JP4174399B2 - 検査システム,検査方法,及び電子装置の製造方法 - Google Patents
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Description
x−1.96σ/(n)1/2<μ<x+1.96σ/(n)1/2 ・・・(1)
となる。
ハリーJ.レビンソン(Harry J. Levinson)著,「リソグラフィプロセスコントロール(Lithography Process Control)」,(米国),SPIE,1999年2月1日,p.27−41
本発明の第1の実施の形態に係る検査システムは,図1に示すように,検査装置1,主記憶装置3,中央処理装置(CPU)5,入力装置7,出力装置9,プログラム記憶装置11,及びデータ記憶装置13を備える。主記憶装置3は,検査情報記憶部31,解析情報記憶部32,及び乱数記憶部33を有する。CPU5は,検査情報取得手段51,検査結果解析手段52,信頼区間比較手段53,抽出数算出手段54,抽出数比較手段55,及び作業中止警告手段56を有する。
c=2.26s/(n−1)1/2 ・・・(2)
或いは次式:
c=1.96s/n1/2 ・・・(3)
を格納する。(2)式は,検査装置1が検査するロットLjの母平均μの標準偏差σが,検査前に未知の場合に利用可能である。一方,(3)式は,検査するロットの母平均μの標準偏差σが,検査前に既知の場合に利用可能である。また,上述した「95%信頼区間」とは,「ロットの母平均μの真の値が95%の確率で存在する範囲」のことであり,標本平均をxとすると,
x−c≦μ≦x+c ・・・(4)
となる。
図5を見てわかるように,標準偏差σの値が小さくなるほど95%信頼区間cは小さくなる。このため,標準偏差σの値が小さい場合においては,標準偏差σの値が大きい場合に比べて標本数nを増加しなくても,一定の検査精度を維持できることがわかる。母平均μの存在する割合(信頼度)は,上述した95%が好適であるが,ユーザが求める精度に応じて決定すれば良い。
本発明の第2の実施の形態に係る検査システムは,図9に示すように,検査装置1,主記憶装置3X,中央処理制御装置(CPU)5X,入力装置7,出力装置9,プログラム記憶装置11,及びデータ記憶装置13を備える。主記憶装置3は,検査情報記憶部31及び解析情報記憶部32Xを有する。CPU5は,検査情報取得手段51,検査結果解析手段52X,抽出数算出手段54X,抽出数比較手段55X及び作業中止警告手段56Xを有する。
c0≧1.96sk-1/nk 1/2 ・・・(5)
及び検査装置1がk番目のロットの中から抽出するウェーハの抽出数akを解析するための解析式:
ak=nk/y ・・・(6)
を格納する。ここで,sは標本標準偏差,yはウェーハ1枚当たりに計測するチップ領域数を示す。CPU5Xの抽出数算出手段54Xは,抽出数解析情報記憶部32cに格納された解析式に基づいて,k番目に計測するロットの標本数nk及びウェーハの抽出数akを算出する。抽出数比較手段55Xは,抽出数算出手段54Xが算出した抽出数akと抽出数上限値記憶部31dに格納された抽出数上限値amaxとを比較する。作業中止警告手段56Xは,抽出数akが,抽出数上限値amaxと比べて多い場合に検査作業を中止する旨を出力装置9を介して警告する。他は,図1に示す検査システムと同様であるので,説明を省略する。
次に,図14及び図15を参照しながら,本発明の実施の形態に係る電子装置の製造方法を説明する。なお,以下に述べる電子装置の製造方法はCMOS構造の半導体集積回路を一例として説明するが,半導体集積回路の製造方法以外にも,多くの電子装置の製造方法に適用できることは勿論である。
本発明は上記の実施の形態によって記載したが,この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態,実施例及び運用技術が明らかとなろう。例えば,本発明の実施の形態においては,ウェーハの検査システム及び検査方法について記述したが,本発明は半導体装置に使用するウェーハに限定されず,例えば液晶装置,磁気記録媒体,光記録媒体,薄膜磁気ヘッド,超伝導素子等の製造工程のような母集団の中から標本を一部抜き取って検査するような他の工業製品の製造工程に利用可能であることは勿論である。例えば,薄膜磁気ヘッドの製造工程は,工程数は少ないものの,半導体集積回路と同様なCVD工程,フォトリソグラフィー工程,エッチング工程等の繰り返しからなるものであり,本発明の検査方法が適用できることは容易に理解できるであろう。このように,本発明はここでは記載していない様々な実施の形態等を含むことは勿論である。したがって,本発明の技術的範囲は上記の説明から妥当な特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められるものである。
3,3X…主記憶装置
5,5X…CPU
7…入力装置
9…出力装置
10a,10b,10c,10d,10e,10f,…ウェーハ
11…プログラム記憶装置
13…データ記憶装置
31…検査情報記憶部
31a…抽出数記憶部
31b…抽出順位記憶部
31c…信頼区間許容値記憶部
31d…抽出数上限値記憶部
32…解析情報記憶部
32a…統計データ解析情報記憶部
32b…信頼区間解析情報記憶部
32c…抽出数解析情報記憶部
33…乱数記憶部
51…検査情報取得手段
52,52x…検査結果解析手段
52a…統計データ解析部
52b…信頼区間解析部
53…信頼区間比較手段
54,54x…抽出数算出手段
55,55x…抽出数比較手段
56…作業中止警告手段
Claims (8)
- 母集団の中から標本となる試料を選択的に抽出し,抽出された前記試料の製品特性を検査する検査装置と,
前記試料を検査するための検査情報及び前記検査装置の検査結果を解析するための解析情報を格納する主記憶装置と,
前記解析情報に基づいて,前記検査結果の標本平均及び標本標準偏差を解析する統計データ解析部と,
前記標本平均及び前記標本標準偏差の解析結果を用いて前記母集団の信頼区間を解析する信頼区間解析部と,
前記信頼区間と信頼区間許容値とを比較する信頼区間比較手段と,
前記信頼区間が前記信頼区間許容値を上回った場合に,前記検査装置が再検査する前記試料の抽出数を増加させる抽出数算出手段と,
増加後の前記抽出数と抽出数上限値とを比較し,前記試料を再検査するか否かを判定する抽出数比較手段
とを備えることを特徴とする半導体装置の製造工程における検査システム。 - 母集団の中から標本となる試料を抽出し,抽出された前記試料の製品特性を検査する検査装置と,
前記試料を検査するための検査情報及び前記検査装置の検査結果を解析するための解析情報を格納する主記憶装置と,
前記解析情報に基づいて,前記検査結果の標本標準偏差を解析する統計データ解析部と,
前記標本標準偏差及び信頼区間許容値を用いて,前記試料の次に検査する他の母集団の試料の抽出数を算出する抽出数算出手段と,
前記他の母集団の試料の抽出数と抽出数上限値とを比較し,前記他の母集団の試料を検査するか否かを判定する抽出数比較手段
とを備えることを特徴とする半導体装置の製造工程における検査システム。 - 前記抽出数比較手段の比較結果に基づいて,前記検査装置による検査作業の中止を警告する中止警告手段を更に有することを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体装置の製造工程における検査システム。
- 検査装置が,母集団の中から標本となる試料を抽出し,抽出された前記試料の製品特性を検査するステップと,
前記試料を検査するための検査情報及び前記検査装置の検査結果を解析するための解析情報を主記憶装置に格納するステップと,
統計データ解析部が,前記解析情報に基づいて,前記検査結果の標本平均及び標本標準偏差を解析するステップと,
信頼区間解析部が,前記標本平均及び前記標本標準偏差を用いて前記母集団の信頼区間を解析するステップと,
信頼区間比較手段が,前記信頼区間と信頼区間許容値とを比較するステップと,
抽出数算出手段が,前記信頼区間が前記信頼区間許容値を上回った場合に,前記検査装置が再検査する前記試料の抽出数を増加させるステップと,
抽出数比較手段が,増加後の前記抽出数と抽出数上限値とを比較し,前記試料を再検査するか否かを判定するステップ
とを備えることを特徴とする半導体装置の製造工程における検査方法。 - 検査装置が,母集団の中から標本となる試料を抽出し,抽出された前記試料の製品特性を検査するステップと,
前記試料を検査するための検査情報及び前記検査装置の検査結果を解析するための解析情報を主記憶装置に格納するステップと,
統計データ解析部が,前記解析情報に基づいて,前記検査結果の標本標準偏差を解析するステップと,
抽出数算出手段が,前記標本標準偏差及び信頼区間許容値に基づいて,前記試料の次に検査する他の母集団の試料の抽出数を算出するステップと,
抽出数比較手段が,前記他の母集団の試料の抽出数と抽出数上限値とを比較し,前記他の母集団の試料を検査するか否かを判定するステップ
とを備えることを特徴とする半導体装置の製造工程における検査方法。 - 前記検査装置が検査するステップは,ウェーハ上に形成されたチップ領域のパターンの合わせずれ,又は,前記チップ領域のパターンの寸法を検査するステップであることを特徴とする請求項4又は5に記載の半導体装置の製造工程における検査方法。
- 前記抽出数比較手段の比較結果に基づいて,前記検査装置による検査作業の中止を警告するステップを更に有することを特徴とする請求項4〜6のいずれか1項に記載の半導体装置の製造工程における検査方法。
- 特定の製造工程とその製造工程の結果を検査するインライン検査工程とを一組とした製造検査段階を複数回,順次繰り返して電子装置を製造する方法であって,前記インライン検査のそれぞれは,
検査装置が前記製造検査段階が対象とする前記製造工程を経たロットの中から被検査対象試料を選択的に抽出し,抽出された前記被検査対象試料の前記製造工程に起因した特性を検査する工程と,
前記被検査対象試料を検査するための検査情報及び検査結果を解析するための解析情報を主記憶装置に格納する工程と,
統計データ解析部が,前記解析情報に基づいて,前記検査結果の標本平均及び標本標準偏差を解析する工程と,
信頼区間解析部が,前記標本平均及び前記標本標準偏差を用いて,前記ロットの信頼区間を解析する工程と,
信頼区間比較手段が,前記信頼区間と信頼区間許容値とを比較する工程と,
抽出数算出手段が,前記信頼区間が前記信頼区間許容値を上回った場合に,前記検査装置が再検査する前記被検査対象試料の抽出数を増加させる工程と,
抽出数比較手段が,増加後の前記抽出数と抽出数上限値とを比較し,前記被検査対象試料を再検査するか否かを判定する工程と,
前記抽出数比較手段の判定結果に基づいて,次の製造検査段階に進む,若しくは検査中止をし,製造工程を中止する工程
とを備えることを特徴とする電子装置の製造方法。
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