JP4135631B2 - 圧電共振子の周波数調整方法および周波数調整装置 - Google Patents
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Description
イオンビームを照射する際、必要部以外の部分をトリミングしないように、圧電共振子の前にマスクを配置している。
そこで、請求項1では、第1マスクを圧電共振子に嵌合させ、第1マスクの上面が圧電共振子の表面とほぼ同一高さまたはそれ以下になるように配置するとともに、第1マスクの上方に一定空間をあけて第2マスクを配置する。そして、第2マスクの上方からイオンビームを照射すると、イオンビームは第2マスクの開口部を通過し、圧電共振子の電極のトリミングすべき部分に照射される。イオンビームには発散性があるので、第2マスクを通過したイオンビームは発散するが、発散成分を第1マスクが遮断するため、イオンビームが圧電共振子の下方に位置するベース基板の電極に到達することがない。
第1マスクの開口部内面を圧電共振子の外側面に近接させることで、その間を通過するイオンビームを少なくし、トリミングすべきでない部分をトリミングしてしまうという不具合を解消できる。
イオンビームには数°〜10°程度の斜め成分、つまり発散角度がある。発散部分のイオンビームの強度は弱く、発散部分と発散していない部分とで加工厚みにばらつきが生じる。そこで、第2マスクの開口部をイオンビームの発散角度分だけトリミングすべき部分より広く形成することで、トリミングすべき部分には均等な強度のイオンビームを照射することができ、均一な厚みでトリミングできる。
ベース基板の上面には入力電極、出力電極、アース電極などの外部電極が設けられることがあるが、これら外部電極が圧電共振子の近傍であって、かつトリミングすべき部分に近い位置に形成されていることがある。このような場合には、マスクの開口部を介して発散したイオンビームがこれら外部電極に照射されることで、トリミングされ、電極の飛散物が圧電共振子の側面などに付着することがある。このような場合に本発明を適用すれば、ベース基板の電極の飛散物が圧電共振子に付着するのを確実に防止できる。
また、イオンビームでトリミングされた圧電共振子の電極の飛散物は、第1マスクと第2マスクとの間に存在する空間に拡散するので、圧電共振子に再付着することがなく、IR劣化などの不具合を解消できる。
請求項2に係る発明では、第1マスクと第2マスクとを相互に固定した状態で圧電共振子に対して配置することにより、請求項1と同様の作用効果を得ることができる。
この圧電部品Aは、ベース基板1上に圧電共振子10を搭載した発振子の例である。ベース基板1には、3個の外部電極2〜4が形成されており、このうち両端部の外部電極2,4はベース基板1を周回するように鉢巻き状に形成されている。中央部の外部電極3は、ベース基板1の底面には幅方向に連続的に形成され、表面には幅方向両端部のみに形成されている。なお、中央部の外部電極3も両端部の外部電極2,4と同様に鉢巻き状に形成してもよい。
40はプラズマ生成室、41は多数の細孔41aを有する遮蔽グリッド、42は遮蔽グリッド41の細孔41aに対応する多数の細孔42aを有する加速グリッド、43は加速グリッド42を保持する加速グリッドベースである。遮蔽グリッド41の外周部はプラズマ生成室40に固定され、加速グリッド42の外周部は加速グリッドベース43に固定され、加速グリッドベース43はプラズマ生成室40に取り付けられている。加速グリッド42と遮蔽グリッド41との間には一定の隙間が設けられている。加速グリッド42の下方には、グランド電位に接続された上記圧電部品Aが配置されている。圧電部品Aの上方には、2枚の金属製マスク44,45が配置されている。
第1マスク44は、圧電共振子10の外周部が嵌合し得る大きさの開口部44aを有しており、第1マスク44はその上面が圧電共振子10の表面とほぼ同一高さまたはそれ以下になるように、その開口部44aを圧電共振子10の外周部に嵌合させて配置される。なお、第1マスク44の厚みは圧電共振子10の厚み以下とする。
開口部44aの寸法のうち、圧電共振子10の幅方向の寸法L1は、寸法公差を考慮して圧電共振子10の幅寸法より僅かに大きくする。一方、圧電共振子10の長さ方向の寸法L2については制約がなく、圧電共振子10の長さより長くすれば、如何なる寸法に設定してもよい。
また、圧電共振子10の長さ方向の開口部45aの幅W2は、トリミングしたい範囲の寸法に、位置ずれによる公差と、イオンビームの発散角度とを考慮して決定される。
なお、第1マスク44と第2マスク45とを、上記空間46の高さに対応した長さを有するスペーサ50(図4参照)を介して予め固定しておいてもよい。
圧電共振子は厚み滑り振動を利用したものに限らず、厚み縦振動など、他の厚み振動を利用したものでもよい。
3 外部電極
10 圧電共振子
12 電極
44 第1マスク
44a 開口部
45 第2マスク
45a 開口部
46 空間
Claims (6)
- ベース基板上に固定された厚み振動を利用した圧電共振子の表面の電極に対してイオンビームを照射し、上記電極をトリミングすることにより圧電共振子の周波数を調整する圧電共振子の周波数調整方法において、
上記圧電共振子の外周部が嵌合し得る大きさの開口部を有する第1マスクを、その上面が圧電共振子の表面とほぼ同一高さまたはそれ以下になるように、上記開口部を圧電共振子の外周部に嵌合させて配置する工程と、
開口部を有する第2マスクを、当該開口部が上記圧電共振子の電極のトリミングすべき部分に対応するように、上記第1マスクの上方に一定の空間をあけて配置する工程と、
上記第2マスクの上方からイオンビームを照射し、圧電共振子の電極をトリミングする工程と、を備えたことを特徴とする圧電共振子の周波数調整方法。 - ベース基板上に固定された厚み振動を利用した圧電共振子の表面の電極に対してイオンビームを照射し、上記電極をトリミングすることにより圧電共振子の周波数を調整する圧電共振子の周波数調整方法において、
上記圧電共振子の外周部が嵌合し得る大きさの開口部を有する第1マスクと、上記第1マスクの上方に一定の空間をあけて固定された開口部を有する第2マスクとを、上記第2マスクの開口部が上記圧電共振子の電極のトリミングすべき部分に対応し、上記第1マスクの上面が圧電共振子の表面とほぼ同一高さまたはそれ以下になるように、上記第1マスクの開口部を圧電共振子の外周部に嵌合させて配置する工程と、
上記第2マスクの上方からイオンビームを照射し、圧電共振子の電極をトリミングする工程と、を備えたことを特徴とする圧電共振子の周波数調整方法。 - 上記第1マスクの開口部のうち、上記トリミングすべき部分に近い部分は、上記圧電共振子の外側面に近接していることを特徴とする請求項1または2に記載の圧電共振子の周波数調整方法。
- 上記第2マスクの開口部は、イオンビームの発散角度分だけトリミングすべき部分より広く形成されていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の圧電共振子の周波数調整方法。
- 上記ベース基板の上面には上記圧電共振子の電極のトリミングすべき部分に近い位置に電極が形成されていることを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の圧電共振子の周波数調整方法。
- ベース基板上に固定された厚み振動を利用した圧電共振子の表面の電極に対してイオンビームを照射し、上記電極をトリミングすることにより圧電共振子の周波数を調整する圧電共振子の周波数調整装置において、
第1マスクと第2マスクとを備え、
上記第1マスクは上記圧電共振子が嵌合し得る開口部を有し、その上面が圧電共振子の表面とほぼ同一高さまたはそれ以下になるように、上記開口部を圧電共振子の外周部に嵌合させて配置されており、
上記第2マスクは開口部を有し、当該開口部が上記圧電共振子の電極のトリミングすべき部分に対応するように、上記第1マスクの上方に一定の空間をあけて配置されていることを特徴とする圧電共振子の周波数調整装置。
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