JP4079321B2 - プロセスプラントにおけるキャビテーションの監視システム及び検出方法、並びにフィールドデバイス - Google Patents
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Description
(数1)
NPSHa=P+H−Hf−Hvp
上式において、
P=絶対圧力
H=液体の表面からポンプのインペラまでの静的距離
Hf=摩擦損失
Hvp=蒸気圧
NPSHr(必要有効吸込ヘッド)は、液体上のインペラのセンターラインにおいてこの液体の蒸気圧を超える吸込ヘッドである。NPSHrは、ポンプ流入口設計の厳密な関数であり、吸込配管システムには依存しない。NPSHrは、特定の試験を用いて製造業者により規定され、NPSHrの数値は、ポンプ容量の関数として製造業者ポンプ曲線上に示される。ポンプがキャビテーションなく動作するためには、NPSHaはNPSHrよりも大きい必要がある。NPSHaとNPSHrとの相互作用は、図6のグラフに例示されており、ここでは、NPSHaとNPSHrとは流量に対してプロットされている。図6のグラフは、NPSHaがNPSHrより小さくなる地点でキャビテーションまたはブレークダウンが発生し始めるということを例示している。流体の流量はその流体の圧力を変えるので、NPSHaとNPSHrとは流量に依存する。
12、14 プロセス制御システム
12A オペレータインターフェイス
12B 制御装置
14A オペレータインターフェイス
14B 制御装置
15 フィールドデバイス
16 デバイス
18、22 保守コンピュータ
20 回転装置
23 監視・診断アプリケーション
24 電力生成・分配システム
25 電力生成・分配装置
26 電力生成システム
27 電力制御・診断アプリケーション
30 コンピュータシステム
32 バス
35 ビジネスシステムコンピュータ
36 保守計画コンピュータ
37 プラントワイドLAN
38 コーポレイトWAN
40 コンピュータシステム
50 資産活用エキスパート
51 指標生成ソフトウェア
52 制御エキスパート
54 プログラム
55 オフ゜ティマイサ゛ルーチン
55A、55B 制御最適化ルーチン
56、232 モデル
68 新モデル
58 ユーザインターフェイスルーチン
62 制御ルーチン
63 ビジネスアプリケーション
65 制御エキスパート、予測制御装置
66 保守システムアプリケーション
82 領域モデル
84 原料供給源
88 プリプロセッサモデル
90 蒸留プロセス
92 C2クラッカ
100 蒸留コラム
100T 頂部
100B 底部
102 リフラックスドラム
103 入力
104 リボイラ
200 プロセス制御ループ
202 タンク
204、260 ポンプ
206 タンク
208、220 出力バルブ
210 入力バルブ
212、216、278、280 圧力センサ
214、218、221、274、276 流量センサ
220 バルブ
222 レベルセンサ
223、224 制御装置
225 監視システム
226 プロセッサ
227、264 メモリ
228 通信ルーチン、収集ルーチン
229、269 監視ルーチン
230、270 特性曲線
262、プロセッサ
266 データ収集ルーチン
290 モータ
292 インペラ
Claims (45)
- デバイス内にキャビテーションが存在するかを判断するために利用される監視システムであって、
プロセッサと、
前記デバイスの必要有効吸込ヘッドを規定する、または前記デバイスの電圧―電流を規定する前記デバイスの特性曲線を格納するメモリと、
前記デバイスの動作中に前記デバイスに関連する一または複数の直接測定し易い動作パラメータを収集すべく、前記プロセッサにより実行されるように構成される収集手段と、
前記デバイス内にキャビテーションが存在することを判断すべく前記一または複数の動作パラメータを前記特性曲線と比較する、前記プロセッサにより実行されるように構成された監視手段と
を備えてなる監視システム。 - 前記メモリは前記デバイスに関連するモデルも格納し、前記監視手段は、前記デバイスに関連するさらなる動作パラメータを推定すべく該モデルを利用するように構成されている、請求項1記載の監視システム。
- 前記監視手段は、前記デバイス内にキャビテーションが存在するかを判断すべく、前記推定されたさらなる動作パラメータと前記デバイスの前記特性曲線とを利用するようにさらに構成されている、請求項2記載の監視システム。
- 前記一または複数の動作パラメータには前記デバイスに関連する圧力指標が含まれ、前記収集手段が該圧力指標を収集するように構成されている、請求項1記載の監視システム。
- 前記一または複数の動作パラメータには吸い込み圧指標が含まれる、請求項4記載の監視システム。
- 前記一または複数の動作パラメータには前記デバイスに関連する流体流量指標が含まれ、前記収集手段が該流体流量指標を収集するように構成される、請求項1記載の監視システム。
- 前記一または複数の動作パラメータには吸い込み圧指標が含まれる、請求項6記載の監視システム。
- 前記一または複数の動作パラメータには前記デバイスに関連する圧力指標および流体流量指標が含まれ、前記収集手段が該圧力指標および該流体流量指標を収集するように構成される、請求項1記載の監視システム。
- 前記一または複数の動作パラメータには吸込圧指標および吸込流体流量指標が含まれる、請求項8記載の監視システム。
- 前記監視手段は、前記デバイス内において利用可能な有効吸込ヘッドを求め、該利用可能有効吸込ヘッドを前記デバイスと関連する必要有効吸込ヘッドと比較するように構成されている、請求項1記載の監視システム。
- 前記監視手段は、前記デバイスの前記利用可能有効吸込ヘッドと前記必要有効吸込ヘッドとの比を計算し、該比を所定のしきい値と比較するようにさらに構成されている、請求項10記載の監視システム。
- 前記監視手段は、前記監視手段が前記デバイス内にキャビテーションが存在することを判断した場合にユーザに警告するように構成されている、請求項1記載の監視システム。
- 前記一または複数の動作パラメータは前記デバイスの電気的動作パラメータに関連しており、前記監視手段は前記デバイスの前記電圧―電流特性曲線に従って前記デバイスが動作しているか否かを検出すべく前記デバイスの前記電気的動作パラメータを利用するように構成されている、請求項1記載の監視システム。
- 前記電圧―電流特性曲線はキャビテーションなしに動作する前記デバイスの電圧―電流特性曲線である、請求項13記載の監視システム。
- 前記電圧―電流特性曲線はキャビテーションを有して動作する前記デバイスの電圧―電流特性曲線である、請求項13記載の監視システム。
- 前記電圧―電流特性曲線は高周波変動を有する前記デバイスの電圧―電流特性曲線である、請求項13記載の監視システム。
- 前記監視手段にはエキスパートエンジンが含まれる、請求項1記載の監視システム。
- 前記エキスパートエンジンはニューラルネットワークである、請求項17記載の監視システム。
- プロセスにおいて動作するデバイス内のキャビテーションを検出する方法であって、
前記デバイスの動作中に、前記デバイスに関連する一または複数の直接測定し易い動作パラメータを収集することと、
前記デバイスの必要有効吸込ヘッドを規定する、または前記デバイスの電圧―電流を規定する前記デバイスの特性曲線を格納することと、
前記収集された動作パラメータを前記デバイスの特性曲線と比較することにより、
前記一または複数の収集された動作パラメータ及び前記デバイスの特性曲線に基づいて前記デバイス内のキャビテーションの存在を自動的に検出することとを有してなる方法。 - 前記自動的に検出するステップには、前記デバイスに関連するさらなる動作パラメータを推定すべく前記デバイスに関連するモデルを利用するステップが含まれる、請求項19記載の方法。
- 前記自動的に検出するステップには、前記デバイス内にキャビテーションの存在を検出すべく前記判断されたさらなる動作パラメータと前記デバイスの前記特性曲線とを利用するステップが含まれる、請求項20記載の方法。
- 前記収集するステップには前記デバイスに関連する圧力指標を収集するステップが含まれる、請求項19記載の方法。
- 前記収集するステップには前記デバイスに関連する流体流量指標を収集するステップが含まれる、請求項19記載の方法。
- 前記自動的に収集するステップには、前記デバイス内において利用可能な有効吸込ヘッドを求め、該利用可能有効吸込ヘッドを前記デバイスと関連する必要有効吸込ヘッドと比較するステップが含まれる、請求項19記載の方法。
- 前記自動的に収集するステップには、前記デバイスの前記利用可能有効吸込ヘッドと前記必要有効吸込ヘッドとの比を計算し、該比を所定のしきい値と比較するステップが含まれる、請求項24記載の方法。
- 前記デバイス内にキャビテーションが検出された場合、ユーザに警告するステップをさらに有する、請求項19記載の方法。
- 前記特性曲線を格納するステップには前記デバイスの必要有効吸込ヘッドを規定する特性曲線を格納するステップが含まれる、請求項19記載の方法。
- 前記特性曲線を格納するステップには前記デバイスの電圧―電流特性曲線を格納するステップが含まれ、前記収集するステップには前記デバイスの一または複数の電気的動作パラメータを収集するステップが含まれ、前記自動的に検出するステップには前記デバイスの前記電圧―電流特性曲線に従って前記デバイスが動作しているか否かを検出するために前記デバイスの前記電気的動作パラメータを利用するステップが含まれる、請求項19記載の方法。
- 前記自動的に検出するステップには前記デバイス内のキャビテーションの存在を自動的に検出すべくエキスパートエンジンを利用するステップが含まれる、請求項19記載の方法。
- 前記エキスパートエンジンを利用するステップにはニューラルネットワークを利用するステップが含まれる、請求項29記載の方法。
- 前記エキスパートエンジンを利用するステップには傾向分析を利用するステップが含まれる、請求項29記載の方法。
- 前記エキスパートエンジンを利用するステップにはフラクタル解析エンジンを利用するステップが含まれる、請求項29記載の方法。
- プロセッサを有するプラントにおけるデバイス内のキャビテーションの存在を検出するのに利用される監視システムであって、
メモリと、
前記メモリに格納され、前記デバイスの動作中に、前記デバイスに関連する一または複数の直接測定し易い動作パラメータを収集すべく前記プロセッサにより実行されるように構成される収集手段と、
電圧―振幅曲線であるまたは前記デバイスの必要有効吸込ヘッドを規定する曲線である、前記メモリに格納されている前記デバイスに関連する特性曲線と、
前記メモリに格納され、前記デバイス内にキャビテーションが存在するかを判断するために前記一または複数の動作パラメータを前記特性曲線と比較すべく前記プロセッサにより実行されるように構成される監視手段と
を備えてなる監視システム。 - 前記監視手段は、前記デバイス内にキャビテーションが存在するかを判断するために前記デバイスの動作性能の劣化を検出すべく前記動作パラメータを利用するように構成されている、請求項33記載の監視システム。
- 前記監視手段は、前記動作パラメータから前記デバイス内で利用可能な有効吸込ヘッドを求め、前記デバイス内にキャビテーションが存在するかを判断すべく、該利用可能有効吸込ヘッドと必要有効吸込ヘッドとを比較するように構成される、請求項33記載の監視システム。
- 前記監視手段にはエキスパートエンジンが含まれる、請求項33記載の監視システム。
- プロセスプラントにおいて利用されるフィールドデバイスであって、
プロセッサと、
メモリと、
電圧―振幅曲線であるまたは前記デバイスの必要有効吸込ヘッドを規定する曲線である、前記メモリに格納されている前記デバイスに関連する特性曲線と、
前記メモリに格納され、前記プロセスプラントの稼動に関連する一または複数の直接測定し易い動作パラメータを収集すべく前記プロセッサにより実行されるように構成される収集手段と、
前記メモリに格納され、前記プロセスプラント内にキャビテーションが存在するかを判断するために前記一または複数の動作パラメータを前記特性曲線と比較すべく前記プロセッサにより実行されるように構成された監視手段と
を備えてなるフィールドデバイス。 - 前記監視手段は、前記プロセスプラント内にキャビテーションが存在するかを判断するために前記プロセスプラント内のデバイスの動作性能の劣化を検出すべく前記動作パラメータを利用するように構成されている、請求項37記載のフィールドデバイス。
- 前記監視手段は、前記動作パラメータから前記デバイス内の利用可能な有効吸込ヘッドを求め、前記デバイス内にキャビテーションが存在するかを判断すべく該利用可能有効吸込ヘッドと必要有効吸込ヘッドとを比較するように構成される、請求項37記載のフィールドデバイス。
- ポンプメカニズムをさらに有する請求項37記載のフィールドデバイス。
- 前記ポンプメカニズムにはインペラが含まれる、請求項40記載のフィールドデバイス。
- 圧力センサをさらに有する請求項40記載のフィールドデバイス。
- 流量センサをさらに有する請求項40記載のフィールドデバイス。
- 圧力センサと流量センサとをさらに有する請求項40記載のフィールドデバイス。
- 前記監視手段にはエキスパートエンジンが含まれる、請求項37記載のフィールドデバイス。
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