JP4154384B2 - 半導体装置の設計方法 - Google Patents
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Description
以下、第1の実施の形態について、図を参照しながら説明する。
以下、第2の実施の形態について、図を参照しながら説明する。
以下、第3の実施の形態について、図を参照しながら説明する。
以下、第4の実施の形態について、図を参照しながら説明する。
以下、第5の実施の形態について、図を参照しながら説明する。
101 冗長ビア化後レイアウトデータ
S102 エラー解析工程
S103 エラー判定工程(判断工程)
S104、S205、S503
、S604、S703 ビア変換工程
105、206、504
、605 冗長ビア化後レイアウトデータ
S204、S502 優先順位付け工程(冗長ビア優先順位決定工程)
301、303、403
、405、1003
、1105 ビア(単一ビア)
302 配線パターン
401、406 スタンダードセル
402 出力ピン
404 入力ピン
501、704 詳細配線後レイアウトデータ
S505、S606、S807 冗長ビア化工程
S602 仮想的ビア変換工程(変換工程)
S603 仮想的エラー解析工程(解析工程)
701 概略配線後レイアウトデータ
S702 優先順位付け工程(単一ビア優先順位決定工程)
S705、S806 詳細配線工程
801 回路接続情報
802 配線製造ルール
803 スタンダードセル、マクロセルライブラリ
S804 配置工程
S805 概略配線工程
903、905 ビア(冗長ビア)
Claims (4)
- 異なる配線層の配線を接続する単一ビアが冗長な2個以上のビアに変換された冗長ビアを含む半導体装置のレイアウトをコンピュータ用いて設計する半導体装置の設計方法において、
前記冗長ビアを複数個含むレイアウトデータに対して、個々の前記冗長ビアに起因する所定の制約違反が存在するか否かを判断する判断工程と、
前記判断工程において前記レイアウトデータに前記所定の制約違反が存在すると判断された場合、前記所定の制約違反を解消するために前記冗長ビアを前記単一ビアに変換する最小限度の変換個数を算出する算出工程と、
前記算出工程から得られる前記変換個数に基づいて、前記冗長ビアを前記単一ビアに変換する変換工程とを含む
ことを特徴とする半導体装置の設計方法。 - 請求項1記載の半導体装置の設計方法において、
前記変換工程は、前記所定の制約違反が発生した前記配線に属する前記冗長ビアを、検出した順に、1つずつ、前記単一ビアに変換する
ことを特徴とする半導体装置の設計方法。 - 請求項1記載の半導体装置の設計方法において、
前記変換工程は、前記算出工程において算出された前記変換個数の前記冗長ビアを、全ての前記冗長ビアの中から無作為に選んで、1つずつ、前記単一ビアに変換する
ことを特徴とする半導体装置の設計方法。 - 請求項2及び3の何れか1項に記載の半導体装置の設計方法において、
前記変換工程は、前記算出工程において算出された前記変換個数に基づいて、前記所定の制約違反が存在しなくなるまで、前記冗長ビアを含む信号配線毎に、前記冗長ビアから前記単一ビアへの変換を繰り返す
ことを特徴とする半導体装置の設計方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004323566A JP4154384B2 (ja) | 2004-11-08 | 2004-11-08 | 半導体装置の設計方法 |
US11/262,966 US20060101367A1 (en) | 2004-11-08 | 2005-11-01 | Design method of semiconductor device and semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004323566A JP4154384B2 (ja) | 2004-11-08 | 2004-11-08 | 半導体装置の設計方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006135152A JP2006135152A (ja) | 2006-05-25 |
JP4154384B2 true JP4154384B2 (ja) | 2008-09-24 |
Family
ID=36317791
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004323566A Expired - Fee Related JP4154384B2 (ja) | 2004-11-08 | 2004-11-08 | 半導体装置の設計方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20060101367A1 (ja) |
JP (1) | JP4154384B2 (ja) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4296051B2 (ja) * | 2003-07-23 | 2009-07-15 | 株式会社リコー | 半導体集積回路装置 |
JP2006065403A (ja) * | 2004-08-24 | 2006-03-09 | Toshiba Corp | 自動設計方法、自動設計プログラム及び半導体集積回路 |
US7290226B2 (en) * | 2005-04-04 | 2007-10-30 | International Business Machines Corporation | Via redundancy based on subnet timing information, target via distant along path from source and/or target via net/subnet characteristic |
US7665052B1 (en) * | 2005-11-21 | 2010-02-16 | Cadence Design Systems, Inc. | Method and mechanism for performing timing aware via insertion |
US20070158835A1 (en) * | 2006-01-12 | 2007-07-12 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method for designing interconnect for a new processing technology |
US7302662B2 (en) * | 2006-03-28 | 2007-11-27 | National Tsing Hua University | Method for post-routing redundant via insertion in integrated circuit layout |
US7673268B2 (en) * | 2006-05-01 | 2010-03-02 | Freescale Semiconductor, Inc. | Method and system for incorporating via redundancy in timing analysis |
JP4901302B2 (ja) * | 2006-05-26 | 2012-03-21 | 株式会社東芝 | 半導体集積回路 |
JP4980684B2 (ja) | 2006-09-29 | 2012-07-18 | 富士通株式会社 | 基板情報取得変換方法とそのプログラムおよび装置 |
US20080086709A1 (en) * | 2006-10-05 | 2008-04-10 | Dan Rittman | System and method for automatic elimination of electromigration and self heat violations during construction of a mask layout block, maintaining the process design rules (DRC Clean) and layout connectivity (LVS Clean) correctness |
US20080086708A1 (en) * | 2006-10-05 | 2008-04-10 | Dan Rittman | System and method for automatic elimination of electromigration and self heat violations of a mask layout block, maintaining the process design rules correctness |
JP4303280B2 (ja) | 2006-12-06 | 2009-07-29 | Necエレクトロニクス株式会社 | 半導体集積回路のレイアウト方法、レイアウトプログラム |
WO2008094143A2 (en) * | 2007-01-30 | 2008-08-07 | Dan Rittman | System and method for automatic elimination of electromigration and self heat violations of a mask layout block, maintaining the process design rules (drc clean) and layout connectivity (lvs clean) correctness. |
WO2008097219A2 (en) * | 2007-02-06 | 2008-08-14 | Dan Rittman | System and method for automatic elimination of electromigration and self heat violations during construction of a mask layout block, maintaining process design rules and layout connectivity. |
JP4871168B2 (ja) * | 2007-02-26 | 2012-02-08 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 集積回路の配線経路探索方法、集積回路の自動配線装置およびプログラム |
JP4335933B2 (ja) | 2007-03-22 | 2009-09-30 | Necエレクトロニクス株式会社 | 半導体集積回路及び半導体集積回路の設計プログラム |
JP2008311454A (ja) * | 2007-06-15 | 2008-12-25 | Fujitsu Microelectronics Ltd | 半導体集積回路のレイアウト設計方法およびレイアウト設計プログラム |
JP2010238146A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Fujitsu Ltd | 半導体基板配線設計支援装置及びその制御方法 |
US8694936B1 (en) * | 2013-01-08 | 2014-04-08 | International Business Machines Corporation | Terminal metal connection inspection |
KR102366810B1 (ko) * | 2014-08-22 | 2022-02-23 | 삼성전자주식회사 | 표준 셀 라이브러리 및 이를 사용하는 방법 |
CN105069228B (zh) * | 2015-08-10 | 2018-02-06 | 杭州宙其科技有限公司 | 一种在spare cell上加入spare via的方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5798937A (en) * | 1995-09-28 | 1998-08-25 | Motorola, Inc. | Method and apparatus for forming redundant vias between conductive layers of an integrated circuit |
US6026224A (en) * | 1996-11-20 | 2000-02-15 | International Business Machines Corporation | Redundant vias |
US6556658B2 (en) * | 2001-09-17 | 2003-04-29 | International Business Machines Corporation | Method for adding redundant vias on VLSI chips |
US20060064653A1 (en) * | 2004-09-21 | 2006-03-23 | Shuo Zhang | Automatic layout yield improvement tool for replacing vias with redundant vias through novel geotopological layout in post-layout optimization |
-
2004
- 2004-11-08 JP JP2004323566A patent/JP4154384B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-11-01 US US11/262,966 patent/US20060101367A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060101367A1 (en) | 2006-05-11 |
JP2006135152A (ja) | 2006-05-25 |
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Legal Events
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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