JP4199669B2 - ブロック共重合体を含む化粧料組成物 - Google Patents
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Description
・ブロックAはいかなるpHにおいても陽イオン性の反復単位を含み、組成物のpH条件において多陽イオン性のブロックであり、
・ブロックBが組成物のpH条件において中性のブロックであり、そして
・ブロックA及びBの両方がα−エチレン式不飽和、好ましくはモノ−α−不飽和単量体から誘導する単位を含む、
ことからなる化粧料組成物に関する。
・ブロックAはいかなるpHにおいても陽イオン性の反復単位を含み、組成物のpH条件において多陽イオン性のブロックであり、
・ブロックBが組成物のpH条件において中性のブロックであり、そして
・ブロックA及びBの両方がα−エチレン式不飽和、好ましくはモノ−α−不飽和単量体から誘導する単位を含む、
ことからなる二ブロック共重合体を使用することに関する。
本明細書では、重合体、共重合体、分子の部分、グラフト、側鎖、コア、分岐、ブロック又は主鎖の分子量は、該重合体、共重合体、分子の部分、グラフト、側鎖、コア、分岐、ブロック又は主鎖の重量平均分子量を指す。重合体又は共重合体の重量平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフィー(GPC)によって測定することができる。本明細書では、グラフト、側鎖、コア、分岐、ブロック又は主鎖の分子量は、該グラフト、側鎖、コア、分岐、ブロック又は主鎖を形成するのに使用した単量体、重合体、開始剤及び/又は連鎖移動剤の量から計算される分子量を指す。当業者には、これらの分子量を計算する方法が知られている。分子の部分と部分との間の重量比は、広範囲の重合を考慮して該部分を形成するのに使用した化合物の量と量との間の比率を指す。
二ブロック共重合体は、2個の異なるブロック、即ち、ブロックA及びブロックBを含む。この二ブロック共重合体は線状ブロック共重合体である。線状とは、2個のブロックの配置が線状であることを意味する。しかしながら、ブロックは、重合体部分(マクロ単量体)を構成する反復単位を含む櫛形(コーム)重合体構造を有するブロックであってもよい。
・特に、少なくとも1個の第四アミン官能基を包含する単量体、
・ジアリルジアルキルアンモニウム塩、
・それらの混合物、それらの塩及びそれらから誘導するマクロ単量体、
が挙げられる。
・トリメチルアンモニウムエチル(メタ)アクリレートクロリド、トリメチルアンモニウムエチル(メタ)アクリレートメチルサルフェート、ジメチルアンモニウムエチル(メタ)アクリレートベンジルクロリド、4−ベンゾイルベンジルジメチルアンモニウムエチルアクリレートクロリド、トリメチルアンモニウムエチル(メタ)アクリルアミド(2−アクリルオキシ)エチルトリメチルアンモニウム、TMAEAMSとも称される)クロリド、
トリメチルアンモニウムエチル(メタ)アクリレート(2−(アクリルオキシ)エチルトリメチルアンモニウム、TMAEAMSとも称される)メチルサルフェート、トリメチルアンモニウムプロピル(メタ)アクリルアミドクロリド、ビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、
・ジアリルジメチルアンモニウムクロリド、
・次の式:
・R1は、水素原子、又はメチル若しくはエチル基であり、
・R2、R3、R4、R5及びR6は同種又は異種であって、線状又は分岐状C1〜C6好ましくはC1〜C4アルキル、ヒドロキシアルキル又はアミノアルキル基であり、
・mは、1〜10、例えば、1の整数であり、
・nは、1〜6、好ましくは2〜4の整数であり、
・Zは、−C(O)O−若しくは−C(O)NH−基、又は酸素原子を表わし、
・Aは(CH2)p基を表わし、ここでpは1〜6好ましくは2〜4の整数であり、
・Bは、線状又は分岐状C2〜C12、有益には、1個以上のヘテロ原子又はヘテロ基特にO又はNHによって随意に中断され得、そして1個以上のヒドロキシル又はアミノ基好ましくはヒドロキシル基によって随意に置換しうるC3〜C6ポリメチレン鎖を表わし、
・Xは同種又は異種であって、対イオンを表わす]を有する単量体、
・それらの混合物、及びそれらから誘導するマクロ単量体、
が挙げられる。
・アクリルアミド、メタクリルアミド、
・α−エチレン式不飽和、好ましくはモノ−α−エチレン式不飽和モノカルボン酸のアミド、
・α−エチレン式不飽和、好ましくはモノ−α−エチレン式不飽和モノカルボン酸のエステル、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−プロピル、アクリル酸n−ブチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−プロピル、メタクリル酸n−ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシルの如きアルキルエステル、又はアクリル酸2−ヒドロキシエチルの如きヒドロキシアルキルエステル、
・ポリエチレン及び/又はポリプロピレンオキシド(メタ)アクリレート(即ち、ポリエトキシル化及び/又はポリプロポキシル化(メタ)アクリル酸)、
・ビニルアルコール、
・ビニルピロリドン、
・酢酸ビニル、ベルサチン酸ビニル(vinyl Versatate)、
・好ましくは3〜12個の炭素原子を含むビニルニトリル、
・アクリロニトリル、
・ビニルアミンアミド、
・スチレンの如きビニル芳香族化合物、及び
・それらの混合物、
よりなる群から選択される少なくとも1種の単量体から誘導する単位を含むブロックである。
・ビニルアルコール、
・ビニルピロリドン、
・アクリルアミド、メタクリルアミド、
・ポリエチレンオキシド(メタ)アクリレート(即ち、ポリエトキシル化(メタ)アクリル酸)、
・α−エチレン式不飽和、好ましくはモノ−α−エチレン式不飽和モノカルボン酸のヒドロキシアルキルエステル、例えば、アクリル酸2−ヒドロキシエチル、及び
・α−エチレン式不飽和、好ましくはモノ−α−エチレン式不飽和モノカルボン酸のヒドロキシアルキルアミド、
よりなる群から選択される少なくとも1種の単量体から誘導する単位を含むブロックが挙げられる。
・α−エチレン式不飽和、好ましくはモノ−α−エチレン式不飽和モノカルボン酸のアルキルエステル、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−プロピル、アクリル酸n−ブチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−プロピル、メタクリル酸n−ブチル及びアクリル酸2−エチルヘキシル、
・アクリロニトリル、
・3〜12個の炭素原子を含むビニルニトリル、
・ビニルアミンアミド、及び
・スチレンの如きビニル芳香族化合物、
よりなる群から選択される少なくとも1種の単量体から誘導する単位を含むブロックが挙げられる。
・(メタ)アクリル酸ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノプロピル、(メタ)アクリル酸ジ−t−ブチルアミノエチル、ジメチルアミノメチル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、
・エチレンイミン、ビニルアミン、2−ビニルピリジン、4−ビニルピリジン、
・トリメチルアンモニウムエチル(メタ)アクリレート(2−(アクリルオキシ)エチルトリメチルアンモニウム、TMAEAMSとも称される)クロリド、トリメチルアンモニウムエチル(メタ)アクリレート(2−(アクリルオキシ)エチルトリメチルアンモニウム、TMAEAMSとも称される)メチルサルフェート、ジメチルアンモニウムエチル(メタ)アクリレートベンジルクロリド、4−ベンゾイルベンジルジメチルアンモニウムエチルアクリレートクロリド、トリメチルアンモニウムエチル(メタ)アクリルアミドクロリド、トリメチルアンモニウムプロピル(メタ)アクリルアミドクロリド、ビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、
・ジアリルジメチルアンモニウムクロリド、
・アクリル酸、メタクリル酸、
・ビニルスルホン酸、ビニルスルホン酸の塩、
・ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルベンゼンスルホン酸の塩、
・α−アクリルアミドメチルプロパンスルホン酸、α−アクリルアミドメチルプロパンスルホン酸の塩、
・メタクリル酸2−スルホエチル、メタクリル酸2−スルホエチルの塩、
・アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸(AMPS)、アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸の塩、
・スチレンスルホネート(SS)、
・酢酸ビニル、
・ビニルアルコール、
・ビニルピロリドン、
・スチレン、
・アクリルアミド、メタクリルアミド、
・アクリルニトリル、
・アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−プロピル、アクリル酸n−ブチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−プロピル、メタクリル酸n−ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、及び
・アクリル酸2−ヒドロキシエチル、
が挙げられる。
”)が規定するようにリビング又は制御重合を使用することが勧められる。実際に、この特定の方法によって、狭い分散度を有する重合体であって、ブロックの長さ及び組成が化学量論及び転化度によって制御された重合体を製造することが可能になる。このタイプの重合に関連して、任意のいわゆるリビング又は制御重合法によって、例えば、
・国際出願WO98/58974及び米国特許6153705の教示に従ってキサントゲン酸エステル又は塩によって制御された遊離基重合、
・国際出願WO98/01478の教示に従ってジチオエステルによって制御された遊離基重合、
・国際出願WO99/35178の教示に従ってジチオエステルによって制御された遊離基重合、
・国際出願WO99/35177の教示に従ってジチオカルバメートによって制御された遊離基重合、
・国際出願WO99/03894の教示に従ってニトロキシド前駆物質を使用する遊離基重合、
・国際出願WO99/31144の教示に従ってジチオカルバメートによって制御された遊離基重合、
・国際出願WO02/26836の教示に従ってジチオカルバゼートによって制御された遊離基重合、
・国際出願WO00/75207及び米国出願09/980387の教示に従ってハロゲン化キサントゲン酸エステル又は塩によって制御された遊離基重合、
・国際出願WO02/10223の教示に従ってジチオホスホロエステルによって制御された遊離基重合、
・国際出願WO02/22688の教示に従って二硫黄化合物の存在下に連鎖移動剤によって制御された遊離基重合、
・国際出願WO96/30421の教示に従った原子移動ラジカル重合(ATRP)、
・オーツ氏他が“Makromol. Chem. Rapid. Commun., 3, 127(1982)に記載した教示に従ってイニファーター(iniferter)によって制御された遊離基重合、
・タケモト氏他がJap.50,127,991(1975)(ダイキン工業)に、そしてマチジャスゼウスキー氏他が“Macromolecules, 28, 2093 (1995)に記載した教示に従って沃素の変性移動によって制御された遊離基重合、
・エイチ・エフ・マーク、エヌ・エム・ビカルズ、シー・ジー・オーバーバーガー及びジー・メンゲス各氏編集の“Encyclopedia of Polymer Science and Engineering ”(Wiley Interscience, New York, 1987)の Vol. 7において、オー・ダブリュー・ウエブスター氏が“Group Transfer Polymerization”(p.580-588)”に記載した教示に従った基移動重合、
・テトラフェニルエタン誘導体によって制御されたラジカル重合(ディー・ブラウン氏他の“Macromol. Symp. 111, 63(1996)”)、
・有機コバルト錯体によって制御されたラジカル重合(ウエイランド氏他の“J. Am. Chem. Soc. 116, 7973(1994)”)、
によって得ることができる共重合体が特に勧められる。
a)モノ−α−エチレン式不飽和単量体、少なくとも1種の遊離基源化合物及び連鎖移動剤を反応させて第一ブロックを形成し、ここで連鎖移動剤を該第一ブロックに結合させ、
b)該第一ブロック、他のモノ−α−エチレン式不飽和単量体、及び随意成分としての少なくとも1種の遊離基源化合物を反応させて二ブロック共重合体を得、次いで、
c)随意に、連鎖移動剤にそれを不活性にする手段を反応させる、
各工程を含む。
・Rは、R2O−、R2R'2N−又はR3−基を表わし、R2及びR'2は同種又は異種であって、(i)アルキル、アシル、アリール、アルケン若しくはアルキン基、又は(ii)随意としての芳香族飽和若しくは不飽和炭素環、又は(iii)飽和若しくは不飽和複素環を表わし、これらの基及び環(i)、(ii)及び(iii)は置換されることが可能であり、R3はH、Cl、アルキル、アリール、アルケン又はアルキン基、随意に置換しうる飽和又は不飽和(複素)環、アルキルチオ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、カルボキシル、アシルオキシ、カルバモイル、シアノ、ジアルキル−若しくはジアリールホスホナト、又はジアルキル−若しくはジアリールホスフィナト基、又は重合体鎖を表わし、
・R1は、(i)随意に置換しうるアルキル、アシル、アリール、アルケン若しくはアルキン基、又は(ii)飽和若しくは不飽和でありそして随意に置換され若しくは芳香族である炭素環、又は(iii)随意に置換され、そして飽和若しくは不飽和の複素環又は重合体鎖を表わし、そして
R1、R2、R'2及びR3基は、置換フェニル若しくはアルキル基、置換芳香族基、又は次の基:オキソ、アルコキシカルボニル若しくはアリールオキシカルボニル(−COOR)、カルボキシル(−COOH)、アシルオキシ(−O2CR)、カルバモイル(−CONR2)、シアノ(−CN)、アルキルカルボニル、アルキルアリールカルボニル、アリールカルボニル、アリールアルキルカルボニル、イソシアナト、フタルイミド、マレイミド、スクシンイミド、アミジノ、グアニジノ、ヒドロキシル(−OH)、アミノ(−NR2)、ハロゲン、アリル、エポキシ、アルコキシ(−OR)、S−アルキル、S−アリール若しくはシリル基、親水性若しくはイオン性を示す基、例えば、カルボン酸のアルカリ塩、若しくはスルホン酸のアルカリ塩、ポリ(アルキレンオキシド)(PEO、PPO)鎖、又は陽イオン性置換基(四級アンモニウム塩)によって置換されることができ、そしてRはアルキル若しくはアリール基を表わす]の連鎖移動剤である。
・R2及びR2'は、(i)アルキル、アシル、アリール、アルケン若しくはアルキン基、又は(ii)随意としての芳香族飽和若しくは不飽和炭素環、又は(iii)飽和若しくは不飽和複素環を表わし、これらの基及び環(i)、(ii)及び(iii)は置換されることが可能であり、
・R1及びR1'は、(i)随意に置換しうるアルキル、アシル、アリール、アルケン若しくはアルキン基、又は(ii)飽和若しくは不飽和であり且つ随意に置換しうる飽和若しくは芳香族である炭素環、又は(iii)随意に置換しうる飽和若しくは不飽和の複素環又は重合体鎖を表わし、そして
・pは2〜10である]の化合物から選択されるジチオカーボネートである。
・R1は有機基、例えば、式(I)、(IA)、(IB)及び(IC)の連鎖移動剤について先に規定した如きR’基であり、
・R2、R3、R4、R7及びR8は同種又は異種であって、水素原子、又は随意に環を形成しうる有機基である]の連鎖移動剤である。R2、R3、R4、R7及びR8有機基の例としては、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、及び置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビルが挙げられる。
用語「化粧料組成物」及び「化粧料配合物」は、“コスメテックス・ダイレクティブ(Cosmetics Directive)”として知られる1976年7月27日付けのEuropean Directive No.76/768/EECの付録I(“化粧品のカタログによる例示的なリスト”)に記載されるタイプの任意の化粧品又は配合物を意味する。
−陰イオン性界面活性剤、例えば、
・スルホン酸アルキルエステル、
・硫酸アルキル、
・硫酸アルキルアミド、及び
・飽和又は不飽和脂肪酸塩、
−非イオン性界面活性剤、例えば、
・ポリオキシアルキレン化アルキルフェノール、
・グルコサミド、グルカミド、
・N−アルキルアミンから誘導されるグリセロールアミド、
・ポリオキシアルキレン化C8〜C22脂肪族アルコール、
・プロピレンオキシドとプロピレングリコールとの縮合から生じる疎水性化合物とエチレンオキシドとの縮合から得られる化合物、
・アミンオキシド、
・アルキルポリグリコシド及びそのポリオキシアルキレン化誘導体、
・C8〜C20脂肪酸アミド、
・エトキシル化脂肪酸、及び
・エトキシル化アミド、アミン又はアミドアミン、及び
−両性及び双極性界面活性剤、例えば、
・ベタイン型のもの、例えば、ベタイン、スルホベタイン、アミドアルキルベタイン及びスルホベタイン、
・アルキルサルタイン、
・脂肪酸とタンパク質加水分解生成物との縮合生成物、
・ココアンホアセテート及びココアンホジアセテート、
・アルキルアンホプロピオネート又はアルキルアンホジプロピオネート、及び
・両性アルキルポリアミン誘導体、
が挙げられる。
・毛髪及び/又は皮膚への重合体の付着。二ブロック共重合体は毛髪及び/又は皮膚に付着し、例えば、毛髪にコンデショニング効果を提供するためにより良好なウェブコーミングを可能にする。また、二ブロック共重合体は、シリコーンエマルジョン又は陽イオン性コンンデショニング用重合体の如き他の化合物の付着を向上又は誘発する。
・陰イオン性共重合体及び陽イオン性重合体を含むコロイドの懸濁液の相分離の回避。
・エマルジョン(好ましくは、水中油型エマルジョン、又はトリプルエマルジョン)の安定化、
が挙げられる。しかしながら、利益は上記の例に限定されるものではない。
ポリTMAEAMS(メチルサルフェート[2−(アクリロイルオキシ)エチル]−トリメチルアンモニウム)第一ブロック(Mw=11,000g/モル)及びポリアクリルアミド第二ブロック(Mw=3000g/モル)から陽イオン性−中性二ブロック共重合体を作る(ポリTMAEAMS11K−b−ポリAM3K)。
この合成は、二重ジャケット付反応器において70℃でバッチ法に従って実施される。
反応器に、[2−(アクリロイルオキシ)エチル]トリメチルアンモニウムメチルサルフェート(TMAEAMS)と水との溶液を導入し、そしてこの溶液を70℃に加熱する。次いで、キサントゲン酸S−エチルプロピルO−エチルと4,4’−アゾ−ビス−4−シアノバレリアン酸又はACVA(キサントゲン酸エステルに対して30モル%)とイソプロパノールとの混合物を導入する。得られた混合物を70℃で夜通し撹拌する。
水中に溶解させたACVA(キサントゲン酸エステルに対して50モル%)を先の混合物に加える。
Claims (11)
- 2個のブロックA及びBからなる線状二ブロック共重合体を含む化粧料組成物において、
・ブロックAはいかなるpHにおいても陽イオン性の反復単位を含み、式:−NR 3 + (式中、Rは同種又は異種であり、1〜10個の炭素原子を含むアルキル基を表わす)のアンモニウム基と陰イオン(対イオン)とを含むα−エチレン式不飽和単量体から誘導する反復単位を含む、組成物のpH条件において多陽イオン性のブロックであり、
・ブロックBがα−エチレン式不飽和単量体から誘導する反復単位を含む、組成物のpH条件において中性のブロックである
ことからなる化粧料組成物。 - ブロックAが多陽イオン性のブロックであり、そして
・トリメチルアンモニウムエチル(メタ)アクリレートクロリド、トリメチルアンモニウムエチル(メタ)アクリレートメチルサルフェート、トリメチルアンモニウムエチル(メタ)アクリルアミドクロリド、トリメチルアンモニウムプロピル(メタ)アクリルアミドクロリド、
・次の式:
・R1は、水素原子、又はメチル若しくはエチル基であり、
・R2、R3、R4、R5及びR6は同種又は異種であって、線状又は分岐状C1〜C6アルキル基であり、
・mは、1〜10の整数であり、
・nは、1〜6の整数であり、
・Zは、−C(O)O−若しくは−C(O)NH−基、又は酸素原子を表わし、
・Aは(CH2)p基を表わし、ここでpは1〜6の整数であり、
・Bは、1個以上のヘテロ原子又はヘテロ基によって随意に中断され得、そして1個以上のヒドロキシル又はアミノ基によって随意に置換しうる線状又は分岐状C2〜C12ポリメチレン鎖を表わし、
・Xは同種又は異種であって、対イオンを表わす]を有する単量体、
・それらの混合物、及びそれらから誘導するマクロ単量体、
よりなる群から選択される単量体から誘導する反復単位を含む請求項1記載の組成物。 - ブロックBが、
・ポリエチレン及び/又はポリプロピレンオキシド(メタ)アクリレート、
・酢酸ビニル、
・α−エチレン式不飽和カルボン酸のアミド、
・α−エチレン式不飽和モノカルボン酸のエステル、
・ビニルニトリル、
・ビニルアミンアミド、
・ビニルアルコール、
・ビニルピロリドン、及び
・ビニル芳香族化合物、
よりなる群から選択される単量体から誘導する反復単位を含む請求項1又は2に記載の組成物。 - ブロックBが、
・スチレン、
・アクリルアミド、メタクリルアミド、
・アクリルニトリル、
・アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−プロピル、アクリル酸n−ブチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−プロピル、メタクリル酸n−ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、及び
・アクリル酸2−ヒドロキシエチル、
よりなる群から選択される単量体から誘導する反復単位を含む請求項1又は2に記載の組成物。 - ブロックBが親水性水溶性ブロックであり、そして
・ビニルアルコール、
・ビニルピロリドン、
・ポリエチレンオキシド(メタ)アクリレート(即ち、ポリエトキシル化(メタ)アクリル酸)、
・α−エチレン式不飽和モノカルボン酸のヒドロキシアルキルエステル、
・α−エチレン式不飽和モノカルボン酸のヒドロキシアルキルアミド、
・アクリルアミド、及びメタクリルアミド、
よりなる群から選択される単量体から誘導する単位を含む請求項1又は2に記載の組成物。 - ブロックBが疎水性ブロックであり、そして
・α−エチレン式不飽和モノカルボン酸のアルキルエステル、
・アクリロニトリル、
・3〜12個の炭素原子を含むビニルニトリル、
・ビニルアミンアミド、及び
・ビニル芳香族化合物、
よりなる群から選択される単量体から誘導する単位を含む請求項1又は2に記載の組成物。 - ブロックBが疎水性ブロックであり、そしてアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−プロピル、アクリル酸n−ブチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−プロピル、メタクリル酸n−ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシル及びスチレンよりなる群から選択される単量体から誘導する単位を含む請求項1又は2に記載の組成物。
- 二ブロック共重合体が、リビング又は制御遊離基重合法によって得られる請求項1〜7のいずれか一項記載の組成物。
- 皮膚用化粧料組成物における慣用成分を含む請求項1〜8のいずれか一項記載の組成物。
- 毛髪用化粧料組成物における慣用成分を含む請求項1〜9のいずれか一項記載の組成物。
- 化粧料組成物に、2個のブロックA及びBからなる二ブロック共重合体であって、
・ブロックAはいかなるpHにおいても陽イオン性の反復単位を含み、式:−NR 3 + (式中、Rは同種又は異種であり、1〜10個の炭素原子を含むアルキル基を表わす)のアンモニウム基と陰イオン(対イオン)とを含むα−エチレン式不飽和単量体から誘導する反復単位を含む、組成物のpH条件において多陽イオン性のブロックであり、
・ブロックBがα−エチレン式不飽和単量体から誘導する反復単位を含む、組成物のpH条件において中性のブロックである
ことからなる二ブロック共重合体を添加する工程を含む請求項1〜10のいずれか一項記載の化粧料組成物の製造法。
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