JP4146879B2 - 厚膜パターン膜剥離装置 - Google Patents
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Description
又、単層の印刷の場合であっても大面積のパターンを形成する場合には、スクリーン版の伸びによりトータルピッチのずれや周辺部の歪み等が生じ、他のパターンとの位置合わせが困難になるという問題があった。
従って、本発明の目的は、大面積パターンにおいても、高い生産性で、高精度、高アスペクト比の厚膜パターンを与える装置を提供することである。
一般にPDPは、2枚の対向するガラス基板にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、その間にNe等を主体とするガスを封入した構造になっている。そして、これらの電極間に電圧を印加し、電極周辺の微小なセル内で放電を発生させることにより、各セルを発光させて表示を行なうようにしている。情報表示するためには、規則的に並んだセルを選択的に放電発光させる。このPDPには、電極が放電空間に露出している直流型(DC型)と絶縁層で覆われている交流型(AC型)の2タイプがあり、双方とも表示機能や駆動方法の違いによって、更にリフレッシュ駆動方式とメモリー駆動方式に分類される。
このAC型PDPでは、前面板31上の複合電極間に交流電源から所定の電圧を印加して電場を形成することにより、前面板31と背面板32とバリヤーリブ33とで区画される表示要素として各セル内で放電が行なわれる。そしてこの放電により生じる紫外線により蛍光体層39を発光させ、前面板31を透過してくる光を観察者が視認するようになっている。
本発明で使用するPDPの背面基板は、従来のPDPに使用されていると同様のガラス基板であり、又、該基板に形成するバリヤーリブの形状も従来技術と同様であり、特別な点はなく、本発明は上記バリヤーリブの形成に特徴を有する。
焼成工程において適当な温度、例えば、500〜650℃程度の温度において焼成することによってパターン化された厚膜層中の有機物が焼失するとともに、耐熱性フィラーが低融点ガラスフリットによって固定され、基板に密着したバリヤーリブが形成される。
実施例1
ガラスフリット50部、黒色無機顔料20部、充填剤(アルミナ)10重量部、ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートサクシネート5部、エチレングリコール15部及びエタノール15部を混合し、十分に分散処理してペーストとした。このペーストを、下地、電極及び誘電体層等が既に形成されているPDP用ガラス基板上に乾燥時の厚みが200μmになるようにロールコートで塗布し、150℃で30分間乾燥してバリヤーリブ用の厚膜を形成した。
銀粉体70部、ガラスフリット10部、ヒドロキシプロピルメチルセルロース5部、エチレングリコール15部及びエタノール15部を混合し、十分に分散処理してペーストとした。このペーストをPDP用ガラス基板上に乾燥時の厚みが20μmになるようにロールコートで塗布し、150℃で30分間乾燥して銀電極用の厚膜を形成した。
2:厚膜層
3:レジスト
4:フォトマスク
5:剥離液
6:軸
6’,6”:ブレード
7:ローラ
8:ノズル
31:前面板
32:背面板
33:バリヤーリブ
34:維持電極
35:バス電極
36:誘電体層
37:保護層
38:アドレス電極
39:蛍光体層
100:膜剥離装置
Claims (1)
- 基板上に樹脂と無機粉体を含む厚膜を形成する工程、該厚膜表面にレジストパターンを形成する工程、レジスト膜の存在しない領域に前記厚膜の樹脂を溶解若しくは膨潤させる剥離液を付与して厚膜をパターン状に剥離除去する工程、及び形成された厚膜パターンを焼成する工程を含む厚膜パターンの形成方法に使用する膜剥離装置であって、上記被パターン化基板の搬送装置と、該基板に形成された上記樹脂層をパターン状に剥離するための剥離液を有する液槽と、該剥離液を噴射する噴射装置と噴射装置の上方に設けられたドクターブレード形状である基板支持体とからなり、上記基板支持体が少なくともその頂部がフレキシブルな材料から構成されていることを特徴とする膜剥離装置。
Priority Applications (1)
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JP2007029732A JP4146879B2 (ja) | 2007-02-08 | 2007-02-08 | 厚膜パターン膜剥離装置 |
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JP2007029732A JP4146879B2 (ja) | 2007-02-08 | 2007-02-08 | 厚膜パターン膜剥離装置 |
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JP7291727B2 (ja) * | 2018-12-27 | 2023-06-15 | 株式会社カネカ | レジストパターンの形成に用いられる樹脂組成物、及び半導体製品の製造方法 |
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