JP4175528B2 - めっき装置 - Google Patents
めっき装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4175528B2 JP4175528B2 JP04842099A JP4842099A JP4175528B2 JP 4175528 B2 JP4175528 B2 JP 4175528B2 JP 04842099 A JP04842099 A JP 04842099A JP 4842099 A JP4842099 A JP 4842099A JP 4175528 B2 JP4175528 B2 JP 4175528B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plated
- support member
- anode
- substrate
- holding member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
【発明の属する技術分野】
本発明はめっき装置に関し、更に詳しくは、被めっき材に対して厚みのばらつきが小さく、組成のばらつきも小さいめっきを高速で行うことができる新規な構造のめっき装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、半導体ウエハの表面にバンプパターンを電気めっきで形成することが行われているが、その場合に重要なことは、形成されたバンプの厚みや組成が半導体ウエハの全面でばらつきのない状態になっていることである。
このように、被めっき材表面に厚みや組成が均一なめっき層を形成するためには、一般に次のような処置が採られている。
【0003】
すなわち、被めっき材と陽極とを対向配置した状態で所定のめっき浴に浸漬し、めっき時には、被めっき材と陽極の何れか一方に例えば往復運動をさせ、更に、めっき浴を例えば撹拌して被めっき材の表面に新鮮なめっき浴を供給し続けるという処置である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記した方法の場合には、被めっき材と陽極は相対運動をしていて互いに対向する表面はめっきの過程で常に変化している。そのため、被めっき材のある局部表面に着目すると、陽極からその局部表面に向かう電流線の流れも変化しており、したがって、被めっき材の全ての表面で電流線の流れは一定になっておらず、場所によって微妙にばらついていることになる。
【0005】
このような事態は、1枚の半導体ウエハの中央部から周縁部までの全表面に数千個の微小バンプをめっき形成する場合に、当該半導体ウエハに形成されているバンプの厚みや組成にばらつきを与える要因として作用する。
本発明は上記した問題を解決し、被めっき材のどの表面部分でも厚みや組成が均一であるめっき層を高速で形成することができる新規なめっき装置の提供を目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記した目的を達成するために、本発明においては、表面に複数個の陽極が固定配置されている第1の基板と、表面に複数個の被めっき材押さえ用治具が配置されている第2の基板とを、前記陽極と前記被めっき材押さえ用治具とが所定の間隔を置いて対向配置するように組み立てて成る一体化構造の被めっき材の保持部材;および、
一端が前記保持部材に装着されて前記保持部材を支持する水平支持部材と、上端が前記水平支持部材の他端に固定されて、前記水平支持部材に垂設された垂直支持部材と、垂直面内で回転し、その一側が前記垂直支持部材の下端に回動自在に固定されている回転体とを備え、前記保持部材の全体に垂直面内における回転運動を付与する回転付与機構;を備えていることを特徴とするめっき装置が提供される。
【0007】
具体的には、前記保持部材における前記複数個の陽極はその平面形状が中心を同じくする複数個の円環状または角形環状をなしており、各陽極からはそれぞれ独立して陽極リードが引き出されており、また前記複数個の被めっき材押さえ用治具はばね弾性を有し、かつ先端部のみが導電性で他の部分は絶縁被覆して成り、各被めっき材押さえ用治具からは陰極リードが引き出されており、前記陽極リードと前記陰極リードは、前記第1の基板または前記第2の基板の少なくとも一方に取り付けられた端子にそれぞれ接続されており、また、前記回転付与機構は、一端で前記保持部材を支持する水平支持部材と、上端が前記水平支持部材の他端に垂説された垂直支持部材とを備え、前記垂直支持部材の下端が垂直面内で回転する回転体の一側に固定された構造を有するめっき装置が提供される。
【0008】
【発明の実施の形態】
まず、本発明装置の1例を図1に示す。
この装置は、めっき浴Aを収容するめっき槽Bの前記めっき浴Aの中に後述する被めっき材の保持部材Cが配置され、更にこの保持部材Cに装着された保持部材への回転付与機構Dを備えていることを構造上の特徴とする。
【0009】
そして、めっき浴Aには温度センサEとヒータFが配置され、温度センサEの温度信号を受ける温度調節器GによりヒータFのオン・オフ動作でめっき浴Aの温度を所定値に制御できるようになっている。
また、めっき槽Bにはめっき浴の濾過装置Hが付設され、めっき槽Bに連結する配管H1,H2を介してめっき浴Aはめっき槽Bと濾過装置Hを循環できるようになっている。
【0010】
更に、この装置は複数個(図では3個)の整流器I1,I2,I3を備えていて、各整流器にはそれぞれ独立して後述する陽極からの陽極リードと陰極リードが結線されている。
この装置における特徴とは、保持部材Cに複数個の陽極と被めっき材が対向した状態で固定されることによりそれぞれの相対的な位置関係が一定になっていることと、回転付与機構Dの働きでこの保持部材Cの全体がめっき浴Aの中で垂直面内で回転運動できるようになっていることである。
【0011】
そこで、まず最初に保持部材Cについて説明する。
図2に保持部材Cの1例を示し、図3にその側面図を示す。
この保持部材Cは電気絶縁性の例えば樹脂板から成る第1の基板1と同じく例えば樹脂板から成る第2の基板2を所定の間隔を置いて対向配置し、互いの上部を電気絶縁性の例えば樹脂製の支持棒3を用いることにより連結して一体化構造にしたものである。
【0012】
具体的には、第2の基板2の所定箇所に支持棒3を突設して固定し、この支持棒3を第1の基板1の所定箇所に形成されている孔1aに挿通したのちねじ1bでねじ止めして固定した構造になっている。
この場合、第1の基板1をねじ止めして固定する位置を適宜に調節することにより、第1の基板1と第2の基板2の間隔、すなわち後述する陽極と被めっき材の間隔を任意の値に設定することができる。
【0013】
第1の基板1の表面には、図4で示したように、複数個(図では3個)の陽極4a,4b,4cが固定配置されている。
これらの陽極は、図5で示したように、第1の基板1の表面の所定箇所に複数個の固定治具5を取り付け、この固定治具に形成されている通し孔5aに導電線材4aを挿通したのち固定治具5の上部からねじ5bでねじ止めすることにより固定されている。そして、これら陽極のそれぞれはリング形状になっていて、しかも各陽極4a,4b,4cは同心円をなして固定配置されている。
【0014】
なお、陽極は上記したように導電線材を円環状にして固定した態様に限定されることなく、例えば円環状の板やラス網を同心円状に複数個、第1の基板1の所定箇所に配置した態様であってもよい。
そして、各陽極4a,4b,4cからは、それぞれ独立して陽極リード6a,6b,6cが引き出され、これらは保持部材Cの後述する電流端子に接続されている。そして各端子は、図1で示した3個の整流器I1,I2,I3にそれぞれ独立して結線されている。
【0015】
一方、第2の基板2における表面の所定箇所には、図6で示したように、複数個(図では対称形で4個)の被めっき材押さえ用治具7a,7b,7c,7dが取り付けられている。これら押さえ用治具はいずれもばね弾性を有する導電性の線材や板ばねで形成され、図7で示したように、その先端部9aは裸出していて、残りの部分には絶縁被覆9bが施されている。
【0016】
そして、各押さえ用治具からは、それぞれ独立して陰極リード9a,9b,9c,9dが引き出され、これはいずれも保持部材Cにおける後述の陰極端子に接続されている。
この第2の基板に図の仮想線で示したように被めっき材8を配置し、それを押さえ用治具7a,7b,7c,7dの先端部で押さえつけることにより、そのばね弾性で当該被めっき材8は第2の基板2の表面に保持される。このとき、押さえ用治具の先端部9aで被めっき材8に対する導通がとられる。
【0017】
図2で示した保持部材Cの場合、第2の基板2の上部背面に5個の端子が取り付けられていて、中央の3個の端子10a,10b,10cが陽極端子でありそれぞれに前記した3本の陽極リード6a,6b,6cが接続される。また両側の2個の端子10d,10eはいずれも陰極端子であり、それぞれには、前記した4本の陰極リード9a,9b,9c,9dを2束にした状態で接続されている。
【0018】
この保持部材Cは以上のような構造になっているので、3個の陽極4a,4b,4cと被めっき材8は所定の間隔を置いて対向配置されており、かつ互いの位置関係は固定した状態で確保されることになる。
なお、以上の説明では陽極が同心円をなして複数配置したリングを例として示したが、これは被めっき材8がディスク形状であることを想定したからである。被めっき材が例えば四角形状の場合には、各陽極も中心点を同じくする同心的な四角形状のリングにし、それら陽極全体で被めっき材の全表面に対向するようにすればよい。
【0019】
次に、回転付与機構Dを図8に基づいて説明する。
この回転付与機構Dは、保持部材Cを支持する水平支持部材11とこの水平支持部材11に垂設される垂直支持部材12とこの垂直支持部材12に連結された回転体13で構成されている。
すなわち、水平支持部材11の一端11aには後述するようにして保持部材Cが取り付けられるようになっていて、また水平支持部材11の他端11bには、垂直支持部材12の上端12aが固定して取り付けられている。そして、例えばモータのカム13aと上下で噛み合って回転する回転歯車のような回転体13,13のそれぞれ一側に前記した垂直支持部材12の下端12bが回動自在に取り付けられている。
【0020】
なお、水平支持部材11の一端11aは、図2で示したように、その表面に5個の端子14a,14b,14c,14d,14eが取り付けられている。図2では、これらの端子の相互間隔が保持部材Cの5個の端子10a,10b,10c,10d,10eの相互間隔と同じになっていて、また保持部材C側の端子は例えばクリップ構造になっている。
【0021】
このようにしておくと、保持部材Cを水平支持部材11の一端11aに配置し全体を下方に押し付けると、保持部材側のクリップ構造の端子は水平支持部材側の端子に噛み込んで全体の導通関係が形成されると同時に、保持部材Cが水平支持部材11の一端11aで支持されることになる。そして、めっき終了後は、この逆の操作を行うことにより、保持部材Cを水平支持部材11から取り外すことができる。
【0022】
この回転付与機構Dは次のように作動する。
まず、モータのカム13aを作動してそのカムを矢印p1方向に回転させると、カムに噛み合っている2個の回転体13,13は矢印p2方向に回転する。そして、このとき、回転体13の一側に回動自在に取り付けられている垂直支持部材12は垂直面内において図の矢印p3で示したような円形運動をする。その結果、この垂直支持部材12に固定して取り付けられている水平支持部材11も、垂直面内で図の矢印p4で示したような円形運動を行う。
【0023】
したがって、水平支持部材11の一端に装着している保持部材Cの全体もめっき浴Aの中で水平支持部材11と同じ円形運動を行う。
すなわち、めっき浴Aの中では、保持部材Cの全体が、垂直面内で上下、左右方向に連続的に位置を変える円形運動を行う。
このことは、保持部材Cの陽極と被めっき材は相互に位置関係を変えることなく一体となった状態でめっき浴Aの中で垂直面内において円運動するということであり、その結果、陽極と被めっき材間の電流線の流れは一定状態のままで、常に新鮮なめっき浴と接触することになる。
【0024】
そのため、被めっき材の表面では局部的な電流線のばらつきは少ない状態でめっきが進行していくので、形成されためっき層の組成や厚みは均一になる。
なお、図4で示した陽極構造は次のような利点を備えている。すなわち、各陽極4a,4b,4cはそれぞれの陽極リード6a,6b,6cを介して図1で示したような独立した整流器I1,I2,I3に結線されているので、各陽極の運転条件をそれぞれ独立して制御することができるということである。
【0025】
例えば、通常のめっきでは一般に被めっき材の中心部におけるめっき厚が相対的に薄くなるが、そのような場合でも、図4で示した陽極構造においては、中心の陽極4cに結線されている整流器の動作条件を例えば大電流の通電条件にして、この中心陽極4cと対面している被めっき材の中心部分のめっき厚を厚くすることができるからである。
【0026】
更には、ある陽極にはパルス電流を流し、他の陽極には通常の直流を流すなどのめっき方法を適用することもできる。
なお、前記した垂直支持部材12の下端を回転体に装着する場合には、モータのカムとの関係でタイミングプーリ方式を採用することもできる。
【0027】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、本発明のめっき装置では、陽極と被めっき材の位置関係を一定にした状態でめっき浴中における回転運動が付与されるので、被めっき材の表面のどの部分においても陽極と被めっき材との電流線の流れは一定の状態を保持したまま、常に新鮮なめっき浴と接触してめっきが進行する。その結果、被めっき材の表面には組成や厚みにばらつきのないめっき層を形成することができる。
【0028】
また、本発明のめっき装置では、複数個の陽極の運転条件をそれぞれ独立して制御することができるので、精密めっきも可能でありその工業的価値は極めて大である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のめっき装置の全体の1例を示す斜視図である。
【図2】本発明の被めっき材の保持部材を示す斜視図である。
【図3】保持部材を示す側面図である。
【図4】保持部材における第1の基板を示す正面図である。
【図5】第1の基板における陽極の固定状態を示す斜視図である。
【図6】保持部材における第2の基板を示す正面図である。
【図7】第2の基板における被めっき材押さえ用治具の配置状態を示す斜視図である。
【図8】本発明の回転付与機構を示す概略図である。
【符号の説明】
C 被めっき材の保持部材
D 保持部材への回転付与機構
1 第1の基板
1a 孔
1b ねじ
2 第2の基板
3 支持棒
4a,4b,4c 陽極
5 陽極の固定治具
5a 固定治具5の通し孔
5b ねじ
6a,6b,6c 陽極リード
7a,7b,7c,7d 被めっき材押さえ用治具
8 被めっき材
9a 押さえ用治具の先端部
9b 絶縁被覆
10a,10b,10c,10d,10e 端子
11 水平支持部材
11a 水平支持部材11の一端
11b 水平支持部材11の他端
12 垂直支持部材
12a 垂直支持部材12の上端
12b 垂直支持部材12の下端
13 回転体(回転歯車)
13a モータのカム
14a,14b,14c,14d,14e 端子
Claims (2)
- 表面に複数個の陽極が固定配置されている第1の基板と、表面に複数個の被めっき材押さえ用治具が配置されている第2の基板とを、前記陽極と前記被めっき材押さえ用治具とが所定の間隔を置いて対向配置するように組み立てて成る一体化構造の被めっき材の保持部材;および、
一端が前記保持部材に装着されて前記保持部材を支持する水平支持部材と、上端が前記水平支持部材の他端に固定されて、前記水平支持部材に垂設された垂直支持部材と、垂直面内で回転し、その一側が前記垂直支持部材の下端に回動自在に固定されている回転体とを備え、前記保持部材の全体に垂直面内における回転運動を付与する回転付与機構;を備えていることを特徴とするめっき装置。 - 前記保持部材における前記複数個の陽極はその平面形状が中心を同じくする複数個の円環状または角形環状をなしており、各陽極からはそれぞれ独立して陽極リードが引き出されており、また前記複数個の被めっき材押さえ用治具はばね弾性を有し、かつ先端部のみが導電性で他の部分は絶縁被覆して成り、各被めっき材押さえ用治具からは陰極リードが引き出されており、前記陽極リードと前記陰極リードは、前記第1の基板または前記第2の基板の少なくとも一方に取り付けられた端子にそれぞれ接続されている請求項1のめっき装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04842099A JP4175528B2 (ja) | 1999-02-25 | 1999-02-25 | めっき装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04842099A JP4175528B2 (ja) | 1999-02-25 | 1999-02-25 | めっき装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000239899A JP2000239899A (ja) | 2000-09-05 |
JP4175528B2 true JP4175528B2 (ja) | 2008-11-05 |
Family
ID=12802838
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP04842099A Expired - Fee Related JP4175528B2 (ja) | 1999-02-25 | 1999-02-25 | めっき装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4175528B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007026633B4 (de) * | 2007-06-06 | 2009-04-02 | Atotech Deutschland Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum elektrolytischen Behandeln von plattenförmiger Ware |
-
1999
- 1999-02-25 JP JP04842099A patent/JP4175528B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000239899A (ja) | 2000-09-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101812711B (zh) | 镀覆装置 | |
KR100296780B1 (ko) | 도금방법및도금장치 | |
US8101052B2 (en) | Adjustable anode assembly for a substrate wet processing apparatus | |
JPS58182823A (ja) | 半導体ウエハ−のメツキ装置 | |
JP4624738B2 (ja) | めっき装置 | |
KR20050056263A (ko) | 접촉링 성형에 의한 도금 균일도 제어 | |
JP4175528B2 (ja) | めっき装置 | |
US7688095B2 (en) | Interposer structures and methods of manufacturing the same | |
CN1827862A (zh) | 分层微细电铸加工方法及装置 | |
CN106811791A (zh) | 用于电镀槽的高电阻虚拟阳极、电镀槽及处理基板表面的方法 | |
JPH04228578A (ja) | 無電解銅メッキ方法および装置 | |
JP4579306B2 (ja) | 円形めっき槽 | |
CN203034129U (zh) | 片式元件电镀振筛 | |
CN215887286U (zh) | 一种电镀挂具装置 | |
CN1157503C (zh) | 微小金属球的制造方法 | |
US20040140219A1 (en) | System and method for pulse current plating | |
JP2002146593A (ja) | カップ式めっき装置 | |
JPS6221296A (ja) | フレキシブル印刷配線板への電気めつき方法 | |
JP2005520930A (ja) | ウェハ表面を電気メッキするための装置および方法 | |
US3692638A (en) | Process for supporting and nonuniformly treating articles | |
CN217839167U (zh) | 一种电镀设备 | |
KR101710279B1 (ko) | 도금 기법을 이용한 미세패턴 연속 제조장치 및 그 제조방법 | |
WO2022165129A1 (en) | Electrochemical assembly for forming semiconductor features | |
CN1241650A (zh) | 在硅衬底上直接电铸三维金属结构的方法及其专用夹具 | |
JP3275502B2 (ja) | メッキによる微小物の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060227 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060831 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080416 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080612 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080716 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7426 Effective date: 20080814 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080814 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140829 Year of fee payment: 6 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140829 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |