JP4111201B2 - Film laminating method and apparatus - Google Patents

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JP4111201B2 JP2005072144A JP2005072144A JP4111201B2 JP 4111201 B2 JP4111201 B2 JP 4111201B2 JP 2005072144 A JP2005072144 A JP 2005072144A JP 2005072144 A JP2005072144 A JP 2005072144A JP 4111201 B2 JP4111201 B2 JP 4111201B2
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Description

本発明は基板表面へのフィルムラミネート方法とその装置に係わり、特に一定間隔をもって搬走路上を搬送されてくる各基板とフィルム供給ロールから繰り出したフィルムを搬走路に設置してあるラミネートローラ間を通過させることで各基板表面上にフィルムを貼り付け(ラミネート)るフィルムラミネート方法とその装置に関するものである。   The present invention relates to a method and an apparatus for laminating a film on a substrate surface, and in particular, between each substrate conveyed on a carrying path at a fixed interval and a laminating roller installed on the carrying path with a film fed from a film supply roll. The present invention relates to a film laminating method and an apparatus for laminating a film on each substrate surface by passing the film.

従来、ガラス基板や半導体基板などにレジストフィルムなどを貼り付ける液晶製造ラインや半導体製造ラインなどにおいては、フィルムラミネート装置の下流にフィルムラミネート後の基板表面状態を監視するための光学的監視装置を設置し、光の反射具合などから基板とフィルムの間にボイドが存在するようなフィルムラミネート状況やフィルムに皺が存在しているようなフィルム表面状態などを検査する。そして不良箇所等が検出された場合は、製造ラインから前記不良基板を除去し、不良基板について更なる加工処理は施さないようにする手段が取られている。   Conventionally, in liquid crystal production lines and semiconductor production lines that attach resist films to glass substrates and semiconductor substrates, an optical monitoring device has been installed downstream of the film laminating device to monitor the substrate surface after film lamination. Then, the film laminating condition in which a void exists between the substrate and the film or the film surface condition in which wrinkles are present in the film is inspected due to light reflection. And when a defective location etc. are detected, the means which removes the said defective board | substrate from a manufacturing line and does not perform a further process process with respect to a defective board is taken.

なお、フィルムラミネート装置としては、例えば特許文献1や特許文献2に記載されたようなものがある。   Examples of the film laminating apparatus include those described in Patent Document 1 and Patent Document 2.

特開平5−338041号公報JP-A-5-338041 特開平6−210595号公報JP-A-6-210595

フィルムラミネート前の基板は正常品であるが、ラミネート後に製造ラインから取出された不良基板はフィルムを剥離して再利用を図ろうとしても基板表面に汚れが残って、再利用は困難である。   The substrate before film lamination is a normal product, but a defective substrate taken out from the production line after lamination is difficult to reuse because the surface of the substrate remains dirty even if the film is peeled off and reused.

そこで不良基板を検討してみたところ、フィルムラミネートに起因するボイド発生などは兎も角、フィルムラミネートに起因しないと思われる不良が見出された。即ち、フィルム供給ロールから繰り出される時点で、既にフィルムに不良個所が含まれていることが確認された。   Then, when examining the defective substrate, it was found that the occurrence of voids caused by the film laminate was not caused by the film laminate, and the defect was not caused by the film laminate. That is, when the film was fed from the film supply roll, it was confirmed that the film already contained a defective part.

発明の目的は、フィルム供給ロールから繰り出されたフィルムの良好領域を基板に貼り付けることで正常な基板の廃棄枚数を低減できるフィルムラミネート方法及びその装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a film laminating method and apparatus capable of reducing the number of discarded normal substrates by attaching a good region of a film fed from a film supply roll to the substrate.

上記目的を達成する本発明の特徴とするところは、基板へのフィルムラミネート前にフィルムの状態を監視し、フィルムに不良個所を含むか否かを判断し、判断結果が格納されたフィルム管理ファイル中に不良個所があることを示している時は、この不良個所を含むフィルムの不良個所領域を廃棄するようにして、良好領域だけを基板に貼り付けるようにしたフィルムラミネート方法及びその装置にある。
A feature of the present invention that achieves the above object is that a film management file that monitors the state of the film before laminating the film on the substrate, determines whether or not the film includes a defective portion, and stores the determination result. when that indicates a failed portion in the failed portion area of the film including this defective portion so as to waste disposal, the film laminate method and apparatus has only good area pasted to the substrate is there.

以上説明したように本発明によれば、フィルム供給ロールから繰り出されたフィルムの良好領域だけを基板に貼り付けることで、正常な基板の廃棄枚数を低減できる。   As described above, according to the present invention, it is possible to reduce the number of discarded normal substrates by attaching only the good region of the film fed from the film supply roll to the substrate.

以下、図に示す実施形態に基いて、本発明を詳細に説明する。
図1において、1はフィルム2のフィルム供給ロールであり、フィルム2は図2に示すようにベースフィルム2aとレジストフィルム2bとカバーフィルム2cを3層構成に重ねてなるものである。
Hereinafter, the present invention will be described in detail based on the embodiments shown in the drawings.
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a film supply roll for the film 2, and the film 2 is formed by stacking a base film 2a, a resist film 2b, and a cover film 2c in a three-layer structure as shown in FIG.

フィルム2はフィルム供給ロール1から繰り出され、直ちに、カバーフィルム2cが剥離され巻き取りロール3に回収される。また、フィルム供給ロール1にはフィルム2を繰り出した方向と逆向きなトルクを保持し、フィルムの繰り出し量に関係なく一定な張力をフィルム2に印加するようにしている。
4はガイドロール、5はフィルム表面状態の監視装置である。
The film 2 is fed out from the film supply roll 1, and immediately, the cover film 2 c is peeled off and collected on the take-up roll 3. The film supply roll 1 holds a torque opposite to the direction in which the film 2 is fed out, and a constant tension is applied to the film 2 regardless of the amount of the film fed out.
4 is a guide roll, and 5 is a monitoring device for the film surface state.

監視装置5は繰り出されていくフィルム面の状態を任意のサンプリング周期で監視する光学センサを有し、色成分(RGB)検知及び明暗検知によるデジタルカラー判別を行う。フィルム2の不良個所はレジストフィルム2bにおける厚みむらや変色等であり、良品フィルムに比べ色成分や明度が異なる。そこで、厚みむらや変色等を光学センサで検知し、制御装置6へ測定結果を転送する。制御装置6における判定部は、良品とされるフィルム色にどれだけ近いかを一致度(0〜999)で判定する。一致度に任意のしきい値を設け、サンプリングの都度、そのしきい値よりも大きい時は良好と判定し、小さい時は不良と判定し、判定結果は後述するフィルム管理データファイルに格納しておく。なお、6aは制御装置6に付属した操作パネルである。   The monitoring device 5 has an optical sensor for monitoring the state of the film surface being fed out at an arbitrary sampling period, and performs digital color discrimination by color component (RGB) detection and brightness / darkness detection. The defective portions of the film 2 are uneven thickness and discoloration in the resist film 2b, and the color components and brightness are different from those of the non-defective film. Therefore, thickness unevenness, discoloration, and the like are detected by the optical sensor, and the measurement result is transferred to the control device 6. The determination unit in the control device 6 determines how close the film color is to a non-defective product with the degree of matching (0 to 999). An arbitrary threshold value is provided for the degree of coincidence, and at each sampling, when it is larger than the threshold value, it is judged as good, and when it is smaller, it is judged as bad, and the judgment result is stored in a film management data file described later. deep. Reference numeral 6 a denotes an operation panel attached to the control device 6.

7は基板間処理装置で、フィルム2におけるレジストフィルム2bの幅方向に2列の切れ目を設けて、切れ目の間のレジストフィルム2bを剥ぎ取ってベースフィルム2aを露出させる処理を行う。   Reference numeral 7 denotes an inter-substrate processing apparatus, in which two rows of cuts are provided in the width direction of the resist film 2b in the film 2, and the resist film 2b between the cuts is peeled off to expose the base film 2a.

ベースフィルム2a上に残ったレジストフィルム2bを基板に貼り付けることになる。従って2列の切れ目の間隔は連続して搬送される基板間の間隔と各基板のレジストフィルムを貼り付けたくない長さの和になる。   The resist film 2b remaining on the base film 2a is attached to the substrate. Therefore, the interval between the two rows of cuts is the sum of the interval between the substrates conveyed continuously and the length at which the resist film of each substrate is not desired to be attached.

8はフィルムテンション保持ローラで、ローラ表面にスリットがあってフィルム2を吸引してフィルムの搬送(繰り出し)方向と逆向きに回転し、下流のラミネートローラ9からフィルムテンション保持ローラ8までのフィルムテンションを一定に保つようにしている。10はラミネートローラ9からフィルムテンション保持ローラ8までのフィルムテンション値を測定するトルクセンサを有するガイドローラで、検出したトルクは制御装置6に送って、フィルムテンションが何時も一定となるようにフィルムテンション保持ローラ8の回転速度を制御装置6によりコントロールしている。   A film tension holding roller 8 has a slit on the roller surface, sucks the film 2 and rotates in the direction opposite to the film conveyance (feeding out) direction, and the film tension from the downstream laminating roller 9 to the film tension holding roller 8. Is kept constant. Reference numeral 10 denotes a guide roller having a torque sensor for measuring the film tension value from the laminating roller 9 to the film tension holding roller 8, and the detected torque is sent to the control device 6 to hold the film tension so that the film tension is always constant. The rotational speed of the roller 8 is controlled by the control device 6.

11は、搬走路上を上流から基板12が一定時間以上搬送されない時にラミネートローラ9とフィルム2の接触を避けるためのガイドローラである。上流機からの基板搬送待ち状態では、ガイドローラ11は降下してフィルム2とラミネートローラ9との接触を避ける。また、フィルムラミネート時にはガイドローラ11は上昇しガイドローラ10からラミネートローラ9までのロール間のみでフィルムを搬送する。なお、9aはラミネートローラ9の加圧量(線圧)を均一に保つバックアップロールである。   Reference numeral 11 denotes a guide roller for avoiding contact between the laminating roller 9 and the film 2 when the substrate 12 is not transported from the upstream on the transport path for a predetermined time or more. In the state of waiting for substrate conveyance from the upstream machine, the guide roller 11 descends to avoid contact between the film 2 and the laminating roller 9. At the time of film lamination, the guide roller 11 rises and conveys the film only between the rolls from the guide roller 10 to the laminating roller 9. In addition, 9a is a backup roll which keeps the pressurization amount (linear pressure) of the lamination roller 9 uniform.

13は一定間隔を持って連続的に搬送されてくる基板12を保温する為の保温装置、14は上流装置から基板を本装置へ搬入するための搬送装置、15は基板搬送支持ローラ、16はラミネート後の基板を搬送するための第一基板ニップローラ、17はフィルムを搬送するためのフィルムニップローラ、18は連続的にラミネートされフィルム2で繋がった状態になった基板12と基板12をレーザカッタなどで分離するための基板分離装置、19は上下移動が可能な基板搬送支持ローラ、20はフィルム廃棄ローラ、21はラミネート後の基板を搬送するための第二基板ニップローラである。   13 is a heat retaining device for keeping the substrate 12 continuously transported at a constant interval, 14 is a transport device for transporting the substrate from the upstream device to this apparatus, 15 is a substrate transport support roller, and 16 is First substrate nip roller for transporting the substrate after lamination, 17 is a film nip roller for transporting the film, 18 is a substrate 12 and the substrate 12 that are continuously laminated and connected by the film 2, and a laser cutter, etc. A substrate separating apparatus 19 for separating the substrate, 19 is a substrate transport supporting roller capable of moving up and down, 20 is a film discarding roller, and 21 is a second substrate nip roller for transporting the laminated substrate.

フィルム廃棄ローラ20は後述するように図示した位置からフィルムニップローラ17の下流位置の範囲で基板12あるいはフィルム2の搬送路での搬送方向の前後に移動できるようになっている。そしてその上流方向あるいは下流方向への移動の際には、基板搬送支持ローラ19は移動の邪魔にならぬよう制御装置6により降下される。   As will be described later, the film discarding roller 20 can move in the range of the downstream position of the film nip roller 17 from the position shown in the drawing in the transport direction of the substrate 12 or the film 2 in the transport direction. When moving in the upstream or downstream direction, the substrate transporting support roller 19 is lowered by the control device 6 so as not to obstruct the movement.

22は分離後の基板を排出するための排出装置、23は廃棄フィルムガイド、24は廃棄フィルムの巻き取りロール、25は廃棄フィルムを巻き取りロール24へ貼り付ける押し当てローラである。   Reference numeral 22 denotes a discharging device for discharging the separated substrate, 23 a waste film guide, 24 a waste film winding roll, and 25 a pressing roller for attaching the waste film to the winding roll 24.

フィルム2は巻き取りロール24側がレジストフィルム2bになっているため、廃棄フィルムを押し当てローラ25で巻き取りロール24へ押し付けるとレジストフィルム2aの粘着性で貼り付けて巻き取ることができる。   Since the film 2 is the resist film 2b on the take-up roll 24 side, when the waste film is pressed against the take-up roll 24 by the pressing roller 25, it can be attached and wound by the adhesiveness of the resist film 2a.

制御装置6は、上記各センサでの検知結果や操作パネル6aから入力したラミネート処理するためのティーチデータや装置依存データなどの各種データを保存するためのRAM,ラミネート処理のフロープログラムを格納したROM,ハードディスク,それら間で信号の交信を行うインターフェイスなどから構成される中央処理装置や各駆動部に動作信号を送るドライバ装置、各種データの表示などをモニタ画面等を備えている。   The control device 6 includes a RAM for storing various data such as a teaching result for the laminating process input from the operation panel 6a and a device dependent data, and a ROM storing a laminating process flow program. , A hard disk, a central processing unit composed of an interface for communicating signals between them, a driver device for sending an operation signal to each drive unit, a display screen for various data, and the like.

基板12は搬送方向での長さが揃った複数枚をロットとしてフィルムラミネート処理を行うが、ロットにおいて変更があった場合には基板の長さに合わせて、制御装置6により基板やフィルムの搬送を行う各ローラの位置を搬送方向において若干移動させてセッテイングできるようになっている。   The substrate 12 is subjected to a film laminating process using a plurality of substrates having the same length in the transport direction as a lot. If there is a change in the lot, the controller 6 transports the substrate and the film according to the length of the substrate. The setting can be made by slightly moving the position of each roller in the conveying direction.

次に、図3のフロープログラムに沿って基板12へのフィルムラミネートについて説明する。
先ず、制御装置6の電源を入れてステップ(以下、Sと略記する)100のティーチング処理を行う。
Next, the film lamination to the board | substrate 12 is demonstrated along the flow program of FIG.
First, the control device 6 is turned on and a teaching process in step (hereinafter abbreviated as S) 100 is performed.

ティーチング処理S100では、予め基板12の幅L1,基板13の長さL2,基板13へのフィルム2の貼り付け先端位置P1、基板12へのフィルム2の貼り付け長さD1、連続ラミネート時の基板間隔処理を施した長さD2に関するデータ、及びラミネートローラ9やバックアップローラ9a等の設定温度データ、更にはフィルム2に掛けるテンションのデータ、同一ロットで貼り付けをする基板枚数などの入力を行い、制御装置6のRAMに格納しておく。なお、基板間処理装置7からラミネートローラ9までのフィルム2の長さは、基板12へのフィルム2の貼り付け長さD1と連続ラミネート時の基板間隔処理を施した長さD2の整数倍になるようにして、連続して搬送されてくる各基板12の貼り付け長さD1に対し貼り付け先端位置P1を基準としてフィルム2に残っている貼り付けるレジストフィルム2bの長さが一致するようにしている。そして、基板間処理装置7で基板間隔処理を施す毎に長さD1の各レジストフィルム2bには、図5に示すように制御装置6のRAMにおけるフィルム管理データファイルF上において、貼り付ける各基板12に対応させてフィルム番号nを付けて格納しておく。   In the teaching process S100, the width L1 of the substrate 12, the length L2 of the substrate 13, the tip position P1 of the film 2 applied to the substrate 13, the attachment length D1 of the film 2 to the substrate 12, the substrate at the time of continuous lamination Input the data regarding the length D2 subjected to the interval processing, the set temperature data of the laminating roller 9 and the backup roller 9a, the data of the tension applied to the film 2, the number of substrates to be attached in the same lot, etc. It is stored in the RAM of the control device 6. In addition, the length of the film 2 from the inter-substrate processing apparatus 7 to the laminating roller 9 is an integral multiple of the length D1 of the film 2 attached to the substrate 12 and the length D2 subjected to the inter-substrate spacing process during continuous lamination. In this manner, the length of the resist film 2b to be attached remaining on the film 2 is matched with the attachment length D1 of each substrate 12 conveyed continuously with reference to the attachment tip position P1. ing. Each time the substrate spacing processing is performed by the inter-substrate processing device 7, each substrate to be pasted on the resist management film 2b of the length D1 on the film management data file F in the RAM of the control device 6 as shown in FIG. The film number n is attached in correspondence with 12 and stored.

次の運転準備処理S200では、操作パネル6a中の起動釦により制御装置6は運転準備動作を開始する。運転準備としては、ティーチング処理S100で入力された基板12の長さに合うように図6に示したコンベア26で各ローラの位置を搬送方向において若干移動させる。その後、本装置内にセットされたフィルムのテンションを保持するためにフィルム供給ロール1,巻き取りロール3、フィルムテンション保持ローラ8を回転駆動させ、フィルムニップローラ17でフィルム2をニップする。また、フィルム廃棄ローラ20と巻き取りロール24を一定トルクで回転駆動せしめ、フィルムを廃棄するための準備を行う。基板搬入用に基板搬送支持ローラ19を上昇させ、次にガイドロール11を下降させラミネートローラ9とバックアップローラ9aを搬送路位置から上下各方向に待避させ、フィルム2との接触を避けた状態とし、ラミネートローラ9とバックアップローラ9aや保温装置13がS100で設定した温度設定となるように温度制御を行う。   In the next operation preparation process S200, the control device 6 starts the operation preparation operation by the start button in the operation panel 6a. In preparation for operation, the position of each roller is slightly moved in the transport direction by the conveyor 26 shown in FIG. 6 so as to match the length of the substrate 12 input in the teaching process S100. Thereafter, the film supply roll 1, the take-up roll 3 and the film tension holding roller 8 are rotationally driven to hold the tension of the film set in the apparatus, and the film 2 is nipped by the film nip roller 17. Further, the film discard roller 20 and the take-up roll 24 are driven to rotate at a constant torque to prepare for discarding the film. The substrate carrying support roller 19 is raised for carrying in the substrate, then the guide roll 11 is lowered, and the laminating roller 9 and the backup roller 9a are retracted in the vertical direction from the carrying path position to avoid contact with the film 2. Then, temperature control is performed so that the laminating roller 9, the backup roller 9a, and the heat retaining device 13 are set to the temperature set in S100.

フィルム管理ファイルFのデータ作成のため、コンベア27(図6参照)によりフィルム廃棄ローラ20をフィルムニップローラ17の近傍まで移動させてフィルム2をニップしてから下流側に駆動してフィルム2を搬送する。   In order to create the data of the film management file F, the film disposal roller 20 is moved to the vicinity of the film nip roller 17 by the conveyor 27 (see FIG. 6) to nip the film 2 and then drive downstream to transport the film 2. .

この時、フィルム管理ファイルFにおけるフィルム番号(No)nは、ラミネートローラ入口位置のフィルム番号を先頭n=1として基板間処理装置7までの後部をn=nとしているが、更に繰り下げてセンサ上面のフィルム位置をn=nとしてもよい。フィルム搬送中に監視装置5でフィルム2の表面状態を監視し、制御装置6の判定部では前述したように一致度がしきい値以下であれば不良個所ありとして、フィルム管理ファイルFのフィルム番号nに対応したフィルム状態欄へフラグ1をセットし、操作パネル6a上やモニタ画面に不良検出表示とブザーコールを行う。不良が検出されない場合はフラグを立てずフィルム番号nに対応したフィルム状態欄に0をセットする。そしてフィルム2の搬送に合わせてフィルム管理ファイルFのフィルム番号欄およびフィルム状態欄は、図5(b)のようにラミネートローラ入口位置に向けて歩進(シフト)させていく。なお、準備段階におけるフィルム搬送中は、巻き取りロール24へ先行している余分なフィルム2は巻き取っている。   At this time, the film number (No) n in the film management file F has the film number at the laminating roller entrance position as the first n = 1 and the rear part up to the inter-substrate processing apparatus 7 as n = n. The film position may be n = n. While the film is being transported, the surface state of the film 2 is monitored by the monitoring device 5, and as described above, if the degree of coincidence is equal to or less than the threshold value in the determination unit of the control device 6, Flag 1 is set in the film status column corresponding to n, and a defect detection display and a buzzer call are performed on the operation panel 6a or on the monitor screen. If no defect is detected, no flag is set and 0 is set in the film status column corresponding to film number n. As the film 2 is conveyed, the film number column and the film state column of the film management file F are stepped (shifted) toward the laminating roller entrance position as shown in FIG. In addition, during film conveyance in a preparation stage, the excess film 2 ahead of the winding roll 24 is wound up.

そして、フィルム状態確認処理S300において、目の基板搬入開始前にフィルム管理ファイルF中のフィルム番号n=1のフィルム状態データを読み出す。次にフィルム不良判断処理S400に進んで、読み出したフィルム状態データが0であるかを確認し、0であれば、これから貼り付けるフィルムが良品状態であるとして、1枚目基板搬入処理S600を開始する。 Then, in the film state confirmation process S300, reads the film number n = 1 of the film state data in the film management file F in the first sheet substrate loading before starting. Next, the process proceeds to the film defect determination process S400, where it is confirmed whether the read film state data is 0. If it is 0, the first board carry-in process S600 is started assuming that the film to be attached is in a non-defective state. To do.

一方、フィルム不良判断処理S400でフィルム状態データが1となっていれば、これから貼り付けるフィルムに不良個所があることを表わしているので、フィルム廃棄処理S500に進んで、フィルムニップローラ17でラミネート量D1(不良個所を含む基板1枚分に相当する長さ=不良個所領域)のフィルムを送り、フィルム2は巻き取りロール24に巻き取っていく。なお、フィルム2の搬送があれば監視装置5はフィルム2の表面状態を監視し、検出結果は制御装置6に送ってそのRAMに格納し、フィルム管理ファイルFの作成に供する。   On the other hand, if the film state data is 1 in the film defect determination process S400, this means that there is a defective part in the film to be pasted. Therefore, the process proceeds to the film disposal process S500 and the film nip roller 17 uses the laminate amount D1. A film having a length corresponding to one substrate including the defective portion = the defective portion region is fed, and the film 2 is wound around the take-up roll 24. If the film 2 is transported, the monitoring device 5 monitors the surface state of the film 2, sends the detection result to the control device 6, stores it in its RAM, and prepares the film management file F.

ラミネートローラ入口位置で不良個所を含むフィルム2の不良個所領域の廃棄が終了したら、フィルム状態確認処理S300に戻って、ラミネートローラ入口に達している次に貼り付けるフィルム番号n=1(直前にはn=2であったものがシフトしてn=1になっている)フィルム2について、フィルム状態データを読み出し、フィルム不良判断処理S400で再び不良個所がないかどうか判断をして、なければ1枚目基板搬入処理S500に進み、あれば、フィルム廃棄処理S500に行って、上記の処理を繰り返す。
ここでは、1枚目基板搬入処理S00に進んだとして、この処理について説明する。
When the disposal of the defective portion area of the film 2 including the defective portion at the laminating roller entrance position is completed, the process returns to the film state confirmation processing S300, and the film number n = 1 to be pasted that has reached the laminating roller entrance (immediately before) For film 2, the film state data is read out and the film defect determination process S400 determines again whether there is a defective portion. Proceed to the first substrate carrying-in process S500, and if there is, go to the film discarding process S500 and repeat the above process.
Here, as advances to first sheet substrate loading process S 6 00, describes this process.

1枚目基板搬入処理S00では、搬送装置14により基板12の幅方向の傾きをラミネートローラ9の角度に対して補正してから、ラミネートローラ9下の任意位置まで搬送する。 In first sheet substrate loading process S 6 00, conveys the width direction of the tilt of the substrate 12 from the correction with respect to the angle of the laminating roller 9 by the transfer device 14, to any position below the laminate rollers 9.

その後、1枚目ラミネート処理S700で,ラミネートローラ9,バックアップローラ9aで基板12をニップし、ガイドローラ11を上昇せしめ、予めティーチングされたラミネート長さD1量についてフィルム2を基板12に貼り付ける。このラミネート中フィルム2は搬送されているので、前述しているように、監視装置5でフィルム2の表面状態の監視をしている。また、基板間処理装置7は1枚の基板分(ティーチデータ量D1)のフィルム2が搬送される度にティーチデータ量D2のレジストフィルム2bを除去する前述の基板間処理を行っている。   Thereafter, in the first laminating process S700, the substrate 12 is nipped by the laminating roller 9 and the backup roller 9a, the guide roller 11 is lifted, and the film 2 is pasted on the substrate 12 for the amount of laminating length D1 taught in advance. Since the film 2 is being transported during the lamination, the surface state of the film 2 is monitored by the monitoring device 5 as described above. Further, the inter-substrate processing apparatus 7 performs the above-described inter-substrate processing for removing the resist film 2b having the teach data amount D2 every time the film 2 corresponding to one substrate (teach data amount D1) is conveyed.

フィルム2貼り付けが終了したら1枚目基板分離処理S800に進み、図7に示すように、第一基板ニップローラ16によりフィルムの貼り付けが終わった基板12をニップし、ラミネートローラ9,バックアップローラ9a待避させ、ガイドロール11を下降する。続いて、基板分離装置18により基板12と余分なフィルムをカットし、フィルム廃棄ローラ20を開きフィルム保持を開放する。開放と同時に余分なフィルム2は、巻き取りロール24に回収する。   When the film 2 attachment is completed, the process proceeds to the first substrate separation process S800. As shown in FIG. 7, the substrate 12 on which the film is attached is nipped by the first substrate nip roller 16, and the lamination roller 9 and the backup roller 9a. Retreat and guide roller 11 is lowered. Subsequently, the substrate separation device 18 cuts the substrate 12 and excess film, opens the film discard roller 20, and releases the film holding. Simultaneously with the opening, the excess film 2 is collected on the take-up roll 24.

一方、基板12は第一基板ニップロール16によりティーチデータD2量だけ下流側へ搬送されて、次の基板搬入を待つ。また、フィルム管理ファイルFの各フィルム番号nと対応のフィルム状態データをそれぞれ1フィルム番号分、シフトさせる。なお、図7では基板分離装置18でフィルム2をカットする状況を示している。   On the other hand, the substrate 12 is conveyed downstream by the amount of teach data D2 by the first substrate nip roll 16 and waits for the next substrate loading. Further, the film state data corresponding to each film number n in the film management file F is shifted by one film number. FIG. 7 shows a situation in which the film 2 is cut by the substrate separating device 18.

その後、フィルム状態確認処理S900に進んで、フィルム状態確認処理S300と同様に2枚目以降の基板搬入開始前にフィルム管理ファイルF中のフィルムn=1のフィルム状態データを読み出しフィルム不良判断処理S1000においてフィルム状態データにフラグ1があるかどうか確認する。   Thereafter, the process proceeds to a film state confirmation process S900, and similarly to the film state confirmation process S300, the film state data of the film n = 1 in the film management file F is read out before starting the second and subsequent substrate loading, and the film defect judgment process S1000. It is confirmed whether or not flag 1 is present in the film status data.

フラグ1がなくフィルム番号n=1のフィルム2が良好なものであれば、2枚目以降基板搬入処理S1200に進む。そして2枚目以降基板ラミネート処理S1300,2枚目以降基板分離処理S1400では、前記の1枚目ラミネート処理S700,1枚目基板分離処理S800と同様な処理を行う。既にラミネートされ装置内に滞在している基板12は、ラミネート速度に同期して第一基板ニップローラ16,第二基板ニップローラ21により下流方向の分離位置へ搬送する。図8はこの状態を示している。   If the flag 1 is not present and the film 2 with the film number n = 1 is satisfactory, the process proceeds to the second and subsequent substrate carry-in processing S1200. In the second and subsequent substrate laminating processes S1300 and the second and subsequent substrate separating processes S1400, the same processes as the first and second substrate separating processes S700 and S800 are performed. The substrate 12 already laminated and staying in the apparatus is conveyed to the downstream separation position by the first substrate nip roller 16 and the second substrate nip roller 21 in synchronization with the laminating speed. FIG. 8 shows this state.

2枚目以降基板分離処理S1400において分離されたラミネート済の基板12は、第二基板ニップローラ21で排出装置22に渡して基板を下流機へ搬出する。   The laminated substrate 12 separated in the second and subsequent substrate separation processes S1400 is transferred to the discharge device 22 by the second substrate nip roller 21, and the substrate is carried out to the downstream machine.

フィルム不良判断処理S1000で、フィルム管理ファイルFのフィルム番号n=1のフィルム状態データ中に1が設定されている時は、基板排出処理S1100でラミネート済基板12の排出を行う。   If 1 is set in the film status data of the film number n = 1 in the film management file F in the film defect determination process S1000, the laminated substrate 12 is discharged in the substrate discharge process S1100.

基板排出処理S1100では、2枚目の基板搬入はしないで,図9に示すように第一基板ニップローラ16,第二基板ニップローラ21によりラミネート済の基板12を第二基板ニップローラ21が位置する基板分離位置へ搬送し、フィルム廃棄ローラ20をコンベア27でフィルムニップローラ17の近傍まで移動せしめ、フィルムをニップし、フィルムテンションを保持する。この基板分離位置への搬送中においても、監視装置5でフィルム表面状態の検出監視をする。そして不良箇所を含む基板1枚分に相当する長さのフィルム2はラミネートローラ9の出口側から基板分離装置18までの間へ移動し、廃棄に備える。   In the substrate discharge processing S1100, the second substrate is not carried in, but the substrate 12 that has been laminated by the first substrate nip roller 16 and the second substrate nip roller 21 as shown in FIG. Then, the film disposal roller 20 is moved to the vicinity of the film nip roller 17 by the conveyor 27, the film is nipped, and the film tension is maintained. Even during transport to the substrate separation position, the monitoring device 5 detects and monitors the film surface state. Then, the film 2 having a length corresponding to one substrate including the defective portion moves from the exit side of the laminating roller 9 to the substrate separating device 18 to prepare for disposal.

基板分離装置18によりフィルム2とラミネート済基板12を分離し、ラミネート済基板を排出する。   The film separation device 18 is separated from the film 2 and the laminated substrate 12, and the laminated substrate is discharged.

この場合の基板排出や2枚目以降基板分離処理S1400でラミネート済基板を排出したら、ティーチング処理S100で入力した基板枚数について排出のたびに残り枚数を1枚ずつ減らしておく。   If the laminated substrate is discharged in the substrate discharge or the second and subsequent substrate separation processing S1400 in this case, the remaining number of the substrates input in the teaching processing S100 is reduced by one for each discharge.

基板排出状態ではラミネートローラ9の出口側から基板分離装置18までの間に基板12が存在しないので、フィルム状態確認処理S300に戻って、上記の処理を繰り返す。   Since the substrate 12 does not exist between the exit side of the laminating roller 9 and the substrate separating apparatus 18 in the substrate discharge state, the process returns to the film state confirmation processing S300 and the above processing is repeated.

2枚目以降基板分離処理S1400で基板分離後は、連続ラミネート判断処理S1500を実行し、ティーチング処理S100で入力した基板枚数について残り枚数を確認することで後続の基板があるかどうか判断し、あればフィルム状態確認処理S900に戻って、残り枚数が0になるまで上記の処理を繰り返す。   After separating the substrates in the second and subsequent substrate separation processing S1400, a continuous laminate judgment processing S1500 is executed, and it is determined whether there is a subsequent substrate by checking the remaining number of substrates inputted in the teaching processing S100. Then, the process returns to the film state confirmation process S900 and the above process is repeated until the remaining number of sheets becomes zero.

以上説明したように本実施形態によれば、フィルム2に不良個所があれば、基板12に貼り付ける前に、不良個所を含む基板に貼り付ける領域のフィルム2を不良個所領域として廃棄するので、正常な基板12に対し不良個所を含むフィルムを貼り付けて不良扱いとすることを回避でき、生産原価の低減を図ることができる。   As described above, according to the present embodiment, if there is a defective portion in the film 2, the film 2 in the region to be attached to the substrate including the defective portion is discarded as a defective portion region before being attached to the substrate 12. It is possible to avoid handling a defective substrate by attaching a film including a defective portion to a normal substrate 12, and to reduce the production cost.

監視装置5は基板間処理装置の上流にあるので、フィルム表面状態の監視結果は、基板間処理に左右されない。   Since the monitoring device 5 is upstream of the inter-substrate processing apparatus, the monitoring result of the film surface state does not depend on the inter-substrate processing.

監視装置5でのフィルム表面状態監視において、不良個所が図4で説明する基板間部分(ティーチデータD2量の個所)に存在しているときは、その基板間部分は図5のフィルム管理ファイルFのフィルム番号nに該当しないから、フィルム状態欄は0として、記録を残さないようにする。そうすることで、フィルム2の消耗も低減することができる。   In the film surface state monitoring by the monitoring device 5, when the defective part exists in the inter-substrate part (the part of the teach data D2 amount) described in FIG. 4, the inter-substrate part is the film management file F in FIG. Therefore, the film state column is set to 0 so that no record is left. By doing so, the consumption of the film 2 can also be reduced.

図1における基板分離装置18はラミネート済の基板同士の分離と不良個所を含むフィルムのカットが可能な位置に配置してあり、構造の簡略化を図っているが、不良個所を含むフィルムのカット専用のカッタをフィルムニップローラ17の下流近傍に設けて、不良個所があってフィルムを廃棄する量を図9に示した基板1枚分から不良個所除去の長さに低減することができる。 The substrate separating apparatus 18 in FIG. 1 is arranged at a position where separation of laminated substrates and cutting of a film including a defective portion are possible, and the structure is simplified, but the film cutting including the defective portion is performed. a dedicated cutter downstream near vicinity of the film nip roller 17, it is possible to reduce the amount of discarded film had failed portion from one piece of substrate shown in FIG. 9 to the length of the defective portion removed.

図1の実施形態では、監視装置5はフィルム供給ロール1から繰り出したフィルムそのものを監視しているが、フィルムに前以って作業者が点検し付けておいて不良個所表示マークなどを検出するものでもよい。また、図1の実施形態では、基板の上面にフィルムをラミネートしているが、搬送路を境として鏡面対称的にフィルム供給ロールや監視装置、基板間処理装置などがあって基板の下面にフィルムをラミネートするようになっていてもよい。   In the embodiment of FIG. 1, the monitoring device 5 monitors the film itself fed out from the film supply roll 1, but an operator inspects the film in advance and detects a defective part display mark or the like. It may be a thing. In the embodiment of FIG. 1, a film is laminated on the upper surface of the substrate, but there are film supply rolls, a monitoring device, an inter-substrate processing device, etc. symmetrically with respect to the conveyance path, and there is a film on the lower surface of the substrate. May be laminated.

基板間処理装置として、レジストフィルムを除去する例で説明したが、基板間部分のレジストフィルム上にテープを幅方向に貼り付けて、基板の前後端部にレジストフィルムが接触しないようにするものでもよい。   Although the example of removing the resist film has been described as the inter-substrate processing apparatus, even if the tape is applied in the width direction on the resist film in the inter-substrate portion so that the resist film does not contact the front and rear end portions of the substrate. Good.

本発明の一実施形態になるラミネート装置を示す概略図である。It is the schematic which shows the lamination apparatus which becomes one Embodiment of this invention. 図1に示したラミネート装置で用いるフィルムの構造を示す図である。It is a figure which shows the structure of the film used with the laminating apparatus shown in FIG. 図1に示したラミネート装置の制御装置で実行されるフィルムラミネートのフロープログラムを示す図である。It is a figure which shows the flow program of the film lamination performed with the control apparatus of the lamination apparatus shown in FIG. 図3のフロープログラムにおけるティーチング処理で入力するデータについて説明する図である。It is a figure explaining the data input by the teaching process in the flow program of FIG. 図1のラミネート装置における監視装置で得た検出結果に基づいて制御装置で作成するフィルム管理ファイルを説明する図である。It is a figure explaining the film management file created with a control apparatus based on the detection result obtained with the monitoring apparatus in the laminating apparatus of FIG. 図1のラミネート装置の運転準備状況を示す概略図である。It is the schematic which shows the driving | running preparation status of the lamination apparatus of FIG. 図1のラミネート装置でラミネート済の1枚目の基板の滞在状態を示す概略図である。It is the schematic which shows the stay state of the 1st board | substrate laminated | stacked with the laminating apparatus of FIG. 図1のラミネート装置でラミネート済の1枚目の基板に続いて2枚目の基板にもラミネートした状態を示す概略図である。It is the schematic which shows the state laminated | stacked also on the 2nd board | substrate after the 1st board | substrate laminated | stacked with the laminating apparatus of FIG. 図1のラミネート装置で1枚目の基板にラミネートした後のフィルムに不良個所があった場合にフィルムを廃棄する状況を示す概略図である。It is the schematic which shows the condition which discards a film, when a defective part exists in the film after laminating on the 1st board | substrate with the laminating apparatus of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1…フィルム供給ロール、2…フィルム、2a…ベースフィルム、2b…レジストフィルム、2c…カバーフィルム、3,24…巻き取りロール、5…監視装置、6…制御装置、6a…操作パネル、7…基板間処理装置、9…ラミネートローラ、9a…バックアップローラ、12…基板、16…第一基板ニップローラ、17…フィルムニップローラ、18…基板分離装置、2…フィルム廃棄ローラ、2…第二基板ニップローラ、22…排出装置。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Film supply roll, 2 ... Film, 2a ... Base film, 2b ... Resist film, 2c ... Cover film, 3,24 ... Winding roll, 5 ... Monitoring apparatus, 6 ... Control apparatus, 6a ... Operation panel, 7 ... the substrate between the processing unit, 9 ... laminating roller, 9a ... backup roller, 12 ... substrate, 16 ... first substrate nip roller, 17 ... film nip roller, 18 ... substrate separator, 2 0 ... film waste roller, 2 1 ... second substrate Nip roller, 22 ... discharge device.

Claims (4)

一定間隔をもって搬走路上を搬送されてくる各基板とフィルム供給ロールから繰り出したフィルムを該搬走路に設置してあるラミネートローラ間を通過させることで各基板表面上にフィムルを貼り付ける方法であって、基板へのフィルムラミネート前にフィルムの状態を監視し、フィルムに不良個所を含むか否かを判断し、該判断結果が格納されたフィルム管理ファイル中に前記不良個所があることを示している時は、フィルムの該不良個所を含む領域を廃棄し、良好領域を基板に貼り付けるようにしたフィルムラミネート方法において、
フィルム不良判断で不良個所があることを示している時は、前記ラミネートローラを待避させてフィルムとの接触を避けた状態としてフィルムを送り、フィルムを巻き取りロールに巻き取ることによってフィルム廃棄処理を行うことを特徴とするフィルムラミネート方法。
A method in which a film is pasted on the surface of each substrate by passing each substrate transported on the transport path at a fixed interval and a film fed from a film supply roll between laminating rollers installed on the transport path. The film condition is monitored before film lamination to the substrate to determine whether or not the film contains a defective portion, and the determination result indicates that the defective portion is present in the stored film management file. When the film laminating method in which the region including the defective portion of the film is discarded and the good region is attached to the substrate,
When it indicates that there is a film defective portion in poor judgment, before Symbol feeding a film in a state where avoid contact with the film by saves the laminating rollers, fill beam waste by winding the winding roll of the film A film laminating method characterized by performing a discarding process.
一定間隔をもって搬走路上を搬送されてくる各基板とフィルム供給ロールから繰り出したフィルムを該搬走路に設置してあるラミネートローラ間を通過させることで各基板表面上にフィムルを貼り付ける方法であって、基板へのフィルムラミネート前にフィルムの状態を監視し、フィルムに不良個所を含むか否かを判断し、該判断結果が格納されたフィルム管理ファイル中に前記不良個所があることを示している時は、フィルムの該不良個所を含む領域を廃棄し、良好領域を基板に貼り付けるようにしたフィルムラミネート方法において、
フィルム不良判断不良個所があることを示している時は、前記ラミネートローラを待避させてフィルムとの接触を避けた状態としてフィルムを送り、フィルムを巻き取りロールに巻き取ることによってフィル廃棄処理を行い、不良個所がなことを示している時は、前記搬送路内に基板を搬入し良好領域のフィルムを基板に貼り付けるようにしたことを特徴とするフィルムラミネート方法。
A method in which a film is pasted on the surface of each substrate by passing each substrate transported on the transport path at a fixed interval and a film fed from a film supply roll between laminating rollers installed on the transport path. The film condition is monitored before film lamination to the substrate to determine whether or not the film contains a defective portion, and the determination result indicates that the defective portion is present in the stored film management file. When the film laminating method in which the region including the defective portion of the film is discarded and the good region is attached to the substrate,
When shows that the film defective judgment is defective portion, the lamination roller is retracted the feed film in a state where avoid contact with film, fill beam discarded by winding the winding roll of the film was carried out, when it is shown that has Gana failed portion, the film laminate method is characterized in that the film carries the substrate good area pasted to the substrate to the transport path.
一定間隔をもって搬走路上を搬送されてくる各基板とフィルム供給ロールから繰り出したフィルムを該搬走路に設置してあるラミネートローラ間を通過させることで各基板表面上にフィムルを貼り付ける装置であって、
基板へのフィルムラミネート前にフィルムの状態を監視する監視手段、該監視手段で得た検出結果からフィルムに不良個所を含むか否かの不良判断を行なう判断手段、
該判断手段による判断結果が格納されたフィルム管理ファイル中に前記不良個所があることを示しているフィルムの不良個所を含む領域を廃棄して良好領域を基板に貼り付ける手段、を有するフィルムラミネート装置において、
前記ラミネートローラを待避させ、不良個所があることを示している前記ラミネートローラとフィルムとの接触を避けた状態を形成するフィルムとの接触回避手段と、該接触を避けた状態でフィルムを巻き取る巻き取りローラにフィルムを搬送する搬送手段とを有することを特徴とするフィルムラミネート装置。
A device that attaches film on the surface of each substrate by passing each substrate transported on the transport path at a fixed interval and the film fed from the film supply roll between the laminating rollers installed on the transport path. There,
Monitoring means for monitoring the state of the film before film lamination to the substrate, judging means for judging whether or not the film contains a defective part from the detection result obtained by the monitoring means,
A film having means for discarding an area including the defective portion of the film and pasting the good area on the substrate when the film management file storing the determination result by the determining means indicates that the defective portion is present; In laminating equipment,
Wherein is retracted the laminating rollers, a contact avoidance means with the time that indicates a failed portion is film-forming conditions to avoid contact with the lamination roller and the film, the film in a state of avoiding the contact film laminating apparatus, characterized in that it comprises a conveying means for transporting the film to the take-up roller for winding.
請求項3において、前記判断手段で不良個所がないことを示しているは、前記ラミネートローラへ基板を搬入する基板搬入手段を有することを特徴とするフィルムラミネート装置。 And have you to claim 3, before SL when the identification information indicates that there is no defective portion in decision means, the film laminating apparatus, characterized in that it comprises a substrate carrying means for carrying a substrate into the laminating rollers.
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