JP4187376B2 - 受光増幅装置 - Google Patents

受光増幅装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4187376B2
JP4187376B2 JP2000043555A JP2000043555A JP4187376B2 JP 4187376 B2 JP4187376 B2 JP 4187376B2 JP 2000043555 A JP2000043555 A JP 2000043555A JP 2000043555 A JP2000043555 A JP 2000043555A JP 4187376 B2 JP4187376 B2 JP 4187376B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
wire
electrode
terminal
light receiving
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2000043555A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2001230428A (ja
Inventor
純士 藤野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rohm Co Ltd filed Critical Rohm Co Ltd
Priority to JP2000043555A priority Critical patent/JP4187376B2/ja
Priority to US09/783,007 priority patent/US6781108B2/en
Publication of JP2001230428A publication Critical patent/JP2001230428A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4187376B2 publication Critical patent/JP4187376B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F3/00Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements
    • H03F3/04Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements with semiconductor devices only
    • H03F3/08Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements with semiconductor devices only controlled by light
    • H03F3/087Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements with semiconductor devices only controlled by light with IC amplifier blocks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/16Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits
    • H01L25/167Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits comprising optoelectronic devices, e.g. LED, photodiodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0216Coatings
    • H01L31/02161Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/02162Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors
    • H01L31/02164Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors for shielding light, e.g. light blocking layers, cold shields for infrared detectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0555Shape
    • H01L2224/05552Shape in top view
    • H01L2224/05553Shape in top view being rectangular
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48135Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/48137Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3025Electromagnetic shielding

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Amplifiers (AREA)
  • Optical Communication System (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、赤外線通信の受信機側に必要となる受光増幅装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
受光増幅装置は、通常、光電変換素子であるフォトダイオードチップとICチップとが1つのパッケージ内に封入されて成る。従来は、フォトダイオードチップ100の模式的な構造の断面図を図4の(イ)に、受光増幅装置の等価回路図を図4の(ロ)にそれぞれ示すように、N型半導体であるサブストレート101とP型半導体である領域102とで形成されたフォトダイオードPDのアノード側の電極103がICチップ200の電極201にワイヤWを介して接続されており、一方、カソード側の電極となるフレーム50は外部から電源電圧VDDが印加される。ICチップ200の内部では、増幅回路AMP及び抵抗Rが作り込まれており、電極201には増幅回路AMPの入力端子、及び、一端が接地された抵抗Rの他端が接続されている。
【0003】
以上の構成により、フォトダイオードチップ100により光電変換されて得られた電流信号は、ワイヤWを介してICチップ200に入力され、抵抗Rにより電圧に変換された後、増幅回路AMPにより増幅されて、不図示の後段の回路に与えられる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ここで、フォトダイオードチップとICチップとを接続する経路のインピーダンスが高いので、例えば結合容量に起因したり電磁誘導によるノイズがワイヤ等に乗ってしまいやすく、従来の構成では、このノイズがそのまま増幅されてしまうので、誤動作を起こしやすいという問題があった。また、このような問題を低減するためには、例えば電磁シールドのようなノイズ対策を講じる必要があり、コストアップを招くことになる。
【0005】
その他には、ワイヤボンディングの際には、ワイヤのカットを伴う作業(セカンドボンディング)をチップ上で行う必要があったため、チップにダメージが加わり、チップが破損するといった問題もあった。
【0006】
そこで、本発明は、光電変換回路と増幅回路とがワイヤで接続されて成る受光増幅装置であって、上記ワイヤ等に乗るノイズによる誤動作を低減した受光増幅装置を提供することを目的とする。
【0007】
また、本発明は、光電変換回路と増幅回路とがワイヤで接続されて成る受光増幅装置であって、ワイヤボンディング作業によるチップの破損を低減させることができるようにした受光増幅装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、請求項1に記載の発明では、受信した光信号を電気信号に変換する光電変換回路と、該光電変換回路で得られた電気信号を増幅して出力する増幅回路とを備えており、前記光電変換回路と前記増幅回路とがワイヤで接続されて成る受光増幅装置において、前記光電変換回路には光信号を変換して得た電気信号を出力する正規の端子に加えて、前記電気信号と直接はつながらないダミーの端子が設け、前記増幅回路が第1の入力端子と第2の入力端子との2つの入力端子を有し、該2つの入力端子に入力される信号の差分を増幅する構成とし、前記光電変換回路の正規の端子と前記増幅回路の一方の入力端子とを第1のワイヤで接続するとともに、前記光電変換回路のダミーの端子と前記増幅回路の他方の入力端子とを第2のワイヤで接続している。
【0009】
この構成により、受光回路で光電変換されて得られた電気信号を増幅回路に伝送する第1のワイヤにノイズが乗る場合には、第2のワイヤにも同様なノイズが乗るので、第1のワイヤに乗ったノイズと第2のワイヤに乗ったノイズとにより、ノイズが増幅回路で相殺されるようになる。
【0010】
また、請求項2に記載の発明では、上記請求項1に記載の構成の受光増幅装置において、前記第1のワイヤと第2のワイヤとが略同一の長さで、かつ、平行になった上でできるだけ近接するように、前記光電変換回路の正規の端子及びダミーの端子、並びに、前記増幅回路の第1の入力端子及び第2の入力端子を設けている。
【0011】
この構成により、第1のワイヤと第2のワイヤとでノイズの受け方がより等しくなり、ノイズが相殺される度合いが高まる。
【0012】
また、請求項3に記載の発明では、上記請求項1または2に記載の構成の受光増幅装置において、前記光電変換回路が形成された第1の素子及び増幅回路が形成された第2の素子を搭載する共通の基板上に2つの導電パターンを形成し、前記光電変換回路の正規の端子と前記増幅回路の一方の入力端子とを前記2つの導電パターンのうちの一方を介して接続するとともに、前記光電変換回路のダミーの端子と前記増幅回路の他方の入力端子とを前記2つの導電パターンのうちの他方を介して接続している。
【0013】
この構成により、ワイヤボンディングの際には、まず、ワイヤの一端をチップ側の電極にボンディングし(ファーストボンディング)、次に、ボート上の導電パターンにボンディングしてワイヤをカットする(セカンドボンディング)ようにして、ダメージを与えやすいセカンドボンディングを光電変換回路を作り込んだチップ及び増幅回路を作り込んだチップ上で行わずに済むようになる。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施形態を図面を参照しながら説明する。本発明の第1実施形態である受光増幅装置の構造の斜視図を図1の(イ)に示すようにフォトダイオードチップ1とICチップ2とから成る。フォトダイオードチップ1の図1の(イ)中のA−A’での断面図を図1の(ロ)に、図1の(イ)中のB−B’での断面図を図1の(ハ)に、受光増幅装置の等価回路図を図1の(ニ)にそれぞれ示す。
【0015】
フォトダイオードチップ1について説明する。N型半導体であるサブストレート11の上面側にはP型半導体である第1の領域12が形成されており、サブストレート11と第1の領域12とでフォトダイオードPDを構成している。また、サブストレート11の上面側には第1の領域12に比して十分小さな第2の領域13が形成されており、サブストレート11と第2の領域13とでダイオードDを構成している。
【0016】
サブストレート11の下面はフレーム50にダイボンディングされており、フレーム50がフォトダイオードPD及びダイオードDのカソード電極となる。フレーム50には外部から電源電圧VDDが印加される。
【0017】
フォトダイオードチップ1の上面は絶縁膜14で覆われているが、第1の領域12に接する部分では絶縁膜14の一部が取り除かれて電極15が設けられており、電極15がフォトダイオードPDのアノード側の電極となる。また、第2の領域13に接する部分では絶縁膜14の一部が取り除かれて電極16が設けられており、電極16がダイオードDのアノード側の電極となる。尚、以下、電極15を「アノード電極」、電極16を「ダミー電極」と呼ぶ。
【0018】
フォトダイオードチップ1のアノード電極15は第1のワイヤW1を介してICチップ2の第1の電極21に、フォトダイオードチップ1のダミー電極16は第2のワイヤW2を介してICチップ2の第2の電極22に、それぞれ電気的に接続されている。
【0019】
尚、本第1実施形態及び後述する第2実施形態では、フォトダイオードチップのサブストレートがN型半導体を示しているが、これはP型半導体であっても同様にして構成できる。
【0020】
ICチップ2について説明する。ICチップ2の内部では、演算増幅器OP、並びに、抵抗R1及びR2が作り込まれており、第1の電極21に演算増幅器OPの非反転入力端子(+)、及び、一端が接地された抵抗R1の他端が接続されており、また、第2の電極22に演算増幅器OPの反転入力端子(−)、及び、一端が接地された抵抗R2の他端が接続されている。
【0021】
本発明の第2実施形態である受光増幅装置の構造の斜視図を図2の(イ)に、図2の(イ)中のA−A’での断面図を図2の(ロ)に、図2の(イ)中のB−B’での断面図を図2の(ハ)に、受光増幅装置の等価回路図を図2の(ニ)にそれぞれ示す。尚、上記第1実施形態の受光増幅装置と同一部分には同一符号を付して説明を省略する。
【0022】
フォトダイオードチップ3について説明する。N型半導体であるサブストレート31の上面側にはP型半導体である領域32が形成されており、サブストレート31と第1の領域32とでフォトダイオードPDを構成している。
【0023】
サブストレート31の下面はフレーム50にダイボンディングされており、フレーム50がフォトダイオードPDのカソード側の電極となる。フレーム50には外部から電源電圧VDDが印加される。
【0024】
フォトダイオードチップ3の上面は絶縁膜33で覆われているが、第1の領域32に接する部分では絶縁膜33の一部が取り除かれて電極34が設けられており、電極34がフォトダイオードPDのアノード側の電極となる。電極35は絶縁膜33上に設けられている。尚、以下、電極34を「アノード電極」、電極35を「ダミー電極」と呼ぶ。
【0025】
フォトダイオードチップ3のアノード電極34は第1のワイヤW1を介してICチップ2の第1の電極21に、フォトダイオードチップ3のダミー電極35は第2のワイヤW2を介してICチップ2の第2の電極22に、それぞれ電気的に接続されている。
【0026】
以上の第1、第2の各実施形態の構成により、フォトダイオードチップ1、3で光電変換されて得られた電流信号は、第1のワイヤW1を介してICチップ2の第1の電極21に入力され、抵抗R1により電圧に変換された後、電気的に解放状態にある(正確には、光電変換されて得られた電流信号と直接はつながらない)ダミー電極16、35に第2のワイヤW2によって接続された第2の電極22の電圧との差分が演算増幅器OPにて増幅される。そして、第1のワイヤW1にノイズが乗る場合には、第2のワイヤW2にも同様なノイズが乗るので、第1のワイヤW1に乗ったノイズが第2のワイヤW2に乗ったノイズの分だけ演算増幅器OPにより相殺されることになる。
【0027】
したがって、フォトダイオードチップにて光電変換により得られた電気信号をICチップに伝送するワイヤに乗るノイズがそのまま増幅されることはなくなり、誤動作を低減させることができる。また、これにより、例えば電磁シールドのようなノイズ対策を簡単に済ませたり、場合によっては対策を全く講じる必要がなくなり、コストダウンを実現することができる。
【0028】
尚、上記第1、第2の各実施形態では、フォトダイオートチップのアノード電極とICチップの第1の電極との間の距離と、フォトダイオードチップのダミー電極とICチップの第2の電極との間の距離とを等しくしておき、また、フォトダイオートチップのアノード電極とダミー電極との間の距離と、ICチップの第1の電極と第2の電極との間の距離とをできるだけ小さくした上で等しくするなどして、フォトダイオードチップとICチップとを第1のワイヤと第2のワイヤとが同一の長さで、かつ、平行になった上で、できるだけ近接するようにしておけば、第1のワイヤと第2のワイヤとでノイズの受け方がより等しくなり、ノイズが相殺される度合いが高まるので、効果的である。
【0029】
本発明の第3実施形態である受光増幅装置では、上記第1(または第2)実施形態である受光増幅装置において、フォトダイオードチップ1(または3)、及び、ICチップ2を搭載するプリント基板60上に導電パターンP1及びP2が形成されており、フォトダイオードチップ1(または3)のアノード電極15(または34)、ICチップ2の第1の電極21がそれぞれ別々のワイヤW11、W12を介して共通の導通パターンP1に電気的に接続されており、また、フォトダイオードチップ1(または3)のダミー電極16(または35)、ICチップ2の第2の電極22がそれぞれ別々のワイヤW21、W22を介して共通の導通パターンP2に電気的に接続されている。尚、フォトダイオードチップ1(または3)、ICチップ2はそれぞれプリント基板60の導電パターンP3、P4上に搭載されている。
【0030】
この構成により、ワイヤボンディングの際には、まず、ワイヤの一端をチップ側の電極にボンディングし(ファーストボンディング)、次に、プリント基板60上の導電パターンP1またはP2にボンディングしてワイヤをカットする(セカンドボンディング)ようにして、ダメージを与えやすいセカンドボンディングをチップ側で行わずに済むようになるので、ワイヤボンディング作業によるチップの破損を低減することができる。
【0031】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項1に記載の受光増幅装置によれば、受光回路で光電変換されて得られた電気信号を増幅回路に伝送する第1のワイヤにノイズが乗る場合には、第2のワイヤにも同様なノイズが乗るので、第1のワイヤに乗ったノイズが第2のワイヤに乗ったノイズの分だけ相殺され、したがって、受光回路と増幅回路とを接続するワイヤ等の経路に乗るノイズがそのまま増幅されることはなくなり、誤動作を低減させることができる。また、これにより、例えば電磁シールドのようなノイズ対策を簡単に済ませたり、場合によっては対策を全く講じる必要がなくなり、コストダウンを実現することができる。
【0032】
また、請求項2に記載の受光増幅装置によれば、第1のワイヤと第2のワイヤとでノイズの受け方がより等しくなり、ノイズが相殺される度合いが高まるので、ノイズによる誤動作をより確実に低減することができる。
【0033】
また、請求項3に記載の受光増幅装置によれば、ワイヤボンディングの際には、まず、ワイヤの一端をチップ側の電極にボンディングし(ファーストボンディング)、次に、基板上の導電パターンにボンディングしてワイヤをカットする(セカンドボンディング)ようにして、ダメージを与えやすいセカンドボンディングを光電変換回路を作り込んだチップ及び増幅回路を作り込んだチップ上で行わずに済むようになるので、ワイヤボンディング作業によるチップの破損を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(イ)本発明の第1実施形態である受光増幅装置の構造を示す斜視図である。
(ロ)フォトダイオードチップのA−A’での断面図である。
(ハ)フォトダイオードチップのB−B’での断面図である。
(ニ)受光増幅装置の等価回路図である。
【図2】(イ)本発明の第2実施形態である受光増幅装置の構造を示す斜視図である。
(ロ)フォトダイオードチップのA−A’での断面図である。
(ハ)フォトダイオードチップのB−B’での断面図である。
(ニ)受光増幅装置の等価回路図である。
【図3】 本発明の第3実施形態である受光増幅装置の構造を示す斜視図である。
【図4】(イ)従来の受光増幅装置の構造を示す斜視図である。
(ロ)受光増幅装置の等価回路図である。
【符号の説明】
1 フォトダイオードチップ
2 ICチップ
3 フォトダイオードチップ
11 N型半導体(サブストレート)
12 P型半導体(第1の領域)
13 P型半導体(第2の領域)
14 絶縁膜
15 アノード電極
16 ダミー電極
21 第1の電極
22 第2の電極
31 N型半導体(サブストレート)
32 P型半導体
33 絶縁膜
34 アノード電極
35 ダミー電極
50 フレーム
60 プリント基板
D ダイオード
OP 演算増幅器
P1、P2、P3、P4 導電パターン
PD フォトダイオード
R1、R2 抵抗
W1、W2、W11、W12、W21、W22 ワイヤ

Claims (3)

  1. 受信した光信号を電気信号に変換する光電変換回路が形成された第1のチップと、該光電変換回路で得られた電気信号を増幅して出力する増幅回路が形成された第のチップとが1つのパッケージ内に封入されており、前記第1のチップと前記第2のチップとがワイヤを介して接続されて成る受光増幅装置であって、
    前記第1のチップには光信号を変換して得た電気信号を出力する正規の端子に加えて、前記電気信号と直接はつながらないダミーの端子が設けられており、前記第2のチップが第1の入力端子と第2の入力端子との2つの入力端子を有し、該2つの入力端子に入力される信号の差分を増幅するよう前記増幅回路と接続される構成であり、前記第1のチップの正規の端子と前記第2のチップの一方の入力端子とが第1のワイヤを介して接続されているとともに、前記第1のチップのダミーの端子と前記第2のチップの他方の入力端子とが第2のワイヤを介して接続されており、
    前記第1のワイヤと第2のワイヤとが略同一の長さで、かつ、平行になった上でできるだけ近接するように、前記第1のチップの正規の端子及びダミーの端子、並びに、前記第2のチップの第1の入力端子及び第2の入力端子が設けられ、前記パッケージ内に封入されていることを特徴とする受光増幅装置。
  2. 前記第1のチップ及び前記第2のチップを搭載する共通の基板上に2つの導電パターンが形成されており、前記第1のチップの正規の端子と前記第2のチップの一方の入力端子とが前記2つの導電パターンのうちの一方を介して接続されているとともに、前記第1のチップのダミーの端子と前記第2のチップの他方の入力端子とが前記2つの導電パターンのうちの他方を介して接続されていることを特徴とする請求項1に記載の受光増幅装置。
  3. 前記ダミー端子にはダイオードが接続されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の受増幅装置。
JP2000043555A 2000-02-16 2000-02-16 受光増幅装置 Expired - Fee Related JP4187376B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000043555A JP4187376B2 (ja) 2000-02-16 2000-02-16 受光増幅装置
US09/783,007 US6781108B2 (en) 2000-02-16 2001-02-15 Noise canceling photosensor-amplifier device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000043555A JP4187376B2 (ja) 2000-02-16 2000-02-16 受光増幅装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001230428A JP2001230428A (ja) 2001-08-24
JP4187376B2 true JP4187376B2 (ja) 2008-11-26

Family

ID=18566458

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000043555A Expired - Fee Related JP4187376B2 (ja) 2000-02-16 2000-02-16 受光増幅装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6781108B2 (ja)
JP (1) JP4187376B2 (ja)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002217447A (ja) * 2001-01-16 2002-08-02 Toshiba Corp 半導体受光装置及び半導体受送信システム
US20020191263A1 (en) * 2001-06-14 2002-12-19 Nurlogic Design, Inc. Method and apparatus for optical data signaling using dark photodiode
US6781468B1 (en) * 2003-04-30 2004-08-24 Agilent Technologies, Inc Photo-amplifier circuit with improved power supply rejection
US7792196B2 (en) * 2004-12-28 2010-09-07 Intel Corporation Single conductor bidirectional communication link
JP2006332226A (ja) * 2005-05-25 2006-12-07 Toshiba Corp 半導体光センサ装置
JP4844196B2 (ja) * 2006-03-30 2011-12-28 株式会社日立製作所 放射線検出回路
US20080002993A1 (en) * 2006-06-30 2008-01-03 Kirkpatrick Peter E Optical receiver with dual photodetector for common mode noise suppression
US7932783B2 (en) * 2008-07-25 2011-04-26 Park Larry A Resonant operating mode for a transistor
US8067985B2 (en) * 2008-08-29 2011-11-29 Park Larry A Resonant operating mode for a transistor
JP2010098189A (ja) * 2008-10-17 2010-04-30 Toshiba Corp 半導体装置
US20100283474A1 (en) * 2009-05-11 2010-11-11 Panasonic Corporation Test circuit and optical pickup device
EP3066683B1 (en) * 2013-11-07 2019-04-24 NXP USA, Inc. Bond wire arrangement with adjustable losses
JP2017152776A (ja) * 2016-02-22 2017-08-31 技術研究組合光電子融合基盤技術研究所 光受信回路
US10135545B2 (en) * 2016-06-20 2018-11-20 Oclaro Japan, Inc. Optical receiver module and optical module

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57159073A (en) * 1981-03-26 1982-10-01 Minolta Camera Co Ltd Semiconductor position detector
JPS59185432A (ja) * 1983-04-05 1984-10-22 Sumitomo Electric Ind Ltd 光受信回路
JPH01105134A (ja) * 1987-10-19 1989-04-21 Komatsugawa Kakoki Kk 測光装置
JP3067151B2 (ja) * 1990-03-13 2000-07-17 日本電気株式会社 光電気変換素子サブキャリア
JP3047735B2 (ja) * 1994-05-16 2000-06-05 住友電気工業株式会社 光受信モジュ−ルとその製造方法
JP3680303B2 (ja) * 1994-11-08 2005-08-10 住友電気工業株式会社 光電変換モジュール
US5724967A (en) * 1995-11-21 1998-03-10 Nellcor Puritan Bennett Incorporated Noise reduction apparatus for low level analog signals
US5781233A (en) * 1996-03-14 1998-07-14 Tritech Microelectronics, Ltd. MOS FET camera chip and methods of manufacture and operation thereof
US6175438B1 (en) * 1998-03-18 2001-01-16 Lucent Technologies, Inc. Differential optical signal receiver

Also Published As

Publication number Publication date
JP2001230428A (ja) 2001-08-24
US6781108B2 (en) 2004-08-24
US20010013573A1 (en) 2001-08-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4187376B2 (ja) 受光増幅装置
US11221452B2 (en) Communication receiver
US8777496B2 (en) Optical device
KR100575950B1 (ko) 티오 캔 구조의 광수신 모듈
JPH05110048A (ja) 光−電子集積回路
JP3668926B2 (ja) 光インタコネクション受信モジュール
JP4828103B2 (ja) 光送受信モジュール
US20050100293A1 (en) High-frequency signal transmitting optical module and method of fabricating the same
CN108574018B (zh) 光接收模块及光模块
JP4816397B2 (ja) 光電変換モジュール
JP2003332590A (ja) 光モジュール及び光送受信モジュール
WO2022224308A1 (ja) 受光素子および光受信回路
WO2018078788A1 (ja) 裏面入射型受光素子及び光モジュール
US6498294B1 (en) Package for high frequency device
JP4045830B2 (ja) 受光モジュール
JP2005051031A (ja) 半導体モジュール
JP4065673B2 (ja) 赤外線通信ユニット
US11953375B2 (en) Light receiving module comprising stem and block on an upper surface of the stem
JP3623144B2 (ja) 光受信モジュ−ル
CN110034076B (zh) 光电子器件及其封装结构
US20220069143A1 (en) Optical receiver module
WO2023153188A1 (ja) 半導体装置
JP2012114342A (ja) 光受信サブアセンブリ、光受信サブアセンブリの製造方法及び光受信モジュール
JP4228619B2 (ja) 光受信モジュ−ル
JPH0864846A (ja) 半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040421

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060825

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060905

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20061106

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20061226

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070226

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20070417

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20070518

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080909

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110919

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees