JP4189145B2 - 微細パターンの製造方法及び製造装置 - Google Patents
微細パターンの製造方法及び製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4189145B2 JP4189145B2 JP2001342483A JP2001342483A JP4189145B2 JP 4189145 B2 JP4189145 B2 JP 4189145B2 JP 2001342483 A JP2001342483 A JP 2001342483A JP 2001342483 A JP2001342483 A JP 2001342483A JP 4189145 B2 JP4189145 B2 JP 4189145B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- derivatives
- fine pattern
- solution
- film
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
本発明は、自己組織化(自己集合化)現象を用いた、空間的規則性を有する物質の微細(微小)パターンの製造方法及び製造装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
今日、光学材料や電子材料の分野では、集積度の向上や情報量の高密度化、画像情報の高精細化といった要求がますます大きくなっている。技術動向としては、ブレークダウン法やケミカルプロセスによるパターン製造に限界が見え始めており、ナノテクノロジー分野における自己組織化技術が注目を集めている。
【0003】
有機物の微細パターニングについては、マスクを用いた蒸着法、光化学反応ならびに重合反応を用いた光リソグラフィー技術、レーザーアブレーション技術等、種々の方法が知られており実用化もされている。蒸着法では、比較的簡単な工程で微細パターンが形成できる利点を有するが、50マイクロメートル程度の精度しか得られないため、これより微小なサイズのパターンニングには不向きである。
【0004】
有機物で薄膜を製造し、デバイス材料として使用する場合、均一かつ強靱な膜を製造するためには、ポリマー材料を使用するのが最も好ましい。しかしポリマー材料の場合、蒸着法やレーザーアブレーションなどの方法で、気相に分子を蒸発させることは困難である。無理にこれを行おうとすると、高温プロセスのために好ましくない分解反応が起こることが多く、デバイスの性能を大きく低下させる原因となる。また、光リソグラフィー技術のように溶媒を用いた洗浄工程などが存在すると、微細なパターンが壊れることも多く、また溶解工程における不純物の混入等で、デバイスの性能が大きく低下することが多い。
【0005】
上記の問題点を回避するために、ポリマー膜の製膜過程において、微細化されたパターンが、そのまま製造され、次の工程に入ることが最も好ましい。二相系での非混合溶媒系等における微細パターンの製造方法については、Thin Solid Films(1998),327〜329,854〜856やChaos(1999),9(2),308〜314に記載がある。
【0006】
ところが上記に記載の方法を用いた場合、ハニカム状の穴のあいたポリマー膜の製造は確認されたが、それ以外の微細パターンを製造することができなかった。
【0007】
発光素子、光学デバイス、電子デバイスなどを作製することを考えた場合、多孔性のマトリックスのみならず、種々の微細パターンの製造が必要となる。ところが今までの技術では、これを達成することができなかった。
【0008】
さらに、これまでの膜の製造方法では、平面状に膜を製造することは可能であったが、立体の表面上に膜面を製造することは不可能であった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、従来の上記問題点を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明の目的は、マイクロメートルオーダー、ナノメートルオーダーの精度を有し、かつ、簡便な工程で得られる、種々のデバイスに使用可能な微細パターンの製造方法及び製造装置を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、高度な空間規則性を有する、物質の物体の面上に製造された微細パターン、その製造方法、製造方法を行う装置について検討の結果、下記に記載の解決手段を用いて本発明に到達したものである。
【0011】
(1) 平滑な膜面を有する2つの物体を、その膜面が接するように互いに密着させるとともに、その膜面の間隙に微細パターンとして析出する溶質とその溶媒とからなる溶液を満たし、膜面の間隙を溶液を満たした際の状態に維持しつつ膜面間の接触状態を解除するように少なくとも一方の物体をもう一方の物体に対して膜面と平行に移動させながら露出した膜面上の溶液に気液界面を生じさせ、該溶液から溶媒を蒸発させて溶質を析出させることにより微細パターンを自己組織化現象を用いて形成することを特徴とする微細パターンの製造方法。
(2) 平滑な膜面を有する2つの物体を、その膜面が接するように互いに密着させるとともに、その膜面の間隙に微細パターンとして析出する溶質とその溶媒とからなる溶液を満たし、膜面の間隙を溶液を満たした際の状態に維持しつつ膜面間の接触状態を解除するように少なくとも一方の物体をもう一方の物体に対して膜面と平行に移動させながら露出した膜面上の溶液に気液界面を生じさせ、該溶液から溶媒を蒸発させて溶質を析出させることにより微細パターンを自己組織化現象を用いて形成することを特徴とする微細パターンの製造装置。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の微細パターン並びにその製造方法、及びその微細パターンを用いた、発光素子、光学デバイス、電子デバイスについて詳細に説明する。なお本明細書において「〜」はその前後に記載される数値を、それぞれ最小値および最大値として含む範囲を示す。
【0013】
(機構)
本発明における微細パターンの製造過程について説明する。なお本願請求項1〜2の発明は、発明の新規性喪失の例外の適用を受ける発明である。化学物質を含有する溶液が毛細管現象により2つの物体の界面に存在する。これを移動させていくと両者の表面に溶液が展開し、そこに生じた気液界面から溶媒の蒸発が起こる。このとき溶質が析出すると、そこが核になって溶質が析出し始め、つぎつぎその場所に溶液が供給される。ところが移動そのものは連続して起きているため、ある時点で溶液の供給が追いつかなくなり、新たな核発生が起きるまで、溶質の析出は起こらない。この核発生の場所は、移動速度を一定に保つことにより、一定間隔で生じさせることが可能である。このようにして規則的な微細パターンを製造することができる。すなわち本発明における自己組織化とは、外部からのエネルギーや物質を加えることなく、その物質自体が局所的な非平衡条件下による析出のダイナミクス(界面でのフィンガリング不安定性を用いた溶質の析出)を使い、物質の疎水性相互作用や水素結合などの分子間相互作用による空間的規則性を有する集合体を形成する現象を意味する。
【0014】
本発明の製造方法を実施するには、平滑な2つの膜面が互いに接するように重ね合わせる必要がある。この方法としては、例えば平滑な2枚のガラス基板、プラスチック基板、MICA基板、金属基板、またはセラミックス基板などの膜面を張り合わせるように重ね合わせる方法を挙げることができる。本発明の製造方法を具現する製造装置を図1に示す。
【0015】
図1において、1は基台で、この基台1には、基材としての平板状の基板を固定する固定手段2が設けられている。また、基台1の略水平線上の側方には、基材としての平板状の基板を挟持するとともに、水平方向に進退自在に設けられた挟持手段3が設けられている。
【0016】
以上のような製造装置で微細パターンを形成するには、まず、2枚の基板(スライドガラス)4、5が僅かの間隙を持って重なりあった状態で、一方の基板4を基台1に固定手段2で固定するとともに、もう一方の基板5を挟持手段3で固定する。次に、この基板4、5間の間隙に、所定の溶液6を注入、展開し、その後、挟持手段を水平方向の左方向へ移動させ、基板5を基板4上をスライドさせて引き離す。そして、この基板4、5の引き離される過程において、基板4、5の膜面に微細パターンが形成される。
【0017】
また、立体上に膜面を製造するためには、注射器やエンジンに見られるシリンダーのような、入れ子構造として膜面を接する方法がある。同様に本発明の製造方法を具現する製造装置を図2及び図3に示す。
【0018】
図2及び図3において、11は円筒状の基材、12は円柱状の基材であり、基材12は、基材11内に挿入できるように、基材11の内径より僅かに短い径となるように形成されている。
【0019】
以上のような製造装置で微細パターンを形成するには、基材11内に基材12を所定長さ挿入し、これらの間隙に溶液13を注入、展開する。そして、どちらか一方又は両方を反対方向へスライドさせ、基材12を基材11から分離させる。この過程において基材11の内面及び基材12の外面に微細パターンが形成される。
【0020】
膜面を重ね合わせて移動させるとき、2つの物体が平面同士の場合、上下に重ね合わせたり、重ね合わせた膜面が垂直になるように重ね合わせたりすることもできる。立体的に入れ子構造になっている場合にも、移動方向が地面に対して平行であっても垂直であってもよい。また移動する2つの物体は、両方が移動しても、片方が固定されていて他の一方が移動してもよい。
【0021】
本発明において、移動する2つの物体は、片方が固定されていて他の一方が移動する方式が好ましく、また移動させる方向は水平方向に一定速度で移動させることが好ましい。このときの移動速度は0.0001〜1000mm/secであり、好ましくは0.01〜100mm/secであり、さらに好ましくは0.05〜100mm/secの範囲である。
【0022】
移動する2つの物体の接触部(間隙)に溶液を満たし、可動方向に膜面を移動させることによって、微細パターンを製造させることができる。接触部のクリアランスは、0.0001mm〜5mmが好ましく、さらに好ましくは0.001〜1mmである。
【0023】
移動する2つの物体(膜面を重ね合わせる基材)の材質としては、ガラス、金属、金属酸化物などの無機化合物、ポリマー、MICA等の鉱物系化合物など種々の化合物同士もしくはガラスと金属など種々の組み合わせが可能である。デバイス化する際、これらの基材に電極材料(ITOや酸化スズ、金属や合金等)がコーティングされたものも好ましく使用できる。
【0024】
本発明に用いる溶液は、有機低分子化合物を溶かした溶液、有機高分子化合物を溶かした溶液、無機低分子化合物を溶かした溶液、無機高分子化合物を溶かした溶液、有機物の微粒子が分散した分散液、無機物の微粒子が分散した分散液など種々のものが使用できる。また、単一成分の溶液ではなく、有機高分子と低分子が混在する溶液など、種々の混合溶液(異なる分子量をもつ物質の混合、無機物質及び有機物質の混合、無機有機ハイブリッドと他の無機有機物質との混合等)を使用することも可能である。この中で好ましい溶質としては、分子間相互作用を活用すると、有機低分子化合物もしくは有機高分子化合物であり、特に好ましくは有機高分子化合物である。
【0025】
本発明に用いる溶液の溶質の濃度としては0.001〜98質量%、好ましくは0.005〜80質量%、さらに好ましくは0.01〜50質量%である。
【0026】
有機低分子化合物の場合、本発明の方法に対しては、種々の化合物を使用可能であるが、溶媒が蒸発した後に均質な構造を製造するために、アモルファス性を有する化合物を使用するのが好ましい。このような化合物としては、長鎖のアルキル基を有する化合物や、分子内に光学活性炭素(不斉炭素)を複数有する化合物等を使用することができる。また、アモルファス性有機化合物として、π電子系有機固体(季刊 化学総説No.35,1998 学会出版センター p.71〜92に記載に化合物)も好ましく使用できる。オリゴマーやデンドリマーといった大型の分子も使用可能である。さらには、アモルファス性を向上させるために、いくつかの化合物を混合して使用することも可能である。
【0027】
有機高分子化合物(ポリマー)の場合、その種類としては、種々のものが使用可能である。例えばビニル重合ポリマー(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルエーテル、ポリビニルカルバゾール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコールなど、もしくはその共重合体も含む)、ポリエステル(例えばポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレートなど、もしくはその混合重合体)、ポリアミドもしくはポリイミド(例えばナイロンやポリアミド酸など)、ポリアロマティックス、ポリエーテル(例えばポリエーテルスルホンなど)等、種々のものを使用することができる。
【0028】
使用するポリマーの分子量としては、数平均分子量(Mn)で1000〜10000000、好ましくは5000〜1000000である。
【0029】
溶媒としては、常温(摂氏15℃〜30℃)で液体のものが好ましく使用される。水、アルコール系溶媒、エステル系溶媒、アミド系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭素系溶媒、ケトン系溶媒、エーテル系溶媒等、種々の溶媒を使用可能であるが、好ましくは大気圧条件下での沸点が−50〜250℃、好ましくは0℃〜150℃さらに好ましくは0℃〜90℃の有機溶媒である。各種デバイスにパターンを使用する際には、デバイス中に残存する水分を減少させるために、中でも水の溶解度が10g/100g溶媒以下の有機溶媒が好ましく使用できる。
【0030】
(環境条件)
本発明のパターンを製造するためには、環境温湿度、パターンを製造する物体や基板の温度などを適切な条件に設定することが必要である。
【0031】
環境温湿度のうち、温度は摂氏−50℃〜150℃、好ましくは−20℃〜100℃、さらに好ましくは0℃〜60℃である。また湿度は、相対湿度として1〜100%RH、好ましくは10〜100%RHである。
【0032】
基板温度は好ましくは摂氏−50℃〜200℃、好ましくは−20℃〜150℃、さらに好ましくは0℃〜100℃である。
【0033】
本発明の製造方法の製造条件を制御することにより、所望するデバイス(素子)に応じて、ドットパターン、ストライプパターン、格子状パターン、ハニカム状など種々のパターンを製造することが可能である。
【0034】
本発明の製造方法により製造できるパターンは、その間隔や大きさとして種々のものを製造可能である。大きさ・間隔ともに0.1nm〜100mm、好ましくは1nm〜10mmの範囲で作製可能である。
【0035】
本発明の電子デバイスは、導電性高分子材料を用いてパターニングを行うことにより、微小サイズの配線を導電性高分子材料を含む溶液から製造することができる。また、エレクトロクロミック材料を用いることで、電流に応じたパターンの変化を利用した表示デバイスなどの作成も可能である。
【0036】
本発明の光学デバイスは、回折格子(グレーティング材料)や干渉フィルターとしての利用が可能である。また蛍光又は燐光材料を利用すれば、規則的なパターンを持った露光材料や、ディスプレイ材料のフィルターとしての使用が可能である。規則的なパターンを制御することで、フォトニック結晶と同様の効果を、有機材料を用いて実現することも可能である。
【0037】
また、光、熱、電気、磁気といった物理的なエネルギーを加えることによって状態変化や化学変化を起こしうる材料を用いることで、決められたドットパターンに番地を割り当てることにより、記録材料を作製することが可能である。
【0038】
上述のように、本発明の製造方法を用いて、基板もしくは立体物上に様々なパターンを製造してそれを光学素子、電子素子、発光素子として使用することが可能であるが、以下に本発明のパターンを有する発光素子に関して具体的に述べる。
【0039】
本発明の発光素子は、陽極、陰極の一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む有機層を有する素子であり、発光層のほか正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、保護層などを有してもよく、またこれらの各層はそれぞれ他の機能を備えたものであってもよい。各層の製造にはそれぞれ種々の材料を用いることができる。
【0040】
本発明の発光素子においては、製造された微細パターンを発光素子の有機層として使用するのが好ましく、製造された微細パターンを発光素子の発光層として使用するのがより好ましい。本発明の発光素子の有機層を構築するために、上述した自己組織化(自己集合化;self−assembly)として知られている機構を使用することができる。
【0041】
陽極は正孔注入層、正孔輸送層、発光層などに正孔を供給するものであり、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物などを用いることができ、好ましくは仕事関数が4eV以上の材料である。具体例としては、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ(ITO)等の導電性金属酸化物、あるいは金、銀、クロム、ニッケル等の金属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物または積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、およびこれらとITOとの積層物などが挙げられ、好ましくは、導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、透明性等の点からITOが好ましい。
【0042】
陽極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常10nm〜5μmの範囲のものが好ましく、より好ましくは50nm〜1μmであり、更に好ましくは100nm〜500nmである。
【0043】
陽極は通常、ソーダライムガラス、無アルカリガラス、透明樹脂基板などの上に層製造したものが用いられる。ガラスを用いる場合、その材質については、ガラスからの溶出イオンを少なくするため、無アルカリガラスを用いることが好ましい。また、ソーダライムガラスを用いる場合、シリカなどのバリアコートを施したものを使用することが好ましい。基板の厚みは、機械的強度を保つのに十分であれば特に制限はないが、ガラスを用いる場合には、通常0.2mm以上、好ましくは0.7mm以上のものを用いる。
【0044】
陽極の作製は、材料によって種々の方法が用いられるが、例えばITOの場合、電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、化学反応法(ゾル−ゲル法など)、酸化インジウムスズの分散物の塗布などの方法で膜製造される。陽極は洗浄その他の処理により、素子の駆動電圧を下げたり、発光効率を高めることも可能である。例えばITOの場合、UV−オゾン処理、プラズマ処理などが効果的である。
【0045】
陰極は電子注入層、電子輸送層、発光層などに電子を供給するものであり、電子注入層、電子輸送層、発光層などの負極と隣接する層との密着性やイオン化ポテンシャル、安定性等を考慮して選ばれる。
【0046】
陰極の材料としては金属、合金、金属ハロゲン化物、金属酸化物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物を用いることができ、具体例としてはアルカリ金属(例えばLi、Na、K、Cs等)及びそのフッ化物、アルカリ土類金属(例えばMg、Ca等)及びそのフッ化物、金、銀、鉛、アルニウム、ナトリウム−カリウム合金またはそれらの混合金属、リチウム−アルミニウム合金またはそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金またはそれらの混合金属、インジウム、イッテリビウム等の希土類金属等が挙げられ、好ましくは仕事関数が4eV以下の材料であり、より好ましくはアルミニウム、リチウム−アルミニウム合金またはそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金またはそれらの混合金属等である。
【0047】
陰極は、上記化合物及び混合物の単層構造だけでなく、上記化合物及び混合物を含む積層構造を取ることもできる。陰極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常10nm〜5μmの範囲のものが好ましく、より好ましくは50nm〜1μmであり、更に好ましくは100nm〜1μmである。
【0048】
陰極の作製には、電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、コーティング法などの方法が用いられ、金属を単体で蒸着することも、二成分以上を同時に蒸着することもできる。さらに、複数の金属を同時に蒸着して合金電極を製造することも可能であり、またあらかじめ調整した合金を蒸着させてもよい。陽極及び陰極のシート抵抗は低い方が好ましく、数百Ω/□以下が好ましい。
【0049】
発光層の材料は、電界印加時に陽極または正孔注入層、正孔輸送層から正孔を注入することができると共に陰極または電子注入層、電子輸送層から電子を注入することができる機能や、注入された電荷を移動させる機能、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する層を製造することができるものであれば何でもよい。好ましくは発光層に本発明のアミン化合物を含有するものであるが、他の発光材料を用いることもできる。例えばベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘導体、ペリレン誘導体、ペリノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、アルダジン誘導体、ピラリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、スチリルアミン誘導体、芳香族ジメチリディン化合物、8−キノリノール誘導体の金属錯体や希土類錯体に代表される各種金属錯体等、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物等が挙げられる。
【0050】
発光層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常1nm〜5μmの範囲のものが好ましく、より好ましくは5nm〜1μmであり、更に好ましくは10nm〜500nmである。
【0051】
発光層に含有する発光材料(自らが発光素子の発光に寄与する物質)は、一重項励起子から発光するもの、三重項励起子から発光するもの、両者から発光するもの、いずれの発光材料においても使用可能である。特に三重項励起子からの発光が含まれる発光材料との組み合わせでその効果が発揮される。三重項励起子からの発光が観測される発光素子としては、イリジウム錯体(Ir(ppy)3:Tris−Ortho−Metalated Complex of Iridium(III) with 2−Phenylpyridine)からの発光を利用した緑色発光素子が報告されている(Applied Physics Letters 75,4(1999))。本素子は外部量子収率8%を達しており、従来素子の限界といわれていた外部量子収率5%を凌駕したことが報告されている。
【0052】
発光層の製造方法は、本発明の製造方法により得られる微細パターンを該層に適用しない場合、特に限定されるものではないが、抵抗加熱蒸着、電子ビーム、スパッタリング、分子積層法、コーティング法(スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など)、LB法、インクジェット法などの方法が用いられ、好ましくは抵抗加熱蒸着、コーティング法である。
【0053】
正孔注入層、正孔輸送層の材料は、陽極から正孔を注入する機能、正孔を輸送する機能、陰極から注入された電子を障壁する機能のいずれか有しているものであればよい。その具体例としては、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリ(N−ビニルカルバゾール)誘導体、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマー等が挙げられる。
【0054】
正孔注入層、正孔輸送層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常1nm〜5μmの範囲のものが好ましく、より好ましくは5nm〜1μmであり、更に好ましくは10nm〜500nmである。正孔注入層、正孔輸送層は上述した材料の1種または2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成または異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
【0055】
正孔注入層、正孔輸送層の製造方法としては、本発明の製造方法により得られる微細パターンを該層に適用しない場合、真空蒸着法やLB法やインクジェット法、前記正孔注入輸送剤を溶媒に溶解または分散させてコーティングする方法(スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など)が用いられる。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解または分散することができ、樹脂成分としては例えば、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、ポリ(N−ビニルカルバゾール)、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド、エチルセルロース、酢酸ビニル、ABS樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂などが挙げられる。
【0056】
電子注入層、電子輸送層の材料は、陰極から電子を注入する機能、電子を輸送する機能、陽極から注入された正孔を障壁する機能のいずれか有しているものであればよい。その具体例としては、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルビジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、8−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体等が挙げられる。
【0057】
電子注入層、電子輸送層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常1nm〜5μmの範囲のものが好ましく、より好ましくは5nm〜1μmであり、更に好ましくは10nm〜500nmである。電子注入層、電子輸送層は上述した材料の1種または2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成または異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
【0058】
電子注入層、電子輸送層の製造方法としては、本発明の製造方法により得られる微細パターンを該層に適用しない場合、真空蒸着法やLB法やインクジェット法、前記電子注入輸送剤を溶媒に溶解または分散させてコーティングする方法(スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など)などが用いられる。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解または分散することができ、樹脂成分としては例えば、正孔注入輸送層の場合に例示したものが適用できる。
【0059】
保護層の材料としては、水分や酸素等の素子劣化を促進するものが素子内に入ることを抑止する機能を有しているものであればよい。その具体例としては、In、Sn、Pb、Au、Cu、Ag、Al、Ti、Ni等の金属、MgO、SiO、SiO2、Al2O3、GeO、NiO、CaO、BaO、Fe2O3、Y2O3、TiO2等の金属酸化物、MgF2、LiF、AlF3、CaF2等の金属フッ化物、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレート、ポリイミド、ポリウレア、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンとジクロロジフルオロエチレンとの共重合体、テトラフルオロエチレンと少なくとも1種のコモノマーとを含むモノマー混合物を共重合させて得られる共重合体、共重合主鎖に環状構造を有する含フッ素共重合体、吸水率1%以上の吸水性物質、吸水率0.1%以下の防湿性物質等が挙げられる。
【0060】
保護層の製造方法についても特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、MBE(分子線エピタキシ)法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法(高周波励起イオンプレーティング法)、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法、ガスソースCVD法、コーティング法、インクジェット法を適用できる。
【0061】
【実施例】
以下に本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらにより限定されるものでない。
【0062】
(実施例1)
(微細パターンの製造方法)
ポリスチレン(Mw=2.3×106,Mn=2.3×106)を用いた微細パターン製造を下記のように行った。上記ポリスチレンをクロロホルムに溶解し、0.1g/l、又は1.0g/lの濃度の溶液を作製した。図1に示す薄膜製造装置(マイクロマニピュレーター)に、洗浄した2枚のガラス基板(幅25mm、長さ100mm)を膜面が重なり合うように固定した。面同士が重なり合った間隙は、0.2mmになるように調節した。また膜面が重なり合う面積は25mm×40mmになるようにした。
【0063】
前記間隙に、ポリスチレン溶液200マイクロリットルを注入展開した。この後ガラス基板を長さ方向に50μm/sで移動させ、移動させながら互いに逆向きに移動させた。基板上を観測すると、目視では白濁したポリスチレン薄膜の製造が認められた。この面を顕微鏡で観察すると、規則的な微細構造のパターンが確認された。得られたパターンを図4、図5及び図6に示す。
【0064】
上記図に示す通り、製造条件をコントロールすることにより、ドット状、ストライプ状、格子状の微細パターンが製造された。なお、得られた各パターンについての形成及び形状は以下の通りであった。ドット状パターン(図4)は、スライド速度に依存せず0.1g/lの溶液を用いた場合に得られ、ドットのサイズは直径が1〜3μmで、ドットの間隔はスライド方向(A1)は平均8μm、スライド方向に垂直な方向(A2)は2〜4μm程度であった。溶質濃度が1.0〜4.0g/lの場合では、スライド直後(移動開始点から5mm)はスライド方向に垂直なストライプパターンが形成され(図5)、移動速度50μm/s、ストライプ間隔12μm、幅6μm程度であった。このとき移動の後半部分(移動開始点から35mm)では格子状パターンが形成され(図6)、移動速度50μm/s、スティック―スリップによる辺の間隔(C1)3μm、スライド方向に平行な辺の間隔(C2)50〜53μm、線幅4μm、9μmであった。ストライプの高さは約100nmであった。
【0065】
(実施例2)
(微細パターンを有する発光素子の作製)
25mm×100mm×0.7mmのガラス基板上にITOを150nmの厚さで製膜したもの(東京三容真空(株)製)を透明支持基板とした。この透明支持基板をエッチング、洗浄した。この基板にポリ〔(3,4−エチレンジオキシ)−2,5−チオフェン〕・ポリスチレンスルホン酸分散物(Bayer社製:Baytron P 固形分1.3%)をスピンコートした後、150℃2時間真空乾燥して膜厚100nmの塗布層を製造した。この上に発光層としてポリ(N−ビニルカルバゾール(PVK))40mg、PBD(2−(4’−t−ブチルフェニル)−5−(4”−(フェニル)フェニル)−1,3,4−オキサジアゾール)12mg、発光材料としてクマリン−6 1mgを1,2−ジクロロエタン10mlに溶解した溶液を実施例1と同じ方法及び条件で、0.1mm/sの速度で移動させる方法で薄膜製造した。この塗布膜の乾燥膜厚は約120nmであった。有機薄膜上にパターニングしたマスク(発光面積が5mm×5mmとなるマスク)を設置し、蒸着装置内でマグネシウム:銀=10:1を250nm共蒸着した後、銀300nmを蒸着し、素子101を作製した。この素子の発光特性を、東陽テクニカ製ソースメジャーユニット2400型を用いて、直流定電圧を発光素子に印加して発光させ、その輝度をトプコン社の輝度計BM−8、また発光波長については浜松ホトニクス社製スペクトルアナライザーPMA−11を用いて測定した。素子101の印可電圧19Vでの発光輝度は800cd/m2、さらに電圧を上昇させたときの最高輝度(Lmax)は1800cd/m2であった。この発光面を観察すると、実施例1におけるパターンの発光面からの発光が認められた。
【0066】
【発明の効果】
本発明によれば、レジストや蒸着法を使用せずに、所望する空間規則性を有するパターンを製造することができる。また簡便な工程で得られるマイクロメートルオーダー又はナノメートルオーダーの微細パターンの製造が容易になる。溶液の自己組織化現象を利用するために、レジストや蒸着法を採用するよりも、省資源、省エネルギーで、微細パターンを製造することができるためコスト低減に寄与する製造方法を提供することができる。
さらに本発明のパターニング方法を用いて発光素子を製造した結果、小さなドット状の発光画素を有する発光体を製造することができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明による微細パターンの製造装置の一実施形態の概略側面図である。
【図2】 本発明による微細パターンの製造装置の他の実施形態の概略斜視図である。
【図3】 本発明による微細パターンの製造装置の他の実施形態の概略断面図である。
【図4】 本発明の製造方法(溶質濃度0.1g/l;移動速度50μm/s)により得られるパターンの一実施例の図である。
【図5】 本発明の製造方法(溶質濃度1.0g/l;移動速度50μm/s;移動開始点より5mmの位置)により得られるパターンの他の実施例の図である。
【図6】 本発明の製造方法(溶質濃度1.0g/l;移動速度50μm/s;移動開始点より35mmの位置)により得られるパターンの別の実施例の図である。
【符号の説明】
1 基台
2 固定手段
3 挟持手段
4 基板(スライドガラス)
5 基板(スライドガラス)
6 溶液
Claims (2)
- 平滑な膜面を有する2つの物体を、その膜面が接するように互いに密着させるとともに、その膜面の間隙に微細パターンとして析出する溶質とその溶媒とからなる溶液を満たし、膜面の間隙を溶液を満たした際の状態に維持しつつ膜面間の接触状態を解除するように少なくとも一方の物体をもう一方の物体に対して膜面と平行に移動させながら露出した膜面上の溶液に気液界面を生じさせ、該溶液から溶媒を蒸発させて溶質を析出させることにより微細パターンを自己組織化現象を用いて形成することを特徴とする微細パターンの製造方法。
- 平滑な膜面を有する2つの物体を、その膜面が接するように互いに密着させるとともに、その膜面の間隙に微細パターンとして析出する溶質とその溶媒とからなる溶液を満たし、膜面の間隙を溶液を満たした際の状態に維持しつつ膜面間の接触状態を解除するように少なくとも一方の物体をもう一方の物体に対して膜面と平行に移動させながら露出した膜面上の溶液に気液界面を生じさせ、該溶液から溶媒を蒸発させて溶質を析出させることにより微細パターンを自己組織化現象を用いて形成することを特徴とする微細パターンの製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001342483A JP4189145B2 (ja) | 2001-11-07 | 2001-11-07 | 微細パターンの製造方法及び製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001342483A JP4189145B2 (ja) | 2001-11-07 | 2001-11-07 | 微細パターンの製造方法及び製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003151766A JP2003151766A (ja) | 2003-05-23 |
JP4189145B2 true JP4189145B2 (ja) | 2008-12-03 |
Family
ID=19156332
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001342483A Expired - Fee Related JP4189145B2 (ja) | 2001-11-07 | 2001-11-07 | 微細パターンの製造方法及び製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4189145B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4549707B2 (ja) * | 2004-03-19 | 2010-09-22 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 高品質ハニカム構造フィルムの製造方法 |
JP4925569B2 (ja) | 2004-07-08 | 2012-04-25 | ローム株式会社 | 有機エレクトロルミネッセント素子 |
JP5283819B2 (ja) * | 2005-05-20 | 2013-09-04 | 学校法人慶應義塾 | 微細凹凸形成方法 |
-
2001
- 2001-11-07 JP JP2001342483A patent/JP4189145B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003151766A (ja) | 2003-05-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4040249B2 (ja) | 発光素子 | |
JP4010845B2 (ja) | 発光素子 | |
CN1711653A (zh) | 有机器件结构及其制造方法 | |
JP2003282258A (ja) | 発光素子 | |
JP2010212256A (ja) | 有機素子の製造方法及び構造 | |
JP4945057B2 (ja) | 有機電界発光素子 | |
JP4429067B2 (ja) | 有機電界発光素子 | |
JP2004055333A (ja) | 発光素子用塗布液及び発光素子の製造方法 | |
JP2005228737A (ja) | 有機電界発光素子 | |
JP2006228936A (ja) | 有機電界発光素子 | |
JP4578642B2 (ja) | 有機発光素子 | |
JP2003133080A (ja) | 発光素子 | |
JP5679689B2 (ja) | 薄膜の作製方法及び作製装置 | |
JP4189145B2 (ja) | 微細パターンの製造方法及び製造装置 | |
KR100998460B1 (ko) | 유기 전계 발광 소자 | |
US7935432B2 (en) | Organic electroluminescent device | |
JP2003257676A (ja) | 導電性高分子を含有する層を有する有機電界発光素子 | |
JP2002246184A (ja) | 発光素子 | |
JP7404878B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 | |
JP4307793B2 (ja) | 発光素子の製造方法 | |
JP2011060551A (ja) | 有機電界発光素子及びその製造方法 | |
JP2006255878A (ja) | 微細構造体の製造方法およびその利用 | |
JP2002170676A (ja) | 発光素子及びその製造方法 | |
JP2002289346A (ja) | 有機薄膜素子の製造方法及びそれに用いる転写材料及び装置 | |
JP2009026541A (ja) | 発光素子 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041025 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20061211 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070319 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070904 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071030 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080107 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080214 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20080214 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080501 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080513 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080828 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080912 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110919 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120919 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130919 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |