JP4142704B2 - スタナン気体供給システム - Google Patents
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Description
前記極紫外光放射源に配管を通して接続され、スタナン液体およびスタナン気体の混合物が収容される密閉容器;
前記密閉容器を−60℃より低温に冷却するための冷却手段;
前記配管に介装される低圧マスフローコントローラ;
前記密閉容器と前記低圧マスフローコントローラの間に位置する前記配管部分に取り付けられ、その配管部分でのスタナン気体の圧力を検出する圧力検出器;および
前記圧力検出器での圧力検出値に基づいて前記冷却手段による前記密閉容器の冷却度合を制御するための制御手段;
を具備したことを特徴とするスタナン気体供給システムが提供される。
図1は、第1実施形態に係るスタナン気体供給システムを示す概略図である。
図3は、第2実施形態に係るスタナン気体供給システムを示す概略図である。なお、図3において第1実施形態で説明した図1と同様な部材は同符号を付して説明を省力する。
図4は、第3実施形態に係るスタナン気体供給システムを示す概略図である。なお、図4において第1実施形態で説明した図1と同様な部材は同符号を付して説明を省力する。
Claims (8)
- 極端紫外光放射源にスタナン気体を供給するスタナン気体供給システムであって、
前記極紫外光放射源に配管を通して接続され、スタナン液体およびスタナン気体の混合物が収容される密閉容器;
前記密閉容器を−60℃より低温に冷却するための冷却手段;
前記配管に介装される低圧マスフローコントローラ;
前記密閉容器と前記低圧マスフローコントローラの間に位置する前記配管部分に取り付けられ、その配管部分でのスタナン気体の圧力を検出する圧力検出器;および
前記圧力検出器での圧力検出値に基づいて前記冷却手段による前記密閉容器の冷却度合を制御するための制御手段;
を具備したことを特徴とするスタナン気体供給システム。 - 前記低圧マスフローコントローラは、前記スタナン気体を50〜300Torrの圧力範囲で流量制御可能なものであることを特徴とする請求項1記載のスタナン気体供給システム。
- 前記冷却手段は、冷媒が循環される循環配管と、この循環配管に冷媒の流れ方向に介装された圧縮機、凝縮器、膨張弁、蒸発器を有し、蒸発器が前記密閉容器を捲回する前記循環配管の捲回部である冷凍機からなることを特徴とする請求項1記載のスタナン気体供給システム。
- 前記制御手段は、前記密閉容器を収納する筐体と、この筐体内に前記冷凍機での前記密閉容器の冷却温度より高い温度の気体を供給する加温気体供給配管と、この配管に介装された制御バルブとを有する加温気体供給系;および
前記圧力検出器からの圧力検出値の信号が入力され、この入力信号に基づいて前記加温気体供給系の制御バルブの開度を調節する制御器;
を備えることを特徴とする請求項3記載のスタナン気体供給システム。 - 前記制御手段は、前記圧力検出器からの圧力検出値の信号が入力され、この入力信号に基づいて前記冷凍機の圧縮機による冷媒の圧縮度合を調節する制御器を備えることを特徴とする請求項3記載のスタナン気体供給システム。
- 前記冷却手段は、−60℃以下の冷却液体の供給源と、この供給源に接続され、前記密閉容器の捲回部を有する冷却液体供給配管と、この配管に介装された制御バルブとを備える冷却液体供給系であることを特徴とする請求項1記載のスタナン気体供給システム。
- 前記制御手段は、前記圧力検出器からの圧力検出値の信号が入力され、この入力信号に基づいて前記冷却液体供給系の制御バルブの開度を調節する制御器を備えることを特徴とする請求項6記載のスタナン気体供給システム。
- 前記−60℃以下の冷却液体は、液体窒素、液体ヘリウム、液体アルゴンおよび液体二酸化炭素から選ばれる低温液化ガスであることを特徴とする請求項6記載のスタナン気体供給システム。
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