JP4193082B2 - レーザ溶接用ノズル - Google Patents
レーザ溶接用ノズル Download PDFInfo
- Publication number
- JP4193082B2 JP4193082B2 JP35101298A JP35101298A JP4193082B2 JP 4193082 B2 JP4193082 B2 JP 4193082B2 JP 35101298 A JP35101298 A JP 35101298A JP 35101298 A JP35101298 A JP 35101298A JP 4193082 B2 JP4193082 B2 JP 4193082B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- nozzle
- center
- laser welding
- swirl tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザ溶接に用いられるガスノズルに係わり、さらに詳しくは加工点である溶接部から飛散するスパッタの飛来軌跡を変化させることができ、もってスパッタの集光レンズ、あるいは保護ガラスへの付着を防止することができるレーザ溶接用ノズルに関するものである。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】
レーザ溶接において、溶接用加工ヘッドに備えた集光レンズを溶融金属部から飛散するスパッタから保護し、レンズの汚染を防止する試みとして、特開平9−1372号公報には、加工ヘッドのハウジングの内側全域をエアカーテン状に横断するシールドガスを吹込むスリット状の吹込孔を設けると共に、この吹込孔に相対する側にシールドガスの排出孔を設け、吹込孔から多量のシールドガスを吹込むことによって得られるカーテン状の高速気流により、加工点で発生し、集光レンズに向かって飛来するスパッタの軌跡を変化させるようにした溶接用加工ヘッドが提案されている。
【0003】
しかしながら、上記公報に記載された溶接用加工ヘッドにおいては、スパッタの飛来軌跡を変化させているのがエアカーテンの発生ポイント、すなわち吹込孔のみであることから、必ずしも十分な軌跡変化が生じるとは限らず、軌跡変化が不十分な場合にはスパッタが集光レンズにまで到達してレンズを汚染することがある。また、軌跡変化が十分な場合でもハウジングの内壁で跳ね返ったスパッタが集光レンズに付着する可能性があるという問題点があり、このような問題点を解消して、スパッタの付着防止効果を十分なものとすることが上記のようなレーザ溶接用ノズルにおける課題となっていた。
【0004】
【発明の目的】
本発明は、従来のレーザ溶接用ノズルにおける上記課題に着目してなされたものであって、加工点における溶融金属から飛来するスパッタの軌跡を大きく変化させることができ、集光レンズあるいは集光レンズをカバーする保護ガラスへのスパッタの付着を効果的に阻止することができ、集光レンズの汚染、損傷を防止し、保護ガラスの交換頻度を大幅に低減、あるいは交換を不要にすることのできるレーザ溶接用ノズルを提供することを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項1に係わるレーザ溶接用ノズルは、集光レンズと加工点の間に、レーザ光の中心からオフセットした位置を中心として配設された略円筒状のガス旋回槽と、該ガス旋回槽の底部にレーザ光と同軸に配設されたセンターガスノズルを備え、前記ガス旋回槽の中心からオフセットした位置にシールドガスの吹出口が設けてある構成としたことを特徴としており、レーザ溶接用ノズルにおけるこのような構成を前述した従来の課題を解決するための手段としている。
【0006】
本発明に係わるレーザ溶接用ノズルの実施態様として請求項2に係わるノズルにおいては、ガス旋回槽中心のレーザ光中心からのオフセット距離が前記集光レンズの半径以上である構成とし、同じく実施態様として請求項3に係わるレーザ溶接用ノズルにおいては、ガス旋回槽中心のレーザ光中心からのオフセット距離が前記集光レンズを覆う保護ガラスの半径以上である構成とし、さらに実施態様として請求項4に係わるレーザ溶接用ノズルにおいては、センターガスノズルから吐出されるシールドガス流を横切るエアカーテン状のシールドガス流を発生する噴出口を備えている構成としたことを特徴としている。
【0007】
【発明の作用】
本発明の請求項1に係わるレーザ溶接用ノズルにおいては、レーザ光の中心からオフセットした位置を中心とする略円筒状のガス旋回槽を備えると共に、ガス旋回槽の底部にレーザ光と同軸に配設されたセンターガスノズルを備えており、このガス旋回槽の中心からオフセットした位置にシールドガスの吹出口が設けてあるので、吹出口からガス旋回槽中に送給されたシールドガスは、旋回槽内壁に沿って方向を変え、レーザ光を横切るスパイラル状の旋回流となってセンターガスノズルの出口から加工点に向かって吐出されることになる。したがって、加工点である溶接部から飛散したスパッタが、センターガスノズル内を流れ、当該ガスノズルの出口から吐出されるシールドガス流に抗してガス旋回槽内に飛来したとしても、旋回槽中を流れるシールドガスの旋回流によって集光レンズ方向に直交する方向の力を連続的に受けることになるので、スパッタの飛来軌跡が大きく変化し、たとえ当該ノズルのハウジング内壁で跳ね返ったとしても集光レンズ、あるいは集光レンズ前面に配設された保護ガラスに到達することはない。
【0008】
本発明に係わるレーザ溶接用ノズルの実施態様として請求項2に係わるノズルにおいては、ガス旋回槽の中心が集光レンズの半径以上の距離となるようにレーザ光の中心からオフセットしてあるので、シールドガスの旋回流が集光レンズの前面をその全域に亘って横切るようになることから、集光レンズへのスパッタの付着が確実に防止されることになり、同じく実施態様として請求項3に係わるレーザ溶接用ノズルにおいては、ガス旋回槽の中心位置が集光レンズを覆う保護ガラスの半径以上の距離だけレーザ光の中心からオフセットしてあるので、シールドガスの旋回流が同様に保護ガラスの前面全域を横切ることから、集光レンズが保護ガラスによってカバーされている場合に保護ガラスへのスパッタの付着が確実に防止され、保護ガラスの交換が不要、あるいはその交換頻度が大幅に減少することになる。
【0009】
また、実施態様として請求項4に係わるレーザ溶接用ノズルは、さらにエアカーテン状のシールドガス流を発生する噴出口(エアナイフ)を備え、当該噴出口から噴出する高速のシールドガス流によって、ガス旋回槽の底部に配設されたセンターガスノズルから吐出されるシールドガス流を横切るようにしてあるので、溶接部から飛来するスパッタの大部分がこのエアカーテン状のシールドガス流によってガスノズル内への飛来が阻止されると共に、センターガスノズルから加工点に向けて吐出されるシールドガスの流れがこのエアカーテン状のシールドガス流によって遮られることから、シールドガスの溶接ビードへの影響が最小限に抑えられる。また、前記噴出口からのエアカーテン状のシールドガス流およびセンターガスノズルから吐出されるシールドガス流に逆らってガスノズル内にスパッタが侵入したとしても、旋回槽中を流れるシールドガスの旋回流によって、スパッタの飛来軌跡が大きく変化し、集光レンズや保護ガラスに付着するようなことはない。
【0010】
【発明の効果】
本発明の請求項1に係わるレーザ溶接用ノズルは、上記構成、とくにレーザ光の中心からオフセットした位置を中心とする略円筒状のガス旋回槽を備え、このガス旋回槽の中心からオフセットした位置にシールドガスの吹出口を設けた構成を備えたものであるから、加工点から飛来したスパッタが、センターガスノズルから吐出されるシールドガス流に逆らって当該ノズル内に侵入したとしても、旋回槽中を流れるシールドガスの旋回流によって、スパッタの飛来軌跡を大きく変化させることができ、集光レンズや保護ガラスへの付着を防止することができるという極めて優れた効果をもたらすものである。
【0011】
また、本発明に係わるレーザ溶接用ノズルの実施態様として請求項2に係わるノズルにおいては、ガス旋回槽中心のレーザ光中心からのオフセット距離を集光レンズの半径以上とした構成のものであるから、シールドガスの旋回流が集光レンズの前面をその全域に亘って横切ることになり、集光レンズへのスパッタ付着防止効果をより確実なものとすることができ、同じく実施態様として請求項3に係わるレーザ溶接用ノズルにおいては、ガス旋回槽中心のレーザ光中心からのオフセット距離を集光レンズを覆う保護ガラスの半径以上とした構成のものであるから、シールドガスの旋回流が同様に保護ガラスの前面全域を横切ることになり、保護ガラスへのスパッタの付着をより確実に防止することができ、保護ガラスの交換をほとんど不要にすることができるようになり、さらに実施態様として請求項4に係わるレーザ溶接用ノズルにおいては、センターガスノズルから吐出されるシールドガス流を横切るエアカーテン状のシールドガス流を発生する噴出口を備えた構成のものであるから、エアカーテン状のシールドガス流によって、溶接部から飛来するスパッタの大部分を吹き飛ばして、スパッタのノズル内への飛来をほとんど阻止することができると共に、センターガスノズルから加工点に向けて吐出されるシールドガスの流れを遮ってシールドガスの溶接ビードへの影響を低減することができるというさらに優れた効果がもたらされる。
【0012】
【実施例】
以下、本発明を図面に基づいて、さらに具体的に説明する。
実施例1
図1および図2は、本発明の一実施例に係わるレーザ溶接用ノズルの構造を示すものであって、図1(a)は当該レーザ溶接用ノズルの縦断面図、図1(b)はその平面図、図2はその側面図である。
【0013】
図に示すレーザ溶接用ノズル1は、集光レンズ2およびその前面に位置する保護ガラス3の図中直下位置に装着されたガス旋回槽4と、このガス旋回槽4の底面に取付けられたセンターガスノズル5から主に構成され、センターガスノズル5は、漏斗状をなし、集光レンズ2によって加工点Wに集光されるレーザ光Lと同軸となるように配設されている。
【0014】
ガス旋回槽4は、図中の上方側にやや開いたバケット形の中空円筒状をなし、その中心Cを加工点W、すなわちレーザ光Lの中心から距離dだけオフセットされた位置に備えている。なお、このガス旋回槽4の中心Cのレーザ光Lからのオフセット距離dは、集光レンズ2および保護ガラス3の半径より僅かに大きな寸法に設定してある。
【0015】
そして、ガス旋回槽4には中心Cから前記オフセット距離dにほぼ等しい距離だけ離れた外周上にシールドガスの供給ノズル6を備えており、シールドガスをガス旋回槽4内に開口する吹出口6aからほぼ水平に噴出するようになっている。
【0016】
このような構造を備えたレーザ溶接用ノズル1においては、供給ノズル6からシールドガスの供給を開始すると、吹出口6aから噴出したシールドガスは、レーザ光Lを横切ったのち、ガス旋回槽4の内壁に衝突し、内壁に沿って方向を変えスパイラル状の旋回流となったのち、センターガスノズル5の出口5aから加工点Wに向かって吐出される。
【0017】
したがって、加工点W、すなわち溶接部の溶融プールから飛散したスパッタの多くは、センターガスノズル5から吐き出されるシールドガス流によってその飛散方向が変えられ、センターガスノズル5およびガス旋回槽4内への飛来が阻止されるが、一部のスパッタがセンターガスノズル5からのシールドガス流に逆らって、ガス旋回槽4内に飛来したとしても、旋回槽4内を流れるシールドガスの旋回流から水平方向の力を連続的に受けることになり、スパッタの飛来軌跡が大きく変化するので、集光レンズ2や、その前面に配設された保護ガラス3に到達することはない。また、スパッタがセンターガスノズル5やガス旋回槽4の内壁に衝突して跳ね返ったとしても、同様に水平方向の力を連続的に受けることになるので、集光レンズや保護ガラスに付着するようなことはなく、保護ガラスの交換回数を大幅に削減、あるいは交換の必要をなくすることができる。また、保護ガラスを配置していない場合であっても、集光レンズの損傷をほぼ確実に防止することができるようになる。
実施例2
図3は、本発明の他の実施例に係わるレーザ溶接用ノズルの構造を示すものであって、図3(a)は当該レーザ溶接用ノズルの縦断面図、図3(b)はその側面図である。
【0018】
この実施例に係わるレーザ溶接用ノズル11は、センターガスノズル5の下方に、エアカーテン状のシールドガス流を発生する噴出口を備え、この噴出口から噴出する高速のシールドガス流によって、センターガスノズル5から吐出されるシールドガスの加工点Wに向かう流れを遮るようにしたことを除いて、先に説明した実施例1に係わるノズル1と基本的に同じ構造を備えているので、構造的に同じ部分については、実施例1と同じ符号を付すことによって、説明を省略あるいは簡略化する。
【0019】
すなわち、図に示すレーザ溶接用ノズル11は、実施例1に係わるレーザ溶接用ノズルノズル1と同様のガス旋回槽4を集光レンズ2および保護ガラス3の直下位置に備え、レーザ光Lの中心から同様にオフセットされた外周上にシールドガスの供給ノズル6を備え、吹出口6aから当該旋回槽4内にシールドガスがほぼ水平に噴出されるようになっている。
【0020】
そして、ガス旋回槽4の底面には、同様の形状のセンターガスノズル5がレーザ光Lと同軸となるように配設されていて、供給ノズル6を経て吹出口6aから旋回槽4内に供給されたシールドガスを加工点Wに向けて吐き出すようになっていると共に、前記ガス旋回槽4に連通するガス送給路17が形成されており、当該ガス送給路17の先端部の噴出口17aをセンターガスノズル5の出口5aの側方に配設することによって、ガス旋回槽4内に供給されたシールドガスの一部をエアカーテン状のシールドガス流として噴出口17aから噴出させ、この高速シールドガス流がセンターガスノズル5から加工点Wに向けて吐出されるシールドガス流を横断するようにしてある。
【0021】
このような構造を備えたレーザ溶接用ノズル11において、供給ノズル6を介して吹出口6aからガス旋回槽4内に吹出されたシールドガスは、旋回槽4内において旋回流となったのち、センターガスノズル5の出口5aから加工点Wに向かって吐出されると共に、ガス送給路17を経て噴出口17aからエアカーテン状の高速シールドガス流となって噴出し、前記センターガスノズル5から吐出されて加工点Wに向かうシールドガスの流れを遮断する。
【0022】
したがって、加工点Wから飛散したスパッタの大部分は、噴出口17aから噴出される高速シールドガス流によって吹き飛ばされることから、ノズル内へのスパッタの飛来がほとんど阻止されることになると共に、このカーテン状の高速シールドガス流およびセンターガスノズル5から吐出されるシールドガス流に抗してガスノズル内に侵入するスパッタがあったとしても、旋回槽4中を流れるシールドガスの旋回流によって、上記同様に当該スパッタの飛来軌跡が大きく変化することから、集光レンズ2や保護ガラス3に付着してこれらを汚染、損傷するようなことがない。
【0023】
また同時に、センターガスノズル5から吐出されて加工点Wに向かうシールドガスの流れが、噴出口17aから噴出するエアカーテン状の高速シールドガス流によって遮られることから、溶接ビードに対するシールドガスの影響を最小限に低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a) 本発明の一実施例に係わるレーザ溶接用ノズルの構造を示す縦断面図である。
(b) 図1(a)に示したレーザ溶接用ノズルの平面図である。
【図2】図1(a)に示したレーザ溶接用ノズルの側面図である。
【図3】(a) 本発明の他の実施例に係わるレーザ溶接用ノズルの構造を示す縦断面図である。
(b) 図3(a)に示したレーザ溶接用ノズルの側面図である。
【符号の説明】
1,11 レーザ溶接用ノズル
2 集光レンズ
3 保護ガラス
4 ガス旋回槽
5 センターガスノズル
6a 吹出口
17a 噴出口
L レーザ光
W 加工点
Claims (4)
- 集光レンズと加工点の間に、レーザ光の中心からオフセットした位置を中心として配設された略円筒状のガス旋回槽と、該ガス旋回槽の底部にレーザ光と同軸に配設されたセンターガスノズルを備え、前記ガス旋回槽の中心からオフセットした位置にシールドガスの吹出口が設けてあることを特徴とするレーザ溶接用ノズル。
- ガス旋回槽中心のレーザ光中心からのオフセット距離が前記集光レンズの半径以上であることを特徴とする請求項1記載のレーザ溶接用ノズル。
- ガス旋回槽中心のレーザ光中心からのオフセット距離が前記集光レンズを覆う保護ガラスの半径以上であることを特徴とする請求項1記載のレーザ溶接用ノズル。
- 前記センターガスノズルから吐出されるシールドガス流を横切るエアカーテン状のシールドガス流を発生する噴出口を備えていることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載のレーザ溶接用ノズル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35101298A JP4193082B2 (ja) | 1998-12-10 | 1998-12-10 | レーザ溶接用ノズル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35101298A JP4193082B2 (ja) | 1998-12-10 | 1998-12-10 | レーザ溶接用ノズル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000176672A JP2000176672A (ja) | 2000-06-27 |
JP4193082B2 true JP4193082B2 (ja) | 2008-12-10 |
Family
ID=18414446
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP35101298A Expired - Fee Related JP4193082B2 (ja) | 1998-12-10 | 1998-12-10 | レーザ溶接用ノズル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4193082B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE202013102339U1 (de) | 2013-05-29 | 2014-09-10 | Reis Group Holding Gmbh & Co. Kg | Crossjet-Anordnung |
JP6385119B2 (ja) * | 2014-04-15 | 2018-09-05 | 株式会社アマダホールディングス | 保護ガラス汚染防止方法及びレーザ加工ヘッド |
-
1998
- 1998-12-10 JP JP35101298A patent/JP4193082B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000176672A (ja) | 2000-06-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6659746B2 (ja) | 保護ウインドの汚れを抑制するレーザ加工ヘッド | |
JP2000263276A (ja) | レーザー加工ヘッド | |
JP2007021574A (ja) | レーザ加工ヘッド | |
US7067759B2 (en) | Metal working | |
JP2007216290A (ja) | レーザトーチ | |
JPH11267876A (ja) | レーザ加工用ノズル | |
JP2004538157A (ja) | レーザ穿孔プロセス時におけるワーク表面のアブレーションプロダクトを減じる装置 | |
JPS59223191A (ja) | レ−ザ溶接装置 | |
JP4193082B2 (ja) | レーザ溶接用ノズル | |
JPH10113786A (ja) | レーザ加工装置の加工ヘッド | |
JPH11123578A (ja) | レーザ加工ヘッド | |
JP2865543B2 (ja) | レーザ加工ヘッド | |
JP2001269788A (ja) | レーザ溶接用ノズル | |
JPH11245077A (ja) | レーザ加工ヘッド | |
JPH091374A (ja) | レーザ加工機における溶接用加工ヘッド | |
JPH11267874A (ja) | レーザ加工用ノズル | |
JP2804853B2 (ja) | レーザ出射ユニット | |
JPH01107994A (ja) | レーザ溶接方法および装置 | |
JPH06170577A (ja) | レーザ加工装置 | |
JPH0550284A (ja) | レーザ溶接用シールドガスノズル | |
JPH09141482A (ja) | レーザ加工装置 | |
JP5412813B2 (ja) | レーザ溶接シールド方法及びシールドガス供給ノズル及びレーザ溶接シールド装置 | |
JP3740900B2 (ja) | レーザ加工トーチ | |
JPH09164495A (ja) | レーザ加工ヘッド | |
JP2006068773A (ja) | ハイブリッドレーザ溶接機 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051026 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080411 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080416 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080828 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080910 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111003 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121003 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121003 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131003 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |