JP4078815B2 - Electroformed thin blade whetstone - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子材料等の切断加工に用いられる電鋳薄刃砥石に関し、とくに、ポリイミドテープ等の延性材料層とモールド樹脂等の硬性材料層とを有する電子材料の切断加工に用いられる電鋳薄刃砥石に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、電子部品を製造する方法として、例えば、一枚のポリイミドテープからなる延性材料層の上に、個々の電子部品の基材となるモールド樹脂層からなる硬性材料層を一つ一つ隙間を介して複数形成し、さらに、それらモールド樹脂層の上にそれぞれCu等からなるパターンを形成した後、樹脂によってこのパターンを封止した電子材料を、パンチによって個々のモールド樹脂層同士の間に位置するポリイミドテープの部分を打ち抜いたり、カッターによって同じく個々のモールド樹脂層同士の間に位置するポリイミドテープの部分を切断するようにして電子部品を製造していた。
【0003】
ところが最近では、一度に製造できる電子部品の数を増やすことや、ポリイミドテープの効率的な利用が考慮され、一枚のポリイミドテープの上に、個々のモールド樹脂層をそれぞれ間隔をおいて複数形成するのではなくて、一枚のモールド樹脂層を形成してから切断することにより電子部品を製造する方法が採用されている。
すなわち、図3に示すように、一枚のポリイミドテープ2の上に、その全面に亘ってモールド樹脂層3を形成し、さらに、そのモールド樹脂層3の上に、個々の電子部品のパターンを一つ一つ形成した後、樹脂によってこのパターンを封止した電子材料1を、図3における切断線Aで、ポリイミドテープ2及びモールド樹脂層3をともに切断することにより個々の電子部品を製造することになる。
この場合、ポリイミドテープ2のみならず、その上に位置する硬いモールド樹脂層3までも切断する必要が生じてくるため、従来のようにパンチやカッターではなく、例えば、ダイヤあるいはcBNの超砥粒を金属結合相中に分散配置してなる電鋳薄刃砥石を用いて上記のような電子材料1を切断加工していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ダイヤの超砥粒を金属結合相中に分散配置してなる電鋳薄刃砥石を用いて、上記のような電子材料1を切断した場合には、ダイヤ自身は摩耗しないため、長い寿命を得ることができるものの、この超砥粒として使用されるダイヤの形状に関わらず、モールド樹脂層3の下に位置するポリイミドテープ2の切断加工跡に過大なバリが発生してしまうことになる。
一方、cBNの超砥粒を金属結合相中に分散配置してなる電鋳薄刃砥石を用いて、上記のような電子材料を切断加工したとしても、加工初期のうちはポリイミドテープ2にバリが発生するのを抑制する効果が得られるが、この超砥粒として使用されるcBNが耐摩耗性に乏しいために寿命が短いという欠点があり、しかも硬いモールド樹脂層3を切断加工していくうちに、その耐摩耗性の欠乏ゆえにcBN自身が摩耗してくると、研削抵抗が上昇し、やはりポリイミドテープ2の切断加工跡にバリが発生してしまうことは免れない。
【0005】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたもので、たとえ延性材料と硬性材料とからなるワークに対してもバリの発生を抑制でき、かつ、寿命の長い電着薄刃砥石を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決して、このような目的を達成するために、本発明は、金属結合相中に超砥粒が分散配置され、ポリイミドテープからなる延性材料層とモールド樹脂からなる硬質材料層とを有する電子材料の切断加工に用いられる電鋳薄刃砥石において、前記超砥粒として、cBNとダイヤとの混粒が用いられており、前記cBNの平均粒径は、前記ダイヤの平均粒径の50〜200%であって、前記金属結合相中に、前記cBNとダイヤとが均一に分散するように配置されていることを特徴とする。
このような構成とすると、cBNとダイヤとの相乗効果によって、たとえ、延性材料と硬性材料とからなるワークを切断加工したとしても、硬性材料を確実に切断加工できるとともに延性材料の切断加工跡にバリが発生するの抑制し、かつ、長い寿命を確保することが可能になる。
また、前記cBNの平均粒径は、前記ダイヤの平均粒径の50〜200%であるので、耐摩耗性の向上と、バリの抑制とを両立できるという優れた効果を、より確実なものとすることができる。ここで、cBNの平均粒径が、ダイヤの平均粒径の50%より小さいと、cBNよりもダイヤの特性が目立つこととなり、バリの発生を抑制しきれない。一方、cBNの平均粒径が、ダイヤの平均粒径の200%より大きいと、ダイヤよりもcBNの特性が目立つこととなり、耐摩耗性が劣ってしまう。
【0007】
また、前記超砥粒は、前記金属結合相の5〜35vol%であることを特徴とする。
ここで、超砥粒が金属結合相の5vol%より小さいと、超砥粒の含有量が少なすぎるため、切断加工が不可能になってしまう。一方、超砥粒が金属結合相の35vol%より大きいと、超砥粒の含有量が多すぎるため、金属結合相の強度が低下するとともに、一度にワークに作用する超砥粒の数が多くなって切れ味が劣化してしまう。
【0008】
また、前記cBNは、前記超砥粒の20〜90vol%であることを特徴とする。
ここで、cBNが超砥粒の20vol%より小さいと、ダイヤに対してcBNの割合が小さすぎてしまい、バリの発生を抑制する効果が得られず、一方、cBNが超砥粒の90vol%より大きいと、cBNに対してダイヤの割合が小さすぎることとなり、耐摩耗性を向上させる効果が得られない。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を添付した図面を参照しながら説明する。
図1は本実施形態による電鋳薄刃砥石の刃先部の拡大断面図、図2は同電鋳薄刃砥石の平面図である。
【0011】
本実施形態による電鋳薄刃砥石10は、図1及び図2に示すように、厚みが数十μm〜数百μmの範囲に設定された略リング型薄板状を呈し、その全体が砥粒層とされるとともに、外周側部分がリング状をなす刃先部11とされる。
この電鋳薄刃砥石10は、例えばNi,Coまたはこれらの合金等からなる金属結合相12中に、超砥粒15として、cBN13とダイヤ14との混粒を分散配置したものであり、より詳しくは、金属結合相12中に、cBN13とダイヤ14とがともに均一に分散するように配置されている。
【0012】
また、cBN13及びダイヤ14からなる超砥粒15は、金属結合相12に対して15〜35vol%とされ、かつ、cBN13が超砥粒15に対して20〜90vol%とされている。
さらに、cBN13の平均粒径は、ダイヤ15の平均粒径の50〜200%とされている。
【0013】
また、刃先部11には、切断加工時に生じる削り屑を取り込むとともに外部に排出しやすくして目詰まりを生じにくくし、かつ、冷却水を切断加工面により多く導く目的から、外周縁から径方向内周側に向けて所定間隔で複数のスリット16が形成されている。このスリット16は、例えば電鋳薄刃砥石10の外周縁を、ワイヤー等を用いた放電加工、または砥石等を用いた研削加工を施して所定の形状に削り取ることで形成されるものである。
【0014】
このような電鋳薄刃砥石10は、その内周側部分が取り付け用フランジで挟持されて砥石軸に装着されるとともにナットで締め付け固定され、そして、砥石軸の軸線回りに回転されつつ外周側部分の刃先部11で、図3に示すようなポリイミドテープ2とモールド樹脂層3とが積層されてなる電子材料1を切断線Aに沿って切断加工していく。
【0015】
本実施形態による電鋳薄刃砥石10によれば、超砥粒15として、cBN13とダイヤ14との混粒を用いたことにより、それらの相乗効果、すなわち、cBNのバリを抑制する効果とダイヤによる耐摩耗性の確保という効果の両立を図ることが可能となり、たとえ、上記のようなポリイミドテープ2の上にモールド樹脂層3が積層されている電子材料1を切断加工する際であっても、この硬いモールド樹脂層3を確実に切断加工できるとともに、ポリイミドテープ2の切断跡にバリが発生するのを抑制することが可能となり、しかも、耐摩耗性を確保して長い寿命を得ることができる。
【0016】
また、超砥粒15の、金属結合相12に対する割合が小さすぎると、切断加工に供される超砥粒が少なくなりすぎ、切断加工が不可能になってしまう。一方、超砥粒15の金属結合相12に対する割合が大きすぎると、金属結合相12の強度が低下するとともに、一度にワークに作用する超砥粒の数が多くなって切れ味が劣化してしまう。それゆえ、本実施形態においては、超砥粒15を金属結合相12の5〜35vol%と最適な範囲に設定したことにより、安定した切断加工を維持しつつ、しかも、金属結合相12の強度低下を招いたり、切れ味を落としてしまってバリの発生を促してしまうこともない。
なお、上述したような効果をより確実なものとするためには、超砥粒15が、金属結合相12の10〜30vol%の範囲となるように設定するのが好ましい。
【0017】
また、cBN13の超砥粒15に対する割合が小さすぎると、ダイヤ14に対してcBN13の量が小さくなりすぎ、バリの発生を抑制する効果が得られず、一方、cBN13の超砥粒15に対する割合が大きすぎると、cBN13に対してダイヤ14の量が小さすぎてしまい、耐摩耗性を向上させる効果が得られない。それゆえ、本実施形態においては、cBN13を超砥粒15の20〜90vol%と最適な範囲に設定したことにより、耐摩耗性の向上と、バリの抑制とを両立できることとなる。
なお、上述したような効果をより確実なものとするためには、cBN13が、超砥粒15の50〜70vol%の範囲となるように設定するのが好ましい。
【0018】
また、cBN13の平均粒径がダイヤ14の平均粒径に対して小さすぎると、cBNによってもたらされる効果が薄れ、ダイヤの特性のみが目立つことで、バリの発生を抑制しきれないこととなり、一方、cBN13の平均粒径がダイヤ14の平均粒径に対して大きすぎると、ダイヤによってもたらされる効果が薄れ、cBNの特性のみが目立つことで、耐摩耗性が劣ってしまう。それゆえ、本実施形態においては、cBN12の平均粒径を、ダイヤ13の平均粒径の50〜200%と最適な範囲に設定したことにより、耐摩耗性の向上と、バリの抑制とを両立できるという優れた効果を、より確実なものとすることができる。
【0019】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明による電鋳薄刃砥石は、超砥粒として、cBNとダイヤとの混粒を用い、cBNの平均粒径を、ダイヤの平均粒径の50〜200%として、金属結合相中に、cBNとダイヤとを均一に分散するように配置したことにより、これらcBNとダイヤとの相乗効果によって、たとえ、延性材料と硬性材料とからなるワークを切断加工したとしても、硬性材料を確実に切断加工できるとともに延性材料にバリが発生するのを抑制することができ、しかも、耐摩耗性を確保して寿命の延長を図ることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本実施形態による電鋳薄刃砥石の刃先部の拡大断面図である。
【図2】 本実施形態による電鋳薄刃砥石の平面図である。
【図3】 ワークとしての電子材料を示す断面図である。
【符号の説明】
1 電子材料(ワーク)
2 ポリイミドテープ(延性材料層)
3 モールド樹脂(硬質材料層)
10 電鋳薄刃砥石
11 刃先部
12 金属結合相
13 cBN
14 ダイヤ
15 超砥粒[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an electroformed thin blade grindstone used for cutting of electronic materials and the like, and in particular, an electroformed thin blade used for cutting of electronic materials having a ductile material layer such as polyimide tape and a hard material layer such as a mold resin. It relates to a grindstone.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as a method of manufacturing an electronic component, for example, a hard material layer composed of a mold resin layer serving as a base material of each electronic component is formed on a ductile material layer composed of a single piece of polyimide tape. After forming a pattern made of Cu or the like on each of the mold resin layers, the electronic material sealed with this pattern is placed between the mold resin layers by punching. An electronic component is manufactured by punching out a portion of the polyimide tape to be cut or cutting a portion of the polyimide tape located between the individual mold resin layers with a cutter.
[0003]
However, recently, considering the increase in the number of electronic components that can be manufactured at one time and the efficient use of polyimide tape, a plurality of individual mold resin layers are formed on a single polyimide tape at intervals. Instead, a method of manufacturing an electronic component by forming a single mold resin layer and then cutting it is employed.
That is, as shown in FIG. 3, a
In this case, since it is necessary to cut not only the
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, when the above-described electronic material 1 is cut using an electroformed thin blade grindstone in which diamond superabrasive grains are dispersed and arranged in a metal binder phase, the diamond itself does not wear, and thus a long life is obtained. Although it can be obtained, regardless of the shape of the diamond used as the superabrasive grain, an excessive burr is generated in the cutting trace of the
On the other hand, even if the above-mentioned electronic material is cut using an electroformed thin blade whetstone in which cBN superabrasive grains are dispersed and arranged in a metal binder phase, burrs are not formed on the
[0005]
The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide an electrodeposited thin blade grindstone that can suppress the occurrence of burrs even for a workpiece made of a ductile material and a hard material, and has a long life. And
[0006]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-described problems and achieve such an object, the present invention provides a hard material layer made of a ductile material layer made of polyimide tape and a hard resin layer in which superabrasive grains are dispersed and arranged in a metal binder phase. In the electroformed thin-blade grindstone used for cutting an electronic material having the above, a mixed grain of cBN and diamond is used as the superabrasive grain, and the average grain diameter of the cBN is the average grain diameter of the diamond The cBN and diamond are arranged so as to be uniformly dispersed in the metal bonded phase.
With such a configuration, due to the synergistic effect of cBN and diamond, even if a workpiece made of a ductile material and a hard material is cut and processed, the hard material can be cut reliably, and the cut trace of the ductile material can be obtained. It is possible to suppress the generation of burrs and ensure a long life.
In addition, since the average particle size of the cBN is 50 to 200% of the average particle size of the diamond, the excellent effect that both improvement of wear resistance and suppression of burrs can be achieved more reliably. can do. Here, when the average particle size of cBN is smaller than 50% of the average particle size of diamond, diamond characteristics are more conspicuous than cBN, and the generation of burrs cannot be suppressed. On the other hand, when the average particle size of cBN is larger than 200% of the average particle size of diamond, the characteristics of cBN are more conspicuous than diamond and wear resistance is inferior.
[0007]
The superabrasive grains may be 5 to 35 vol% of the metal binder phase.
Here, when the superabrasive grains are smaller than 5 vol% of the metal binder phase, the content of the superabrasive grains is too small, so that the cutting process becomes impossible. On the other hand, when the superabrasive grain is larger than 35 vol% of the metal binder phase, the content of the superabrasive grain is too large, so that the strength of the metal binder phase is reduced and the number of superabrasive grains acting on the workpiece at a time is large. The sharpness will deteriorate.
[0008]
The cBN is 20 to 90 vol% of the superabrasive grains.
Here, when cBN is smaller than 20 vol% of the superabrasive grains, the ratio of cBN to the diamond is too small, and the effect of suppressing the generation of burrs cannot be obtained. On the other hand, cBN is 90 vol% of the superabrasive grains. If it is larger, the ratio of diamond to cBN is too small, and the effect of improving wear resistance cannot be obtained.
[0010]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
FIG. 1 is an enlarged sectional view of a cutting edge portion of an electroformed thin blade grindstone according to the present embodiment, and FIG. 2 is a plan view of the electroformed thin blade grindstone.
[0011]
As shown in FIGS. 1 and 2, the electroformed
This electroformed
[0012]
Further, the
Furthermore, the average particle size of cBN13 is 50 to 200% of the average particle size of
[0013]
In addition, the
[0014]
Such an electroformed thin-
[0015]
According to the electroformed
[0016]
Moreover, when the ratio with respect to the
In order to make the above-described effect more reliable, it is preferable to set the
[0017]
Moreover, when the ratio of cBN13 to superabrasive
In addition, in order to make the above-described effect more reliable, it is preferable to set the
[0018]
On the other hand, if the average particle size of cBN13 is too small with respect to the average particle size of
[0019]
【The invention's effect】
As described above, the electroformed thin-blade grindstone according to the present invention uses a mixed grain of cBN and diamond as superabrasive grains, and the average particle diameter of cBN is 50 to 200% of the average grain diameter of diamond. By arranging so that cBN and diamond are uniformly dispersed in the binder phase , even if a work made of a ductile material and a hard material is cut by the synergistic effect of these cBN and diamond, It is possible to reliably cut the hard material and to suppress the occurrence of burrs in the ductile material, and to ensure wear resistance and extend the life.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an enlarged cross-sectional view of a cutting edge portion of an electroformed thin blade grindstone according to the present embodiment.
FIG. 2 is a plan view of an electroformed thin blade grindstone according to the present embodiment.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an electronic material as a workpiece.
[Explanation of symbols]
1 Electronic material (work)
2 Polyimide tape (ductile material layer)
3 Mold resin (hard material layer)
10 Electroformed Thin
14
Claims (3)
前記超砥粒として、cBNとダイヤとの混粒が用いられており、前記cBNの平均粒径は、前記ダイヤの平均粒径の50〜200%であって、前記金属結合相中に、前記cBNとダイヤとが均一に分散するように配置されていることを特徴とする電鋳薄刃砥石。In an electroformed thin blade grindstone used for cutting an electronic material in which superabrasive grains are dispersed and arranged in a metal binder phase and have a ductile material layer made of polyimide tape and a hard material layer made of mold resin ,
As the superabrasive grains, a mixed grain of cBN and diamond is used, and the average grain size of the cBN is 50 to 200% of the average grain size of the diamond, An electroformed thin-blade grindstone, wherein cBN and diamond are arranged so as to be uniformly dispersed.
前記超砥粒は、前記金属結合相の5〜35vol%であることを特徴とする電鋳薄刃砥石。In the electroformed thin blade grindstone according to claim 1,
The superabrasive grain is 5 to 35 vol% of the metal binder phase.
前記cBNは、前記超砥粒の20〜90vol%であることを特徴とする電鋳薄刃砥石。In the electroformed thin blade grindstone according to claim 1 or claim 2,
The electroformed thin-blade grindstone, wherein the cBN is 20 to 90 vol% of the superabrasive grains.
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