JP4143391B2 - マルチビーム・マルチヘッド描画装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザを光源とし、複数の描画ヘッドを備えたマルチビーム・マルチヘッド描画装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、Nd:YAGレーザを用い、2つの露光ヘッドで異なるパターンを彫刻することができるマルチヘッドレーザ彫刻機が開示されている(例えば、特許文献1参照)。このマルチヘッドレーザ彫刻機は、例えば、プラスチック部品のラジオパネル等の彫刻を行うために使用される。
【0003】
一方、従来のマルチビーム・マルチヘッド描画装置の一例として、図5に示すように、光源としてレーザ52を有し、記録のスイッチング用としてAOM(音響光学素子)51が実装された描画装置では、レーザ52からのレーザ光54は、反射ミラー53で反射され、集光レンズ55、AOM51、レンズ56を通り、反射ミラー57で反射され、偏向器58にて偏向された後、fθレンズ59を通って折り返しミラー60で反射され、記録媒体に結像される。
【0004】
【特許文献1】
特開平10−193156号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記特許文献1に記載のマルチヘッドレーザ彫刻機においては、露光ヘッド間の高精度の画像結合が必要不可欠となるが、本文献で提案されている彫刻機では、これを実現することが困難であるという問題がある。
【0006】
また、上記図5に示したマルチビーム・マルチヘッド描画装置では、描画時間を短縮するには偏向器を高速のものにする必要があるが、偏向器の速度上昇には限界がある。また、描画ヘッド間の画像の切れ目において走査線を合わせ込むには、機械的な位置調整を行う必要があり、この調整に長時間を要するという問題がある。
【0007】
そこで、本発明は、上記従来のマルチビーム・マルチヘッド描画装置等における問題点に鑑みてなされたものであって、描画ヘッド間の高精度の画像結合を容易に行うことができ、描画時間を短縮することも可能なマルチビーム・マルチヘッド描画装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項1記載の発明は、レーザ光源と、該レーザ光源から入射されるレーザ光を描画領域へ導く複数の描画ヘッドとを備えたマルチビーム・マルチヘッド描画装置において、前記複数の描画ヘッドの各々は、前記レーザ光源から入射されるレーザ光を2つの光路に分離するビームスプリッタと、分離された各々の光路上に配置され、レーザ光の光軸を2次元方向に調整するための2つの音響光学素子を有するAOMユニットと、該AOMユニットを通過したレーザ光を入射して前記描画領域に導く偏向器とを備えることを特徴とする。
【0009】
そして、請求項1記載の発明によれば、ビームスプリッタによって分離された光路の各々に、レーザ光の光軸を2次元方向に調整するための2つの音響光学素子を有するAOMユニットを設けるため、結像面の位置を自由自在に変化させることができ、ピッチ調整や位置調整が自由自在となり、描画ヘッド間の画像位置調整を容易に行うことができる。また、各々の描画ヘッドに2つのビームを有することで、描画時間を従来の1/2に短縮することができる。
【0010】
請求項2記載の発明は、請求項1記載のマルチビーム・マルチヘッド描画装置において、1つのレーザ光源と、該レーザ光源からのレーザ光を前記複数の描画ヘッドに導く複数の第2のビームスプリッタを備えることを特徴とする。
【0011】
請求項2記載の発明によれば、1つのレーザ光源で複数の描画ヘッドにレーザ光を提供することができるため、消耗品であるレーザ光源の交換作業を1回で済ませることができ、保守性の向上を図ることができる。また、レーザ単体が高価であるため、1つの光源のみでレーザ光を分岐することにより、安価な装置を提供することができる。
【0012】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【0013】
図1は、本発明にかかるマルチビーム・マルチヘッド描画装置の一実施の形態を示し、このマルチビーム・マルチヘッド描画装置は、1つのレーザ光源1と、レーザ光源1からのレーザ光2を分岐させる複数のビームスプリッタ3と、ビームスプリッタ3で分岐されたレーザ光を光源として用いる複数の描画ヘッド41〜44とを備える。そして、描画ヘッド41〜44の各々は、図2に示すように、NDフィルタ5と、ビームスプリッタ6と、反射ミラー7、8、9と、偏向器10と、fθレンズ11と、2つのAOMユニット12と、折り返しミラー17等を備える。
【0014】
レーザ光源1は、光学ベース13上に配置され、ガスレーザまたは個体励起のレーザであり、その出力は平行光束となっている。
【0015】
光学ベース13上に設けられた描画ヘッド41〜44の構成は、光量調整用のNDフィルタ5の透過率が異なるだけであり、他の構成は同一である。
【0016】
AOMユニット12の前方に配置されている集光レンズ15は、レーザ光2をAOM結晶内で集光させ、画像データのスイッチングスピードの立ち上がりを改善するために配置される。
【0017】
一方、AOMユニット12の後方に配置されているレンズ16は、結像面で適正なビームサイズを得るため、fθレンズ11に入射するビーム径を所望のビームサイズに調整するために配置される。
【0018】
AOMユニット12には、図3に示すように、X、Y方向に偏向されるように調整可能な光学結晶媒体19、20が配置されている。この光学結晶媒体19、20は、音響光学素子としてビーム位置を電気的に制御するために使用される。すなわち、音響波が光学結晶媒体19、20の中に入ると、ある屈折率を持った波が生じ、レーザ光は、結晶内を通過中にいくつかに回析される。ここで、光学結晶媒体19、20は、一次光回析光線が最大効率になるように配置されている。この光線の偏向角度θは、(式1)に示すように、音響周波数fに比例するため、音響周波数fを変化させることによりXY方向に光軸を変化させることができる。
【0019】
θ=λ・f/V・・・・(式1)
ここで、θ:0次光と一次光の角度
λ:光波長
f:音響周波数
V:光学結晶媒体内の音速
である。
【0020】
図3(a)に示すように、AOMユニット12のAOMの光学結晶媒体19は、描画ヘッド41の光学ベース13に水平に配置され、結晶内を通過中にレーザ光を音響周波数fによって0次光21と一次光22とに分離する。分離された光21、22は、描画ヘッドベースに対して垂直に配置された光学結晶体20を通過する。この時、光学結晶媒体19の音響周波数fを変化させることで、(式1)の関係からX方向に分離することができ、Y方向は、光学結晶媒体20の音響周波数fを変更することで調整が可能である。
【0021】
描画ヘッド41には、AOMユニット12を通過した後のレンズ16の後に、0次光21、23と1次光22、24とに分離するアパーチャ26が配置される。
【0022】
偏向器10は、ガルバノミラーやポリゴンミラー等を使用する。
【0023】
次に、上記構成を有するマルチビーム・マルチヘッド描画装置の動作について説明する。
【0024】
図1に示すように、描画ヘッドを4つとした場合には、その描画ヘッド41のレーザ光量は、ビームスプリッタ3で50%透過し、50%反射する。描画ヘッド41で透過した光は、描画ヘッド42のビームスプリッタ3で分岐され、描画ヘッド43へ、さらに描画ヘッド44と伝達していく。各ビームスプリッタ3は、50%で透過/反射されるので、描画ヘッド41は12.5%の透過率のNDフィルタ5を、描画ヘッド42は透過率25%のNDフィルタ5を、描画ヘッド43は透過率50%のNDフィルタ5を実装し、各描画ヘッド41〜44の光量を同一としている。
【0025】
描画ヘッド41においてNDフィルタ5を通過したレーザ光2は、図2に示すように、2つに光路を分離するビームスプリッタ14でさらに分離される。ビームスプリッタ14を透過した光は、反射ミラー7を介して90°折り返され、集光レンズ15を介してAOMユニット12へ入射する。そして、AOMユニット12を透過した後、レンズ16を通り、偏光ビームスプリッタ6によって90°折り返され、反射ミラー9を介して偏向器10のミラー面に入射し、fθレンズ11を通って折り返しミラー17で反射され、結像面に結像する。
【0026】
一方、ビームスプリッタ14で90°反射された光は、AOMユニット12を通って反射ミラーを介してλ/2板18にて偏光方向を90°変え、偏光ビームスプリッタ6を透過して反射ミラー9で反射され、偏向器10のミラー面に入射し、fθレンズ11を通って折り返しミラーで反射され、結像面に結像する。ここで、図4に示すように、上述の要領で音響周波数fを変化させることによりXY方向に結像位置のビームを変化させ、描画ヘッド間の高精度の画像結合を可能とする。
【0027】
結像面には、記録媒体25が配置され、画データをAOMで変調して記録する。記録媒体25は、図示しない円筒ドラムに巻き付けたり、記録媒体25を設けた平面上の台が移動したり、記録媒体25をローラ間に挟んで駆動機構を用いてフィードすることで、記録媒体25を副走査方向に移動する。尚、描画ヘッド41〜44の数は、その記録媒体25の主走査幅分だけ増加することができる。
【0028】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、描画ヘッド間の高精度の画像結合を容易に行うことができ、描画時間を短縮すること等が可能なマルチビーム・マルチヘッド描画装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかるマルチビーム・マルチヘッド描画装置の一実施の形態を示す概略図であって、(a)は平面図、(b)は正面図である。
【図2】図1のマルチビーム・マルチヘッド描画装置の描画ヘッドを示す平面図である。
【図3】図1のマルチビーム・マルチヘッド描画装置のAOMユニットを示す図であって、(a)は平面図、(b)は正面図である。
【図4】本発明にかかるマルチビーム・マルチヘッド描画装置における結像位置ビームの可変図であって、(a)は一方の描画ヘッド、(b)は他方の描画ヘッドの結像位置ビームの可変図である。
【図5】従来のマルチビーム・マルチヘッド描画装置の一例を示す概略図である。
【符号の説明】
1 レーザ光源
2 レーザ光
3 ビームスプリッタ
5 NDフィルタ
6 偏光ビームスプリッタ
7〜9 反射ミラー
10 偏向器
11 fθレンズ
12 AOMユニット
13 光学ベース
14 ビームスプリッタ
15 集光レンズ
16 レンズ
17 折り返しミラー
18 λ/2板
19 光学結晶媒体
20 光学結晶媒体
21 0次光(X方向)
22 一次光(X方向)
23 0次光(Y方向)
24 一次光(Y方向)
25 記録媒体
26 アパーチャ
41〜44 描画ヘッド
Claims (2)
- レーザ光源と、該レーザ光源から入射されるレーザ光を描画領域へ導く複数の描画ヘッドとを備えたマルチビーム・マルチヘッド描画装置において、
前記複数の描画ヘッドの各々は、
前記レーザ光源から入射されるレーザ光を2つの光路に分離するビームスプリッタと、
分離された各々の光路上に配置され、レーザ光の光軸を2次元方向に調整するための2つの音響光学素子を有するAOMユニットと、
該AOMユニットを通過したレーザ光を入射して前記描画領域へ導く偏向器とを備えることを特徴とするマルチビーム・マルチヘッド描画装置。 - 1つのレーザ光源と、該レーザ光源からのレーザ光を前記複数の描画ヘッドに導く複数の第2のビームスプリッタを備えることを特徴とする請求項1記載のマルチビーム・マルチヘッド描画装置。
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