JP4110130B2 - 光変調器及びその製造方法 - Google Patents
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本発明は、電気光学効果を有する基板と、該基板に形成された光導波路と、該光導波路中を伝搬する光波を変調制御するための制御用電極とを有する光変調器において、該基板表面に段差部が形成されると共に、該段差部を含む領域に膜体が形成され、該段差部の側面に形成される該膜体は、該段差部の上面に形成される該膜体に比べ、より緻密な膜体で形成されていることを特徴とする。
特に、段差部を構成する段差部の上面と、段差部の側面及び底面とに、同時に膜体を形成せず、少なくとも2回以上に分けて、各面に適した膜体を形成することを特徴とする。
基板1は、電気光学効果を有する基板であり、例えば、ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウム、PLZT(ジルコン酸チタン酸鉛ランタン)、及び石英系の材料から構成され、具体的には、これら単結晶材料の、Xカット板、Yカット板、及びZカット板から構成され、特に、光導波路デバイスとして構成されやすく、かつ異方性が大きいという理由から、ニオブ酸リチウム(LN)を用いることが好ましい。
次に、真空蒸着法を利用して、バッファ層であるSiO2膜を、図1(a)の膜体Aのように形成する。真空蒸着法は、特に、DCバイアスを印加する光変調器に適した膜体を、基板上面に均一かつ緻密に形成するのには適しているが、後述するように、段差部などの側面に対しては、均一な膜体を形成することが困難である。
膜体Bの形成方法としては、ドライプロセスやウエットプロセスが利用可能であり、ドライプロセスにおいては、成膜における蒸着物の方向性による影響が少ないスパッタリング法や、基板表面で化学反応を伴って膜が形成されるCVD法などのようなドライプロセス、さらには、ゾルゲル法や液相エピタキシー法に代表されるようなウエットプロセスを用いることが好ましい。さらに、必要に応じてこれらの各プロセスを組合わせて用いることも可能である。
これらのプロセスにより、真空蒸着法では困難である段差部の側面にも均質な膜体を形成することが可能となる。これにより、光変調器の温度特性及び電気特性のバラツキを抑制することが実現できる。
バッファ層となる膜体A及びBを形成した後、従来の光変調器と同様に、変調電極、接地電極などの制御用電極を形成する。特にDCバイアスが印加されるDCバイアス電極は、膜体Aの上に形成されるため、膜体Aの緻密さにより不純物の混入が少なく、DCドリフト現象を効果的に抑制することが可能となる。
まず、図2(a)のように、基板表面に、段差部を形成するためのマスクパターン2を形成し、マスクパターン2以外の領域に凹部3をエッチングやサンドブラストなどの方法により形成する。
そして、図2(c)のように、マスクパターン2を除去し、段差部の上面に形成された膜体Bも併せて除去する。
2 マスクパターン
3 凹部
A 緻密な膜体
B 膜体Aより緻密な膜体
Claims (6)
- 電気光学効果を有する基板と、該基板に形成された光導波路と、該光導波路中を伝搬する光波を変調制御するための制御用電極とを有する光変調器において、
該基板表面に段差部が形成されると共に、該段差部を含む領域に膜体が形成され、該段差部の側面にスパッタリング法で形成される該膜体は、該段差部の上面に真空蒸着法により形成される該膜体に比べ、より緻密な膜体で形成されていることを特徴とする光変調器。 - 請求項1に記載の光変調器において、該段差部の上面に形成される該膜体は、少なくとも該段差部の側面に形成される該膜体と接触していることを特徴とする光変調器。
- 請求項1又は2に記載の光変調器において、該制御用電極が、少なくともDCバイアス制御を行うためのDCバイアス電極であり、該段差部は、該DCバイアス電極を含む領域に形成されていることを特徴とする光変調器。
- 電気光学効果を有する基板と、該基板に形成された光導波路と、該光導波路中を伝搬する光波を変調制御するための制御用電極とを有する光変調器の製造方法において、
該基板表面に真空蒸着法で膜体Aを形成した後、マスクパターンを利用して該基板表面に段差部を形成し、次に該マスクパターンと段差部の側面及び底面とを含む領域に前記膜体Aより緻密な膜体Bをスパッタリング法で形成し、その後、該マスクパターンを除去することを特徴とする光変調器の製造方法。 - 電気光学効果を有する基板と、該基板に形成された光導波路と、該光導波路中を伝搬する光波を変調制御するための制御用電極とを有する光変調器の製造方法であって、マスクパターンを利用して該基板表面に段差部を形成し、該マスクパターンと段差部の側面を含む領域に膜体Bを形成し、次に、該マスクパターンを除去し、その後、該段差部の上面を少なくとも含む領域に膜体Aを形成する光変調器の製造方法において、
前記膜体Aは真空蒸着法で、前記膜体Bはスパッタリング法で各々形成し、
前記膜体Bは、前記膜体Aに比べ、より緻密な膜体であることを特徴とする光変調器の製造方法。 - 請求項4又は5に記載の光変調器の製造方法において、該膜体Aの製造方法は、真空蒸着法を利用することを特徴とする光変調器の製造方法。
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