JP4113229B2 - 基板検査方法および基板検査システム - Google Patents
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Description
ステージに搭載された試料である基板に電子ビームを一次電子ビームとして照射する第1の過程と、この一次電子ビームを受けて前記基板から発生する二次電子および反射電子を導いて二次電子ビームとして電子像を拡大投影する第2の過程と、前記第2の過程により拡大投影された前記二次電子ビームを、イメージセンサにより画像信号に直接変換する第3の過程と、前記画像信号を受けて電子ビーム画像を表示する第4の過程と、を備え、前記イメージセンサは、厚さが前記イメージセンサの分解能と略同一以下である半導体領域であって前記二次電子ビームが入射する入射面と反対側の半導体領域の表面部に形成されて信号電荷を発生させる信号電荷発生部と、前記信号電荷を転送する電荷転送部とを含み、前記第3の過程は、前記二次電子ビームの入射により前記半導体領域内で発生し前記半導体領域内を移動して前記表面部で蓄積した電子を取り出す過程を含む、基板検査方法が提供される。
試料である基板を搭載するステージと、前記基板に電子ビームを一次電子ビームとして照射する一次電子ビーム照射手段と、前記一次電子ビームの照射を受けて、前記基板から発生する二次電子および反射電子を導いて二次電子ビームとして電子像を拡大投影する写像投影手段と、前記写像投影手段により拡大投影された前記二次電子ビームを画像信号に直接変換する電子ビーム検出手段と、前記電子ビーム検出手段から供給される前記画像信号を受けて電子ビーム画像を表示する表示手段と、を含む基板検査装置と、前記画像信号を処理して画像データを出力する信号処理手段と、前記画像データを格納する記憶手段と、 上述の本願発明に係る基板検査方法に基づいて前記基板検査装置と前記信号処理手段と前記記憶手段とを制御する制御手段と、を備え、前記電子ビーム検出手段は、前記イメージセンサを含む、基板検査システムが提供される。
2 ウェーネルト電極
3 陽極
4 偏向器
5、6 静電型四極子レンズ
7〜10、17、19、21、26、27、43a、43b、44a、44b 制御部
11 試料
12 ステージ
13、15 電源
14 回転対称静電レンズ
16、18、20 静電レンズ
22 MCP検出器
23 蛍光面
24 ライトガイド
25,60 CCDカメラ
29 画像データホストコンピュータ
30 表示器
40a、40b 平行平板電極
41a、41b 電磁コイル
58 裏面照射型CCD素子
62 画像処理部
63 メモリ
Claims (2)
- ステージに搭載された試料である基板に電子ビームを一次電子ビームとして照射する第1の過程と、
この一次電子ビームを受けて前記基板から発生する二次電子および反射電子を導いて二次電子ビームとして電子像を拡大投影する第2の過程と、
前記第2の過程により拡大投影された前記二次電子ビームを、イメージセンサにより画像信号に直接変換する第3の過程と、
前記画像信号を受けて電子ビーム画像を表示する第4の過程と、
を備え、
前記イメージセンサは、厚さが前記イメージセンサの分解能と略同一以下である半導体領域であって前記二次電子ビームが入射する入射面と反対側の半導体領域の表面部に形成されて信号電荷を発生させる信号電荷発生部と、前記信号電荷を転送する電荷転送部とを含み、
前記第3の過程は、前記二次電子ビームの入射により前記半導体領域内で発生し前記半導体領域内を移動して前記表面部で蓄積した電子を取り出す過程を含む、基板検査方法。 - 試料である基板を搭載するステージと、
前記基板に電子ビームを一次電子ビームとして照射する一次電子ビーム照射手段と、
前記一次電子ビームの照射を受けて、前記基板から発生する二次電子および反射電子を導いて二次電子ビームとして電子像を拡大投影する写像投影手段と、
前記写像投影手段により拡大投影された前記二次電子ビームを画像信号に直接変換する電子ビーム検出手段と、
前記電子ビーム検出手段から供給される前記画像信号を受けて電子ビーム画像を表示する表示手段と、を含む基板検査装置と、
前記画像信号を処理して画像データを出力する信号処理手段と、
前記画像データを格納する記憶手段と、
請求項1に記載の基板検査方法に基づいて前記基板検査装置と前記信号処理手段と前記記憶手段とを制御する制御手段と、
を備え、
前記電子ビーム検出手段は、前記イメージセンサを含む、
基板検査システム。
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JP2006213512A JP4113229B2 (ja) | 2006-08-04 | 2006-08-04 | 基板検査方法および基板検査システム |
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JP5352144B2 (ja) * | 2008-07-22 | 2013-11-27 | 株式会社荏原製作所 | 荷電粒子ビーム検査方法及び装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP3687243B2 (ja) * | 1997-01-08 | 2005-08-24 | 株式会社ニコン | パターン検査装置 |
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