量を測定するようにしてもよい。

また、この発明において、露光装置の構造は、実施の形態３において説明したものに限るものではなく、他の構造であってもよい。汚染評価装置を取付ける露光装置の構造等は、この発明の範囲内において適宜選択しうるものである。
その他は、実施の形態１、２と同様であるから、説明を省略する。

なお、この発明において、所定の物質を含む雰囲気とは、エネルギー線の照射により、汚染物質を堆積するような物質を含む雰囲気を意味し、例えば、実施の形態１のトルエンガス等が該当する。また、所定の物質には、例えば、実施の形態２のレジスト等が該当する。また、この発明において、付着には、化学的及び物理的な吸着等も含む。また、実施の形態１〜３におけるチャンバ２、３２は、この発明の処理室に該当する。

この発明の実施の形態１における汚染評価装置を説明するための模式図である。 この発明の実施の形態１において測定した水晶振動子の重量と、総エネルギー量との関係を示すグラフである。 この発明の実施の形態２における汚染評価装置を説明するための模式図である。 この発明の実施の形態２において測定した水晶振動子の重量と、総エネルギー量との関係を示すグラフである。 この発明の実施の形態２における汚染評価装置を説明するための模式図である。

符号の説明

２ チャンバ
４ 透過窓
６ 光源
８ ミラー
１０ ガス導入口
１２、６２ 水晶振動子
１４、６４ 共振回路
１６、６６ 周波数計
１８、６８ 計算機
２０、７０ 有機汚染物
２４ 透過窓
２６ ハーフミラー
２８ ウェーハ
３０ レジスト
３２ チャンバ
３４、３６ 透過窓
３８ 露光光源
４０ ハーフミラー
４２ ミラー
４６ 照明光学系
４８ レチクルステージ
５０ 投影光学系
５２ ウェーハステージ
５４ レチクル
５６ ウェーハ
５８ レジスト

Claims (9)

1. 処理室内に載置された所定の物質からアウトガスを発生させるアウトガス発生工程と、
   前記アウトガスを含む雰囲気内で、エネルギー線を水晶振動子に照射する照射工程と、
   前記エネルギー線の照射の間、前記水晶振動子の共振周波数を検出し、検出された共振周波数の変化により、前記水晶振動子上に付着した物質の重量を測定する測定工程と、
   を備えることを特徴とする汚染評価方法。
2. 前記エネルギー線は、ＫｒＦレーザ光、ＡｒＦレーザ光、Ｆ_２レーザ光、波長が、１６０nmより短い光、あるいは、波長が１２nm〜１５nmの光、であることを特徴とする請求項１に記載の汚染評価方法。
3. 前記アウトガス発生工程は、前記処理室内において、前記所定の物質に、エネルギー線を照射することにより、前記アウトガスを発生させることを特徴とする請求項１または２に記載の汚染評価方法。
4. 前記アウトガス発生工程は、前記処理室内において、前記所定の物質を加熱することにより、前記アウトガスを発生させることを特徴とする請求項１または２に記載の汚染評価方法。
5. 前記所定の物質は、有機物、有機珪素化合物、有機フッ素化合物、あるいは、フォトレジスト膜のいずれかであることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の汚染評価方法。
6. 前記照射工程前に、前記水晶振動子に、被検膜を形成する被検膜形成工程を備え、
   前記測定工程は、前記水晶振動子上に形成した前記被検膜に付着した物質の重量を測定することを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の汚染評価方法。
7. 処理室と、
   前記処理室内に載置された所定の物質から、アウトガスを発生させるアウトガス発生手段と、
   前記処理室内に配置された、水晶振動子と、
   前記水晶振動子にエネルギー線を照射するエネルギー線発振源と、
   前記エネルギー線の照射の間、前記水晶振動子の共振周波数を検出し、検出された共振周波数の変化により、前記水晶振動子上に付着した物質の重量を測定する測定系と、
   を備えることを特徴とする汚染評価装置。
8. 露光装置内において、パターンの形成されたレチクルを透過した露光光を、ウエーハ上のレジストに照射してパターンを転写する露光工程と、
   前記露光工程においてレジストから発生したアウトガスを含む露光装置内の雰囲気中で、前記露光装置内に配置された水晶振動子にエネルギー線を照射する照射工程と、
   前記エネルギー線の照射の間、前記水晶振動子の共振周波数を検出し、検出された共振周波数の変化により、前記水晶振動子上に付着した物質の重量を測定する測定工程と、
   を備えることを特徴とする露光方法。
9. 露光室と、
   前記露光室内に配置された露光光源と、
   前記露光室内に、ウエーハを載置するウエーハステージと、
   前記ウエーハにパターンを露光するための露光系と、
   前記露光室内に配置された水晶振動子と、
   前記水晶振動子にエネルギー線を照射するエネルギー線発振源と、
   前記ウエーハの露光により前記ウエーハから発生するアウトガスを含む雰囲気内で前記エネルギー線を照射する間、前記水晶振動子の共振周波数を検出し、検出された共振周波数の変化により、前記水晶振動子上に付着した物質の重量を測定する測定系と、
   を備えることを特徴とする露光装置。

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