JP4126192B2 - 2級アミンの製造方法 - Google Patents
2級アミンの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4126192B2 JP4126192B2 JP2002149875A JP2002149875A JP4126192B2 JP 4126192 B2 JP4126192 B2 JP 4126192B2 JP 2002149875 A JP2002149875 A JP 2002149875A JP 2002149875 A JP2002149875 A JP 2002149875A JP 4126192 B2 JP4126192 B2 JP 4126192B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- water
- substituent
- secondary amine
- oxime
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 0 Cc(cc1)ccc1Pc1ccc(c(*)ccc2)c2c1-c(c1c(cc2)c(*)ccc1)c2P*c1ccc(*)cc1 Chemical compound Cc(cc1)ccc1Pc1ccc(c(*)ccc2)c2c1-c(c1c(cc2)c(*)ccc1)c2P*c1ccc(*)cc1 0.000 description 4
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、医薬品或いはその合成中間体、農薬或いはその中間体、界面活性剤原料等として広く利用される2級アミンの製造方法に関する。詳しくは、オキシム又はそのO−置換化合物を出発原料とする2級アミンの製造方法であり、オキシム又はそのO−置換化合物の2分子を、還元的に分子間反応させて2級アミンを製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、オキシム又はそのO−置換化合物の2分子を、還元的に分子間反応させて2級アミンを製造する方法としては、例えば、メタノール溶媒中、塩化ニッケル及び金属亜鉛の存在下にベンズアルドキシムを反応させてジベンジルアミンを製造する方法が知られている[Chemical and Pharmaceutical Bulletine,38(8),2090(1990)]。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら上記従来の方法においては、ベンズアルドキシムの2〜3倍モルの塩化ニッケル及び8倍モルの金属亜鉛が必要であり、しかも反応生成物が1級アミン(モノベンジルアミン)31%、2級アミン(ジベンジルアミン)36%及びベンジルアルコール9%である。このように上記従来法は、出発原料の大量使用及び2級アミンの選択性から見ると、工業的に有利な方法とは言い難い。
【0004】
本発明は、オキシム又はそのO−置換化合物から2級アミンを製造するにあたり、上記従来法の問題点を解決した工業的に有利な方法、即ち、オキシム又はそのO−置換化合物の2分子を、還元的に分子間反応させて2級アミンを製造する方法において、1級アミン及び3級アミン等の副生を抑制して2級アミンを選択的に製造できる経済的な方法を提供することを課題とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を行った。その結果、オキシム又はそのO−置換化合物を、親水性ホスフィン化合物を配位子として有する水溶性のパラジウム錯体の存在下、多相系溶媒中で水素と反応させる方法によって、1級アミン及び3級アミン等の副生を抑制して目的とする2級アミンを選択的に容易に製造できることを見出した。さらに、多相系溶媒として水及び水と混和しない有機溶媒の混合溶媒を用いて反応を行うと、反応終了後の水層には親水性ホスフィン化合物を配位子として有する水溶性のパラジウム錯体が、そして有機溶媒層には2級アミンがそれぞれ溶解していることから、反応終了後に水層と有機溶媒層とに分液するだけで、目的物の2級アミンと親水性ホスフィン化合物を配位子として有する水溶性のパラジウム錯体を簡単に分離でき、しかも分液した水層に含まれる水溶性のパラジウム錯体はそのまま反応に再使用できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0006】
即ち本発明は、親水性ホスフィン化合物を配位子として有する水溶性パラジウム錯体の存在下、多相系溶媒中、オキシム又はそのO−置換化合物を水素と反応させて2級アミンを製造することを特徴とする2級アミンの製造方法に関する。
【0007】
また本発明は、親水性ホスフィン化合物を配位子として有する水溶性パラジウム錯体の存在下、水及び水と混和しない有機溶媒の混合溶媒中、オキシム又はそのO−置換化合物を水素と反応させ、反応終了後の反応混合物を、親水性ホスフィン化合物を配位子として有する水溶性パラジウム錯体を含有する水溶液である水層と2級アミンを含有する溶液である有機溶媒層に分液し、有機溶媒層から2級アミンを得て、水層に含まれる親水性ホスフィン化合物を配位子として有する水溶性パラジウム錯体を反応に再使用することを特徴とする2級アミンの製造方法に関する。
【0008】
【発明の実施の様態】
本発明を以下に詳しく説明する。
本発明に用いられるオキシム及びそのO−置換化合物(以下、これらを総称してオキシム類という。)は、具体的には、一般式(1):
【0009】
【化3】
(式中、R1、R2及びR3は同じか又は異なってそれぞれ水素原子;置換基を有していてもよいアルキル基;置換基を有していてもよいアルケニル基;置換基を有していてもよいシクロアルキル基;置換基を有していてもよいシクロアルケニル基;置換基を有していてもよいアリール基を表すか又はR2及びR3が一緒になってそれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい基である。但し、R2及びR3が共に水素原子である場合を除く。)で示されるオキシム類である。本発明に用いるオキシム類は、一般に公知の方法によって製造でき、例えば、ケトン又はアルデヒドを、ヒドロキシルアミン又はO−置換ヒドロキシルアミンと反応させて製造することができる。
【0010】
上記一般式(1)中、R1、R2及びR3で表される置換基を有していてもよいアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数1〜6の直鎖状及び分岐鎖状のアルキル基、並びに当該アルキル基が有する水素原子の1個以上を、水酸基、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数1〜4の直鎖状及び分岐鎖状のアルコキシ基)、後述する置換基を有していてもよいアルケニル基、後述する置換基を有していてもよいシクロアルキル基、後述する置換基を有していてもよいシクロアルケニル基及び後述する置換基を有していてもよいアリール基からなる群より選ばれる基に置換したものが挙げられる。置換基を有していてもよいアルケニル基としては、2−ブテニル基、3−ブテニル基、ビニル基等の炭素数2〜4の直鎖状及び分岐鎖状のアルケニル基並びに当該アルケニル基が有する水素原子の1個以上を、水酸基、前述のアルコキシ基、前述の置換基を有していてもよいアルキル基、後述する置換基を有していてもよいシクロアルキル基、後述する置換基を有していてもよいシクロアルケニル基及び後述する置換基を有していてもよいアリール基からなる群より選ばれる基に置換したものが挙げられる。置換基を有していてもよいシクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の炭素数5〜8のシクロアルキル基、並びに当該シクロアルキル基が有する水素原子の1個以上を、水酸基、前述のアルコキシ基、前述の置換基を有していてもよいアルキル基、前述の置換基を有していてもよいアルケニル基、後述する置換基を有していてもよいシクロアルケニル基及び後述する置換基を有していてもよいアリール基からなる群より選ばれる基に置換したものが挙げられる。置換基を有していてもよいシクロアルケニル基としては、前述の炭素数5〜8のシクロアルキル基における隣接する炭素原子間の結合の少なくとも1つが二重結合であるシクロアルケニル基、並びに当該シクロアルケニル基が有する水素原子の1個以上を、水酸基、前述のアルコキシ基、前述の置換基を有していてもよいアルキル基、前述の置換基を有していてもよいアルケニル基、前述の置換基を有していてもよいシクロアルキル基及び後述する置換基を有していてもよいアリール基からなる群より選ばれる基に置換したものが挙げられる。また置換基を有していてもよいアリール基としては、例えば、フェニル基及びナフチル基並びにこれらが有する水素原子の1個以上を、水酸基、前述のアルコキシ基、前述の置換基を有していてもよいアルキル基、前述の置換基を有していてもよいアルケニル基、前述の置換基を有していてもよいシクロアルキル基及び前述の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基からなる群より選ばれる基に置換したものが挙げられる。
【0011】
また、R2とR3が一緒になってそれらが結合する炭素原子と共に環を形成する基としては、例えば、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基及びヘキサメチレン基等の炭素数2〜6のアルキレン基、当該アルキレン基において隣接する炭素原子間に二重結合を1個以上有するもの、当該アルキレン基のメチレン鎖が窒素原子及び/又は酸素原子によって中断されているもの(例えば、R2とR3が一緒になってそれらが結合する炭素原子と共にピペリジン環、モルホリン環等の複素環を形成するもの)、並びにこれらが有する水素原子の1個以上を、水酸基、前述のアルコキシ基、前述の置換基を有していてもよいアルキル基、前述の置換基を有していてもよいアルケニル基、前述の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、前述の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、前述の置換基を有していてもよいアリール基等からなる群より選ばれる基に置換したもの等を挙げることができる。
【0012】
本発明に用いられるオキシム類は、上記の例に限定されず、またシン型及びアンチ型の立体構造についても特に制限はない。
【0013】
そして本発明により反応に用いたオキシム類に対応した2級アミンを製造することができる。例えば、上記一般式(1)で示されるオキシム類を出発原料として用いると、一般式(2):
【0014】
【化4】
(式中、R4及びR5はそれぞれ上記一般式(1)中のR2及びR3に対応する基であり、R2及びR3がエチレン性の不飽和結合を有さないときR4及びR5はそれぞれR2及びR3と同一であり、R2及びR3がエチレン性の不飽和結合を有するときR4及びR5はR2及びR3が有するエチレン性の不飽和結合が水素で飽和された基である。)で示される2級アミンを製造することができる。
【0015】
本発明においては、親水性ホスフィン化合物を配位子として有する水溶性パラジウム錯体(以下、単に水溶性パラジウム錯体という。)の存在下で反応行う。
【0016】
水溶性パラジウム錯体が配位子として有する親水性ホスフィン化合物は、親水性であって、且つパラジウムの原子又はイオンに配位して錯体を形成し得るものであればいずれも用いることができ、遷移金属錯体の配位子として公知のものを広く適用することができる。親水性ホスフィン化合物は、分子中にリン原子を1個又は2個以上含むもののいずれであってもよく、好ましくは分子中にリン原子を1個又は2個含むものである。
【0017】
分子中にリン原子を1個含む親水性ホスフィン化合物としては、例えば、一般式(3):
【0018】
【化5】
〔式中、R6はスルホナト基(−SO3M1:M1はアルカリ金属イオン又はアンモニウムイオンを表す。以下、同様。)及びカルボキシラート基(−COOM2:M2はアルカリ金属イオン又はアンモニウムイオンを表す。以下、同様。)からなる群より選ばれる置換基を1個以上有するアルキル基;スルホナト基及びカルボキシラート基からなる群より選ばれる置換基を1個以上有する炭素数1〜6のアリール基;炭素数1〜6のヒドロキシアルキル基;又は以下の式(4)〜(8)から選ばれる基を表し、R7及びR8は互いに同じか又は異なってそれぞれ置換基を有していてもよいアルキル基;置換基を有していてもよいアリール基;置換基を有していてもよいアラルキル基;又は置換基を有していてもよいアルコキシ基を表す。〕で示される化合物等が代表的なものとして挙げられる。
【0019】
【化6】
(式中、R9は水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基を表し、aは0〜3の整数、bは2〜16の整数である。)
【0020】
【化7】
(式中、M3はアルカリ金属イオン又はアンモニウムイオンを表し、cは2〜10の整数である。)
【0021】
【化8】
(式中、dは2〜16の整数である。)
【0022】
【化9】
(式中、R10は炭素数1〜6のアルキレン基又はフェニレン基を表し、eは3〜7の整数である。)
【0023】
【化10】
(式中、fは3〜7の整数である。)
【0024】
上記一般式(3)においてR6で表されるスルホナト基及びカルボキシラート基からなる群より選ばれる置換基を1個以上有するアリール基は、好ましくはスルホナト基及びカルボキシラート基からなる群より選ばれる置換基を1個又は2個有するフェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基及びビナフチリル基であり、スルホナト基及びカルボキシラート基からなる群より選ばれる置換基を1個以上有する炭素数1〜6のアルキル基は、好ましくはスルホナト基及びカルボキシラート基からなる群より選ばれる置換基を1個有する炭素数1〜4のアルキル基であり、炭素数1〜6のヒドロキシアルキル基は、好ましくはヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシプロピル基、4−ヒドロキシブチル基等の炭素数1〜4のヒドロキシアルキル基である。尚、スホナト基及びカルボキシラート基が有するアルカリ金属イオンとしては、具体的には、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン及びセシウムイオンが挙げられる。
【0025】
一般式(3)のR6で表される上記式(4)で表される基において式中R9表でされる1〜18のアルキル基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよい。また上記式(5)で表される基において式中M3で表されるアルカリ金属イオンは、具体的には、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン及びセシウムイオンである。また式(7)で表される基において式中のR10で表される炭素数1〜6のアルキレン基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよい。
【0026】
上記一般式(3)において、式中のR7及びR8で表される置換基を有していてもよいアルキル基及び置換基を有していてもよいアリール基には、上記R6で示される基が包含される。その他の置換基を有していてもよいアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、n−ペンチル基及びn−ヘキシル基等の炭素数1〜6の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基並びに当該アルキル基が有する水素原子の1個以上を、水酸基、ニトロ基、アミノ基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる置換基に置換したもの等が挙げられ、置換基を有していてもよいアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フェニルナフチル基及びビナフチル基並びにこれらが前記置換基を有していてもよいアルキル基及びアルコキシ基並びに水酸基からなる群より選ばれる置換基を1個以上有するもの等(具体的には、例えば、置換基を有していてもよいフェニル基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クミル基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル基、ヒドロキシトリル基等)が挙げられ、置換基を有していてもよいアラルキル基としては、例えば、前記置換基を有していてもよいアルキル基に前記置換基を有していてもよいアリール基が置換したもの等〔具体的には、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、トリルメチル基、キシリルメチル基、(ヒドロキシフェニル)メチル基等〕が挙げられ、置換基を有していてもよいアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基等の炭素数1〜6の直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基並びに当該アルコキシ基が有する水素原子の1個以上を、水酸基、ニトロ基、アミノ基及びハロゲン原子等からなる群より選ばれる置換基を1個以上有するもの等が挙げられる。
【0027】
分子中にリン原子を1個含む親水性ホスフィン化合物は上記式(2)で示される化合物に限定されない。
【0028】
分子中にリン原子を1個含む親水性ホスフィン化合物の具体例としては、例えば、以下の化合物を挙げることができる。
【0029】
【化11】
【0030】
【化12】
【0031】
【化13】
【0032】
【化14】
(式中、hは1、2、4、5又は7である。)
【0033】
【化15】
(式中、R11は炭素数4〜18の直鎖状のアルキル基を表し、kは7〜16の整数、mは0〜2の整数、nは1〜3の整数であり、m+n=3である。)
【0034】
【化16】
【0035】
【化17】
(式中、pは2〜16の整数、qは0〜2の整数、rは1〜3の整数であり、q+r=3である。)
【0036】
【化18】
【0037】
【化19】
【0038】
【化20】
【0039】
【化21】
(式中、sは1又は2である。)
【0040】
【化22】
(式中、fは上記と同じ。)
【0041】
【化23】
(式中、tは2〜16の整数である。)
【0042】
【化24】
【0043】
【化25】
【0044】
【化26】
【0045】
また、分子中にリン原子を2個含む親水性ホスフィン化合物としては、例えば、式(9):
【0046】
R12R13P−A−PR14R15 (9)
[式中、R12、R13、R14及びR15は互いに同じか或いは異なってそれぞれ置換基を有していてもよいアルキル基;置換基を有していてもよいアリール基;置換基を有していてもよいアラルキル基;又は置換基を有していてもよいアルコキシ基を表し、Aは置換基を有していてもよいアルキレン基;置換基を有していてもよいアリーレン基;又は式(10):
【0047】
【化27】
(式中、uは1〜6の整数である。)で示される基を表し、Aが置換基を有していてもよいアルキレン基又はアリーレン基の場合、当該アルキレン基及びアリーレン基はスルホナト基及びカルボキシラート基からなる群より選ばれる置換基を1個以上有し及び/又はR12、R13、R14及びR15の少なくとも1個は一般式(3)中のR6と同様である。]で示される化合物が挙げられる。
【0048】
式(9)中のR12、R13、R14及びR15で表される置換基を有していてもよいアルキル基、アルコキシ基、アリール基及びアラルキル基は、上記式(3)におけるR7及びR8と同様である。
【0049】
また式(9)中のAで表される置換基を有していてもよいアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基及びヘキサメチレン基等の炭素数1〜6のアルキレン基、並びに当該アルキレン基の水素原子の1個以上を、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基〔上記式(3)におけるR7及びR8のアルキル基、アルコキシ基、アリール基及びアラルキル基と同様〕、スルホナト基及びカルボキシラート基からなる群から選ばれる少なくとも1個の基に置換したもの等が挙げられる。置換基を有していてもよいアリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニリレン基及びビナフチリレン基並びにこれらが有する水素原子の1個以上を、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基〔上記式(3)におけるR7及びR8のアルキル基、アルコキシ基、アリール基及びアラルキル基と同様〕、スルホナト基及びカルボキシラート基からなる群から選ばれる少なくとも1個の基に置換したものが挙げられる。
【0050】
分子中にリン原子を2個含む親水性ホスフィン化合物は、上記式(9)で示される化合物に限定されるものではない。分子中にリン原子を2個含む親水性ホスフィン化合物の具体例としては、例えば、以下の化合物を挙げることができる。
【0051】
【化28】
【0052】
【化29】
【0053】
【化30】
【0054】
【化31】
【0055】
【化32】
【0056】
【化33】
【0057】
【化34】
【0058】
【化35】
【0059】
【化36】
【0060】
【化37】
【0061】
【化38】
【0062】
【化39】
【0063】
【化40】
【0064】
【化41】
【0065】
【化42】
【0066】
尚、親水性ホスフィン化合物は、従来公知の方法に従って調製することができる。
【0067】
また本発明の水溶性パラジウム錯体におけるパラジウムは、0価の原子又は陽イオンとして水溶性パラジウム錯体を構成する。当該水溶性パラジウム錯体は、上記親水性ホスフィン化合物を、パラジウムの化合物と反応させて調製することができる。水溶性パラジウム錯体の調製原料として用いられるパラジウムの化合物としては、例えば、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、ジクロロ(1,5−シクロオクタジエン)パラジウム(II)、トランスジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)等を挙げることができるが、これらに限定されない。
【0068】
本発明の水溶性パラジウム錯体の調整方法は特に限定されず、従来公知の方法を適用することができ、例えば、上記親水性ホスフィン化合物を調整原料のパラジウムの化合物と溶媒中で反応させた後、溶媒を除去し、得られた固体を再結晶等により精製する方法が挙げられる。尚、こうして得られる水溶性パラジウム錯体は、水溶性である限りにおいて、上記親水性ホスフィン化合物以外に、他の配位子を含んでいてもよい。他の配位子としては、具体的には、例えば、トリフェニルホスフィン、1,5−シクロオクタジエン、ハロゲンイオン(塩素イオン、臭素イオン又はヨウ素イオン)、2,2‘−ジピリジル、p−シメン、CO、トリシクロヘキシルホスフィン、シクロペンタジエン、ペンタメチルシクロペンタジエン、エチレンジアミン及びノルボルナジエン等、従来公知の遷移金属錯体に含まれる配位子を挙げることができる。
【0069】
また、本発明においてオキシム類を水素と反応させる際に、水溶性パラジウム錯体に代えて親水性ホスフィン化合物及び調製原料のパラジウム化合物を反応系に加えて混合することにより、反応系内にて本発明の水溶性パラジウム錯体を形成させてもよい。
【0070】
本発明における水溶性パラジウム錯体の使用量は、原料の オキシム類1モルに対して通常0.0001〜0.2モル、好ましくは0.001〜0.1モルとなるように用いられる。
【0071】
本発明のオキシム類と水素との反応は、多相系溶媒中で行われる。多相系溶媒とは、互いに混和しない2種以上の溶媒の組み合わせからなり、静置状態でそれぞれの溶媒層に層分離する混合溶媒である。具体的には、水、有機溶媒及びイオン性流体から選ばれる少なくとも2種類の互いに混和しない溶媒を組み合わせて用いた混合溶媒である。有機溶媒としては、例えば、n−ヘキサン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、テトラリン等の脂環式炭化水素、ジエチルエーテル等のエーテル類等が挙げられ、イオン性流体としては、例えば、N,N’−ジアルキル置換イミダゾリウム=テトラフロロボラート、N,N’−ジアルキル置換イミダゾリウム=ヘキサフロロホスファート、N−アルキル置換ピリジニウム=ヘキサフロロホスファート等が挙げられる。
【0072】
本発明において、水、有機溶媒及びイオン性流体の組み合わせは、本発明の水溶性パラジウム錯体と目的物の2級アミン類のそれぞれを異なる溶媒層に溶解して容易に分離できるような組み合わせが好ましく、2級アミン類の溶解特性に応じて決定すればよい。特に好ましい多相系溶媒は、水及び水と混和しない有機溶媒の混合溶媒である。水及び水と混和しない有機溶媒の混合溶媒を用いると、目的物の2級アミン類の多くは有機溶媒の層に溶解するので、反応終了後、水層と有機溶媒層を分液すれば、水溶性パラジウム錯体を水層に、2級アミン類を有機溶媒層に、それぞれ溶解して分離、回収することができる。また2級アミン類が水及び有機溶媒のいずれにも溶解し得る場合には、水層と有機溶媒層を分液した後、さらに水層から不飽和アミン類を有機溶媒で抽出して分離してもよい。尚、こして得られる水溶性パラジウム錯体を含む水層は、そのまま、本発明のオキシム類と水素との反応に適用して当該水層に含まれる水溶性パラジウム錯体を触媒として再利用することができる。
【0073】
多相系溶媒の使用量は特に限定されないが、オキシム類1重量部に対して通常0.5〜100重量部、好ましくは2〜20重量部である。
【0074】
本発明の反応の水素圧力は、通常0.1〜10MPa(約1〜100kg/cm2)程度であり、好ましくは2〜6MPa(20〜60kg/cm2)である。また反応温度は、通常0〜200℃の範囲でよく、好ましくは50〜150℃である。反応時間は特に制限はない。
【0075】
本発明の2級アミン類の製造法を実施するには、反応器にオキシム類、水溶性パラジウム錯体及び多相系溶媒を仕込んだ後、上記水素圧力、上記反応温度にて攪拌すればよい。尚反応は、低酸素状態もしくは酸素が存在しない条件下で実施するのが好ましく、反応に用いる出発原料等が液体であるときには脱気した後に反応に使用するのが好ましい。また、反応は窒素やアルゴン等の不活性な気体の雰囲気下で実施することが好ましい場合もある。
【0076】
反応終了後、分液した後に抽出等の手段によって目的とする2級アミン類を得ることができる。また、必要によりカラムクロマトグラフィー或いは晶析等により精製することもできる。
【0077】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【0078】
尚、以下の実施例におけるガスクロマトグラフィーの分析条件は次の通りである。
<ガスクロマトグラフィー分析条件>
カラム:DB−1(J&Wサイエンス社製)
キャリアガス及び流量:ヘリウム、40ml/分
カラム温度:80℃から250℃まで10℃/分で昇温した後、250℃で30分間保持。
【0079】
参考例1
Chem.Commun.,489,1999に記載の方法に従って、次のようにしてパラジウム錯体を合成した。
トリ(ヒドロキシメチル)ホスフィン1.093g(8.81ミリモル、4.1倍モル)及び水55mlの溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)2.46g(2.13ミリモル)及び塩化メチレン73mlの混合物を加えて10分間攪拌し、静置した後、水層と有機層に分液した。水層を濃縮乾固し、残渣を無水の冷エーテルで洗浄し、乾燥した後、エタノールに溶解し、不溶物を濾別した。濾液にエーテルを加えて沈澱を生成させ、次いで濾過し、濾滓をエーテルで洗浄後、乾燥して、固形物0.912gを得た。得られた固形物は水溶性でありテトラキス[トリ(ヒドロキシメチル)ホスフィン]パラジウム(0)と1H−NMRが一致した。
【0080】
参考例2
トリ(ヒドロキシメチル)ホスフィン0.533g(4.30ミリモル)、メタノール37.4ml及びジクロロ(1,5−シクロオクタジエン)パラジウム(II)0.59g(2.10ミリモル)を混合した後、濃縮乾固した。得られた残渣をメタノール及び塩化メチレンで洗浄し、乾燥した後、エタノールに溶解し、不要物を濾別した。濾液にエーテルを加えて沈殿を生成させ、次いで濾過し、濾滓をエーテルで洗浄後、乾燥して固形物0.64gを得た。得られた固形物は水溶性でありジクロロビス[トリ(ヒドロキシメチル)ホスフィン]パラジウム(II)と1H−NMRが一致した。
【0081】
実施例1
20mlステンレス製オートクレーブ[ガラス内筒つき、耐圧ガラス工業(株)製]内をアルゴンガスで満たし、シンナムアルデヒドオキシム0.562g(3.82ミリモル)、水2.5ml及びベンゼン2.5mlを仕込み、さらに参考例1で得たテトラキス[トリ(ヒドロキシメチル)ホスフィン]パラジウム(0)0.0164g(0.0027ミリモル)を加えた。次いでオートクレーブ内を水素で置換して密閉し、内圧が3.0MPaとなるまで水素を導入した後、100℃に昇温し、同温度で24時間攪拌して反応させた。反応終了後、冷却し、オートクレーブ内の残存水素を除いた後、内容物を取り出し、水層と有機層に分液した。有機層をガスクロマトグラフィーにて分析した結果、反応生成物の割合はビス(3−フェニルプロピル)アミン:3−フェニルプロピルアミン:その他(ガスクロマトグラムのピーク面積比、以下GC面積比)=82:0.4:17.6であった。原料のシンナムアルデヒドオキシムは残存しておらず、また3級アミンの生成は確認されなかった。
【0082】
実施例2
実施例1においてテトラキス[トリ(ヒドロキシメチル)ホスフィン]パラジウム(0)に代えて参考例2で得たジクロロビス[トリ(ヒドロキシメチル)ホスフィン]パラジウム(II)0.0127g(0.030ミリモル)を用いた以外は実施例1と同様に行った。その結果、反応生成物の割合は、ビス(3−フェニルプロピル)アミン:3−フェニルプロピルアミン:その他(GC面積比)=80:3.9:16.1であった。原料のシンナミルアルデヒドオキシムは残存しておらず、また3級アミンの生成は確認されなかった。
【0083】
実施例3
実施例1においてテトラキス[トリ(ヒドロキシメチル)ホスフィン]パラジウム(0)に代えて親水性のホスフィン化合物であるトリナトリウム=トリ(3−スルホナトフェニル)ホスフィン・4水和物(STREM社製)0.0658g(0.116ミリモル)及びジクロロ(1,5−シクロオクタジエン)パラジウム(II)0.0225g(0.0789ミリモル)を用いた以外は実施例1と同様に行った。その結果、反応生成物の割合はビス(3−フェニルプロピル)アミン:3−フェニルプロピルアミン:その他(GC面積比)=49:0.1:50.9であった。原料のシンナムアルデヒドオキシムは残存しておらず、また3級アミンの生成は確認されなかった。
【0084】
実施例4
実施例1と同様のオートクレーブ内をアルゴンガスで満たし、シンナムアルデヒドオキシム0.562g(3.82ミリモル)、ベンゼン2.5ml及び実施例1において反応終了後に分液して得られた水層〔テトラキス[トリ(ヒドロキシメチル)ホスフィン]パラジウム(0)含有水溶液〕2.50gを仕込んだ後、実施例1と同様にして反応、後処理及び分析を行った。その結果、反応生成物の割合はビス(3−フェニルプロピル)アミン:3−フェニルプロピルアミン:その他(GC面積比)=56:30:14であった。原料のシンナムアルデヒドオキシムは残存しておらず、また3級アミンの生成は確認されなかった。
Claims (6)
- 親水性ホスフィン化合物を配位子として有する水溶性パラジウム錯体の存在下、多相系溶媒中、オキシム又はそのO−置換化合物を水素と反応させて2級アミンを製造することを特徴とする2級アミンの製造方法。
- オキシム又はそのO−置換化合物が、アルデヒドを、ヒドロキシルアミン又はそのO−置換ヒドロキシルアミンと反応させて得られるアルドキシム又はそのO−置換化合物である請求項1に記載の方法。
- オキシム又はそのO−置換化合物が、一般式(1):
- 多相系溶媒が、水、有機溶媒及びイオン性流体から選ばれる少なくとも2種類の互いに混和しない溶媒の組み合わせである請求項1、2又は3に記載の方法。
- 多相系溶媒が、水及び水と混和しない有機溶媒の混合溶媒である請求項1、2又は3に記載の方法。
- 親水性ホスフィン化合物を配位子として有する水溶性パラジウム錯体の存在下、水及び水と混和しない有機溶媒の混合溶媒中、オキシム又はそのO−置換化合物を水素と反応させ、反応終了後の反応混合物を、親水性ホスフィン化合物を配位子として有する水溶性パラジウム錯体を含有する水溶液である水層と2級アミンを含有する溶液である有機溶媒層に分液し、有機溶媒層から2級アミンを得て、水層に含まれる親水性ホスフィン化合物を配位子として有する水溶性パラジウム錯体を反応に再使用することを特徴とする2級アミンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002149875A JP4126192B2 (ja) | 2002-05-23 | 2002-05-23 | 2級アミンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002149875A JP4126192B2 (ja) | 2002-05-23 | 2002-05-23 | 2級アミンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003342243A JP2003342243A (ja) | 2003-12-03 |
JP4126192B2 true JP4126192B2 (ja) | 2008-07-30 |
Family
ID=29767867
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002149875A Expired - Fee Related JP4126192B2 (ja) | 2002-05-23 | 2002-05-23 | 2級アミンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4126192B2 (ja) |
-
2002
- 2002-05-23 JP JP2002149875A patent/JP4126192B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003342243A (ja) | 2003-12-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Byrne et al. | A convenient and mild chromatography-free method for the purification of the products of Wittig and Appel reactions | |
US7250510B2 (en) | Transition metal complexes of N-heterocyclic carbenes, method of preparation and use in transition metal catalyzed organic transformations | |
Albrecht et al. | Chiral platinum and palladium complexes containing functionalized C2-symmetric bisaminoaryl ‘Pincer’ligands | |
Matsumoto et al. | Activated metallic nickel as a reagent for the dehalogenative coupling of halobenzenes | |
PL199412B1 (pl) | Nowe kompleksy rutenu jako (pre)katalizatory reakcji metatezy, pochodne 2-alkoksy-5-nitrostyrenu jako związki pośrednie i sposób ich wytwarzania | |
TWI774650B (zh) | 芳基化方法 | |
JPH09507850A (ja) | 直鎖状ホルミル化合物の調製法 | |
He et al. | The First Air‐Stable and Efficient Nucleophilic Trialkylphosphine Organocatalyst for the Baylis–Hillman Reaction | |
JP3640435B2 (ja) | パラダサイクル触媒を用いた芳香族オレフィンの製造方法 | |
EP1456151A1 (fr) | Procede de formation d'une liaison carbone-carbone ou carbone-heteroatome. | |
US20210198286A1 (en) | Method of preparing metal complexes of formula Z-M, in particular carbene-metal complexes | |
JP4126192B2 (ja) | 2級アミンの製造方法 | |
JP4070444B2 (ja) | 不飽和アミン類の製造方法 | |
JPS6118437A (ja) | グリコ−ルアルデヒドの製造方法及びそれに有用な触媒錯体 | |
US20030149273A1 (en) | Complexes of N-heterocyclic carbenes and the use thereof | |
JP4384840B2 (ja) | アミドの製造方法 | |
US6255532B1 (en) | Method for producing phosphabenzene compounds | |
JP6586189B2 (ja) | 金属モノアミドからのアルカリ土類金属複合金属ビスアミドの調製 | |
JP4359440B2 (ja) | ニトリル類の製造方法 | |
JPH06184082A (ja) | ノルカンファンジカルボニトリル類の製造方法 | |
JP4011022B2 (ja) | 高分子固定化アレンルテニウム錯体とその触媒並びにこれを用いた有機合成反応方法 | |
JP2005255544A (ja) | ピリジンカルボン酸アミド類の製造方法 | |
EP2205551B1 (en) | Method of producing amino dialkoxy aldehydes via hydroformylation | |
JP4381055B2 (ja) | アリルアミン類の製造方法 | |
Liu et al. | Studies on the Formation Reactions of Carbon-Carbon Bonds |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050518 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080411 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080422 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080512 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110516 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120516 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |