JP4063974B2 - ガススプリング装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はガススプリング装置に係り、特に高さ調整を行うのに適したガススプリングに関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、椅子に着座したときの座り心地を良好にするためには、ガススプリング装置を介して座部を支持する構成が広く用いられており、この椅子に用いられたガススプリング装置としては、例えば特開平５−２９６２７４号公報等に記載されたものが知られている。
【０００３】
また、この種のガススプリング装置が取り付けられた椅子は、ガススプリング装置内を２つのガス室に画成する画成部の通路を開いて２室を連通状態とすることにより加圧されたガスが２室を移動できるようにする。これにより、利用者の体格等に応じて椅子の座部の高さ位置が調整されるようになっている。
例えば座部の高さ位置を調整する場合には、レバー等の操作によってガススプリング装置に内蔵された弁機構を連通状態に動作させて各ガス室間を連通させることにより、座部に連結されたガススプリング装置のピストンロッドが昇降動作可能な状態となる。
【０００４】
これにより、ピストンロッドが伸縮可能な状態となるから、座部に体重をかけて加圧ガスの圧力よりも大きな外力で該座部を下向きに抑圧することにより、ピストンロッドをガススプリング装置内に挿入させて座部を低くする。
一方、座部の高さ位置をより高くする場合には、上記と同様に弁機構を操作してピストンロッド及びピストンの移動を許した状態で座部への外力、すなわち腰を浮かすことにより座部にかかる体重による負荷を取除く。これにより、座部に連結されたピストンロッド及びピストンが加圧ガスの圧力によって上方に押し上げられ、ガススプリング装置の上部からのピストンロッドの突出長さが長くなり、ピストンロッドの伸長動作により座部を高くする。そして、座部の高さを調整したら弁機構の操作を解除することにより、各ガス室間を再度遮断し、この位置で座部を固定する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述した従来技術によるものでは、座部の高さ位置を調整する場合には、必ずレバー等によって外部から弁機構を操作しなくてはならず、座部の高さ調整時の操作が面倒である。
また、レバーによって弁機構を操作していない状態では、座部の高さ位置が固定された状態となるから、座部に人が着座していなくても前回調整された高さ位置で座部が固定されてしまうという問題がある。
【０００６】
また、上記のような問題を解消するために座部に人が着座しない無負荷状態のとき、ガススプリング装置のピストンロッド及びピストンが上動して自動的に高さ調整前の原点位置に復帰させる構成とすることが考えられている。しかしながら、このような高さ方向のオートリターン機構をガススプリング装置に装着した場合、同じ人が席を立つたびに座部が原点位置に上昇してしまい、着座の際にはその都度、座部の高さ位置を調整しなればならず、その操作が面倒であるといった問題が生じる。
【０００７】
また、ピストンに弁機構を設けた構成のものでは、自動復帰機能作動時のスピードコントロールバルブをメインバルブの先端に配置してたため、ピストン下室側に伸び速度調整用のオリフィス機構部が突出する構造となり、その分ガススプリング装置の基本長（全長）が長くなり、適用できる椅子が限定されていた。また。また、ピストン下室側のガス室体積が小さくなるため、座り心地が低下する要因となっていた。
【０００８】
さらに、プッシュバルブの操作力が重くなるため、例えば力の弱い利用者が操作する場合には、椅子のレバーを押し切れないおそれがあった。
そこで、本発明は上記問題を解決したガススプリング装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は以下のような特徴を有する。
上記請求項１記載の発明は、内部に加圧ガスが封入されたチューブと、一端が該チューブから突出し他端が前記チューブ内に摺動可能に挿通され前記チューブの内部を２つの室に画成する隔壁部を有する中空ロッドと、該中空ロッドの中空部に挿通され前記中空ロッドの突出長さを調整する際に押圧操作されて前記チューブ内の２室を連通させる操作ピンとを有するガススプリング装置において、
前記チューブ及び前記中空ロッドに軸方向に外力が作用していない無負荷状態では前記２室間を第１流路で連通し、軸方向に外力が作用した負荷状態では前記ロッドと操作ピンの相対変位により前記２室間を遮断し、さらに前記中空ロッドの軸方向の位置を外部より調整する調整操作状態では前記操作ピンの変位により前記第１流路より大きい流路面積を有する第２流路を介して前記２室間を連通する弁機構を設けたことを特徴するものである。
【００１０】
従って、上記請求項１記載の発明によれば、軸方向に外力が作用していない無負荷状態では２室間を第１流路を介して連通する弁機構を設け、第１流路が第２流路より小さな流路面積を有するため、中空ロッドへの負荷を除いてから徐々に中空ロッドが最大突出位置（調整前の原点位置）へ復帰することができる。そのため、中空ロッドへの負荷を除いた後、再度負荷が加えられた場合には、中空ロッドの突出位置があまり変化していないので、面倒な位置調整の操作を行う必要がない。そして、所定時間以上継続して負荷が中空ロッドに加えられなかったときには、中空ロッドが最大突出位置に自動的に復帰する。
【００１１】
また、上記請求項２記載の発明は、上記請求項１記載のガススプリング装置であって、前記弁機構は、前記中空ロッドに形成され、前記チューブ内のロッド側の室と他側の室とを連通する通路と、該通路内に挿入され、小径部と該小径部の他側の室側に設けられた大径部とを有し、前記操作ピンと共動する弁部と、前記通路の他側の室側に設けられ前記大径部と対向した時に前記通路を遮断するシール手段と、からなり、前記無負荷状態では前記大径部が前記シール手段のロッド側の室に位置して前記通路との間に前記第１流路を形成し、負荷状態では前記大径部が前記シール手段と対向して前記通路を遮断し、調整操作状態では前記小径部が前記シール手段と対向して前記第２流路を形成するよう構成されたことを特徴するものである。
【００１２】
従って、上記請求項２記載の発明によれば、操作ピンの変位により弁部の小径部が流路面積を増大し、無負荷状態のとき小さな流路面積を有する第１流路を形成することができるので、比較的簡単な構成で上記請求項１と同様な効果が得られる。
また、上記請求項３記載の発明は、上記請求項１記載のガススプリング装置であって、前記弁機構は、前記中空ロッドに形成され、前記チューブ内のロッド側の室と他側の室とを連通する通路と、該通路内に挿入され、第１の小径部と、該第１の小径部の他側の室側に設けられた大径部と、該大径部の他側の室側に設けられた第２の小径部とを有し、前記操作ピンと共動する第１の弁部と、前記第２の小径部の他側の室側に設けられオリフィス通路を有し前記通路内の摺動部を摺動する隔壁部とを有する第２の弁部と、前記通路の他側の室側に設けられ前記大径部と対向した時に前記通路を遮断するシール手段と、からなり、前記無負荷状態では前記第２の小径部が前記シール手段と対向し、前記隔壁部に設けられたオリフィス通路により前記第１流路を形成し、負荷状態では前記大径部が前記シール手段と対向して前記通路を遮断し、調整操作状態では、前記第１の小径部が前記シール手段と対向すると共に、前記隔壁部が前記通路の摺動部から離間して前記隔壁部の外周に前記第２流路を形成するよう構成されたことを特徴するものである。
【００１３】
従って、上記請求項３記載の発明によれば、無負荷状態では隔壁部に設けられたオリフィス通路により第１流路を形成し、調整操作状態では、隔壁部が通路の摺動部から離間して隔壁部の外周に第２流路を形成するので、上記請求項１と同様な効果が得られると共に、隔壁部にオリフィス通路を設けるので正確な流路面積を確保することができ、最大突出位置への復帰の際の突出速度を正確に設定することが可能となる。
【００１４】
また、上記請求項４記載の発明は、上記請求項１記載のガススプリング装置であって、
前記弁機構によって開閉される流路に連通された第３流路にディスク状に形成された流量調整板を設け、前記第３流路の流路面積は前記第１流路の流路面積より小さく前記流量調整板の厚さ寸法及び流量調整板の外周に形成された切欠の幅寸法により管理されることを特徴とするものである。
【００１５】
従って、上記請求項４記載の発明によれば、弁機構によって開閉される流路に連通された第３流路の流路面積が前記第１流路の流路面積より小さく、また、ディスク状に形成された流量調整板の厚さ寸法及びディスク状の流量調整板の外周に形成された切欠の幅寸法により管理されるため、流路面積を高精度に形成することが可能となり、中空ロッドへの負荷を除いてから徐々に中空ロッドが最大突出位置（調整前の原点位置）へ復帰する際の復帰速度を一定にできる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、図面と共に本発明の実施の形態について説明する。
図１は本発明になるガススプリング装置の一実施例が椅子に装着された状態を示す縦断面図である。また、図２はガススプリング装置の内部構造を示す縦断面図である。
【００１７】
図１及び図２に示されるように、ガススプリング装置１１は、加圧ガスの流れを流通、遮断することにより椅子１２の高さ調整操作を容易に行えるように構成されている。ガススプリング装置１１は、外観的には筒状体からロッドが突出したものであり、その下端には椅子１２の脚部１３が嵌合される。また、ガススプリング装置１１の上端には座部１４が設けられている。
【００１８】
２２は支持筒体で、ガススプリング装置１１の外周側に設けられ、底部開口が底板２３に閉塞された有底円筒状に形成されている。また、底板２３の中央には、後述するチューブ２７が取付けられる取付穴２３Ａが設けられている。
２４は昇降筒で、支持筒体２２の上端開口から軸方向に移動可能に突出している。この昇降筒２４は、後述する弁機構３５の一部を構成するもので、その上端側内周には連結部材２５がかしめ固定されている。また、連結部材２５の中央には、後述するピストンロッド３３の縮径部３３Ｃが摺動可能に挿通する挿通穴２５Ａが形成されている。
【００１９】
また、昇降筒２４の上端開口には、連結部材２５の上側に位置してプランジャ２６が摺動可能に挿嵌され、プランジャ２６には後述する操作ピン３８のピン本体３８Ｂが当接している。
２７はチューブで、昇降筒２４内に軸方向に移動可能に挿嵌されている。また、チューブ２７は、ピストン３２、ピストンロッド３３、弁機構３５等と共にガススブリング装置１１を構成する主要パーツである。
【００２０】
また、チューブ２７の下端開口はキャップ２７Ａによりで閉塞されており、該キャッブ２７Ａの下側にはブラグ２７Ｂが固着されている。そして、チューブ２７は、ブラグ２７Ｂが底板２３の取付穴２３Ａに嵌合した状態で止め輪２８により抜け止めされている。さらに、チューブ２７内部の底部には、オイル２９が充填されている。
【００２１】
３０はロッドガイドで、チューブ２７の上端側にかしめ固定されている。また、３２はピストンで、チューブ２７内に軸方向に摺動可能に挿入され、チューブ２７内を上側ガス室Ｄ（ロッド側の室）と下側ガス室Ｅ（他側の室）とに画成している。
３３はピストンロッドで、下端側がチューブ２７内でピストン３２にかしめにより結合され、これらにより本願発明の中空ロッドを形成している。また、上端側がロッドガイド３０を貫通して上方に突出している。
【００２２】
ピストンロッド３３は、中心がピン挿通穴３３Ａが貫通する中空軸として形成され、その上端側は段部３３Ｂを介して縮径部３３Ｃとなっている。また、縮径部３３Ｃは連結部材２５の挿通穴２５Ａに移動可能に挿通され、止め輸３４によって抜止めされている。
３５はピストン３２に設けられた弁機構で、座部１４の高さ調整をするための第１の弁機能と、座部１４を自動的に上昇させるための第２の弁機能とを兼ね備えている。即ち、弁機構３５は、ピストン２２の中心にピストンロッド３３のピン挿通穴３３Ａと同軸に形成された弁体挿通穴３６Ａと、弁体挿通穴３６Ａと下側ガス室Ｅとを連通する流体通路をなす連通孔３６Ｂと、ピン挿通穴３３Ａ内に軸方向に移動可能に挿嵌された操作ピン３８と、前述した昇降筒２４とから大略構成されている。また、弁体挿通穴３６Ａと連通孔３６Ｂで本願発明の通路３６を構成している。
【００２３】
また、操作ピン３８は、連通孔３６Ｂを連通、遮断する弁体３８Ａと、下端側が弁体３８Ａに当接し、上端側がピン挿通穴３３Ａから上向きに伸長してプランジャ２６に当接したピン本体３８Ｂとから構成されている。
そして、操作ピン３８の上端には、プランジャ２６が取り付けられており、このプランジャ２６の端部には操作レバー４１の一端が当接している。この操作レバー４１は、座部１４の下方に設けられた軸４１ａにより回動可能に支持されており、操作端４１ｂが上方に持ち上げられると、反時計方向に回動してプランジャ２６を下方に押し下げる。
【００２４】
また、昇降筒２４の内部には、ピストンロッド３３が挿通されたバンプラバー４３が嵌合されている。また、チューブ２７の上部には、オイル溜めストッパ４４が嵌合されており、オイル溜めストッパ４４の内周及び外周にはＯリング４４ａ，４４ｂが装着されている。なお、オイル溜めストッパ４４は、チューブ２７内壁にかしめ加工により固定されている。
【００２５】
そして、オイル溜めストッパ４４とロッドガイド３０との間には、シール性を高めてガス漏れを防止するためのオイル４５が充填されている。また、ロッドガイド３０の下方には、オイル４５の流出を防止するオイルシール４６が嵌合されている。
さらに、ピストンロッド３３の長手方向の中間位置には、ピストンロッド３３が上方に移動したときのリバウンドを防止するためのリバウンドストッパ４７が嵌合されている
５１は回転方向のリターン機構で、支持筒体２２と昇降筒２４との間に設けられている。このリターン機構５１は、後述する案内部材５２、昇降部材５３、回転部材５４、ばね部材５６等から大略構成されている。
【００２６】
案内部材５２は、支持筒体２２の内周側にかしめ等により固定されており、昇降筒２４を軸方向と回転方向に案内する。また、案内部材５２の内周側には有底状のばね収容凹部５２Ａが設けられている。また、案内部材５２の上側には後方向に１８０度対向して上下方向に伸長し、昇降部材５３の回転を規制する回止め溝５２Ｂ，５２Ｂが形成されている。
【００２７】
昇降部材５３は、案内部材５２のばね収容凹部５２Ａ内に軸方向にのみ可動に設けられ、内周側で昇降筒２４を回転方向と軸方向に移動可能に支持する。また、昇降部材５３の外周側には回止め溝５２Ｂ，５２Ｂに係合する係合突起５３Ａ，５３Ａが設けられている。また、昇降部材５３の上面は傾斜面５３Ｂとなり、傾斜面５３Ｂは後述の回転部材５４の傾斜面５４Ａと当接、離間するように形成されている。
【００２８】
回転部材５４は、昇降部材５３の上側に設けられ、支持筒体２２の開口側に設けられたラジアル軸受５５によって回転可能に支持されている。また、回転部材５４は、昇降筒２４に対し回転方向に固定され、昇降筒２４を軸方向にのみ可動に支持している。さらに、回転部材５４の下面は、昇降部材５３の傾斜面５３Ｂに当接、離間する傾斜面５４Ａとなっている。
【００２９】
ばね部材５６は、案内部材５２のばね収容凹部５２Ａ内に位置して設けられ、傾斜面５３Ｂと回転部材５４の傾斜面５４Ａとを常時当接する方向に昇降部材５３を付勢している。
このように構成されたリターン機溝５１は、支持筒体２２に対して昇降筒２４が回転すると、昇降部材５３に対して回転部材５４を回転させ、各傾斜面５３Ｂ，５４Ａを離間させる。これにより、昇降筒２４を回転させていた外力を取除いたときには、ばね部材５６の付勢力により上側に移動する昇降部材５３の傾斜面５３Ｂを傾斜面５４Ａに押付けて回転部材５４を回転させる。従って、回転部材５４と共に昇降筒２４が回転し、昇降筒２４は、昇降部材５３の傾斜面５３Ｂと回転部材５４の傾斜面５４Ａとが当接した回転方向の原点位置に戻る。
【００３０】
図３は離席時の弁機構３５の構成を拡大して示す縦断面図である。また、図４は着席時の弁機構３５の動作を拡大して示す縦断面図である。また、図５は上下昇降時の弁機構３５の動作を拡大して示す縦断面図である。
図３に示されるように、弁体３８Ａは、ピストン３２に挿入された下端側に第１弁部３８Ａ１（大径部）と、第２弁部３８Ａ２と、第１弁部３８Ａ１と第２弁部３８Ａ２との間に形成された括れ部３８Ａ３（小径部）とからなる。また、ピン本体３８Ｂには、ピン本体３８Ｂがピストンロッド３３から抜けることを防止する弾性体４８が介在している。
【００３１】
さらに、ピストン３２に挿入されたピストンロッド３３の下端部に保持されたＯリング４９は、第１弁部３８Ａ１の外周との間をシールする。また、ピストン３２の外周には、チューブ２７の内壁との間をシールするＯリング５０が装着されている。
そして、弁体３８Ａの先端側に設けられた第１弁部３８Ａ１の外径Ｄ１は、第２弁部Ａ２の外径Ｄ２よりも僅かに大径であり、且つピストン３２の弁体挿通穴３６Ａの内径Ｄ３よりも小径である（Ｄ２＜Ｄ１＜Ｄ３）。
【００３２】
そのため、加圧されたガスが第１弁部３８Ａ１と弁体挿通穴３６Ａとの間に形成された隙間Ｓａ（第１流路）を通過する場合には、その流路面積が微小であるので、ガスの流量が絞られる。一方、加圧されたガスが第２弁部３８Ａ２と弁体挿通穴３６Ａとの間に形成された隙間Ｓｂ（第２流路）を通過する場合には、その流路面積が隙間Ｓａよりも大きいので、ガスの流量が増大する。
【００３３】
このように第１弁部３８Ａ１と第２弁部３８Ａ２とによって、ガス流量が変化するため、座部１４の高さ調整時には第２弁部３８Ａ２によりガス流量が増大して短時間で調整操作が行えると共に、離席時には第１弁部３８Ａ１によりガス流量が絞られているので、徐々にピストン３２が上動して所定時間経過した時点で座部１４の高さ位置を調整前の原点位置に復帰させることができる。そのため、離席状態になった後、再び着席した場合には、まだ座部１４が高さ方向に原点位置に戻っておらず、着席時に高さ調整操作が不要となる。
【００３４】
また、括れ部３８Ａ３は、弁体挿通穴３６Ａの内径Ｄ３よりも十分に小径な小径部３８Ａ４と、第１弁部３８Ａ１と小径部３８Ａ４との間に形成された第１テーパ部３８Ａ５と、第２弁部３８Ａ２と小径部３８Ａ４との間に形成された第２テーパ部３８Ａ６とからなる。上記連通孔３６Ｂは、離席時において、括れ部３８Ａ３により形成された空間３９に連通される。
【００３５】
尚、上記弁体３８Ａの各外径は、切削加工等により精密加工されて寸法管理できるため、第１弁部３８Ａ１の外径Ｄ１及び第２弁部Ａ２の外径Ｄ２を任意の寸法に正確に加工してガス流量を設定できる。
これにより、弁体３８Ａは、ピストンロッド３３からピン本体３８Ｂが大きく突出した離席状態（無負荷状態）では、図３に示されるように、括れ部３８Ａ３が連通孔３６Ｂに対向する位置に配置させ、連通孔３６Ｂ及び第１弁部３８Ａ１と弁体挿通穴３６Ａとの間に形成された隙間Ｓａを介してガス室Ｄ，Ｅ間を連通する。
【００３６】
また、図４に示されるように、チューブ２７に下向きの荷重が作用してピストンロッド３３の段部３３Ｂが連結部材２５に当接した着席状態（負荷状態）では、第２弁部Ａ２が連通孔３６Ｂの下方に移動すると共に、第１弁部３８Ａ１が弁体挿通穴３６Ａの下端開口部に装着されたＯリング４０（シール手段）に嵌合してシールされる。これにより、ガス室Ｄ，Ｅ間の連通が遮断され、ピストン３２及びピストンロッド３３の移動が制限される。
【００３７】
さらに、図５に示されるように、座部１４の高さ位置を調整するため、ピストンロッド３３の段部３３Ｂを連結部材２５に当接させた状態で操作レバー４１を反時計方向（Ａ方向）に回動操作したときには（上下昇降時）、第１弁部３８Ａ１が弁体挿通穴３６Ａの下端開口部に装着されたＯリング４０より下方に移動する。これにより、下側ガス室Ｅは、連通孔３６Ｂと、第２弁部３８Ａ２と弁体挿通穴３６Ａとの間に形成された隙間Ｓｂと、括れ部３８Ａ３の第１テーパ部Ａ５とＯリング４０との間の隙間Ｓｃを介して上側ガス室Ｄと連通される。
【００３８】
次に、本実施例によるガススブリング装置１１の作動について説明する。
まず、弁機構３５を自動弁機溝として用いる場合について述べる。この場合には、座部１４に着座することで昇降筒２４を下方に移動させると、プランジャ２６に当接した操作ピン３８が連結部材２５とピストンロッド３３の段部３３Ｂとが当接するまで（所定範囲）ビストンロッド３３内に押込まれる。
【００３９】
これにより、弁体３８Ａの大径部３８Ａ２は、図４に示されるように、弁体挿通穴３６Ａの下端開口部に装着されたＯリング４０に嵌合してシールされるため、ガス室Ｄ，Ｅ間を遮断して昇降筒２４の下方への移動をこの位置で規制する。
次に、弁機構３５を高さ調整用弁機構として用いる場合について説明する。
この場合には、図５に示されるように、大径部３８Ａ２がＯリング４０を通過して括れ部３８Ａ３がＯリング４０に対向する。そのため、レバー４１の回動操作によりプランジャ２６を介して操作ピン３８をさらに下向きに押動すると、第２弁部３８Ａ２と弁体挿通穴３６Ａとの間に形成された隙間Ｓｂを介してガス室Ｄ，Ｅ間が連通するから、ガス室Ｄ，Ｅ間でガスを流通させることができる。
【００４０】
この状態で昇降筒２４、ピストンロッド３３を下向きに押圧すると、下側ガス室Ｅのガスが上側ガス室Ｄへ流入することで座部１４の高さ位置を低くすることができる。
さらに、弁機構３５を再度自動弁機構として用いる場合について述べる。
この場合には、座部１４から離座して昇降筒２４への外力を取除き、無負荷状態とすると、ガス室Ｄの圧力により弁体３８Ａがピストン３２に対して上方に移動する。これにより、ガス室Ｄ，Ｅ間は、連通孔３６Ｂ及び第１弁部３８Ａ１と弁体挿通穴３６Ａとの間に形成された隙間Ｓａを介して連通する。この場合、ガスが流れる流路のなかで微小な隙間Ｓａの流路面積が最小であるので、このときのガス流量は、隙間Ｓａによって決まる。
【００４１】
従って、着席状態から離席状態に切り替わると、微小流量のガスがガス室Ｄからガス室Ｅへ流入するため、ピストン３２が徐々に上動することになる。よって、座部１４が高さ方向の原点位置に復帰する速度が微速に抑えられ、離席状態となってから所定時間が経過したとき高さ方向の原点位置に達する。
その結果、ガス室Ｄとガス室Ｅとの受圧面積の差により昇降筒２４及びピストンロッド３３をゆっくりとした速度で徐々に上方に移動させることができる。そのため、一時的に離座して再び着席状態となったとき、すなわち離席してから所定時間が経過する前に着席した場合には、ピストン３２及びピストンロッド３３の上動距離が小さいので、着席したときの高さ調整操作を行う必要がない。
【００４２】
また、座部１４は、離席状態となってから所定時間が経過したとき高さ方向の原点位置に復帰するため、例えば飲食店あるいはパチンコ店等のようにお客が着席している間、及びお客が短時間だけ席を離れたときには、高さ調整の必要がない。そして、座部１４は、上記弁機構３５の離席時の動作により、例えば閉店してから翌日に開店するまでの間に自動的に高さ方向の原点位置に復帰することができるので、開店時には全席が高さ方向の原点位置に上動した状態とすることができる。よって、店員が開店前に各席の高さを原点位置に戻すといった面倒な作業が不要となり、店員の負担を軽減することができる。
【００４３】
尚、上記実施の形態においては、第２弁部３８Ａを設け、弁体挿通穴３６Ａとの間の隙間Ｓｂにより、操作レバー４１を操作した際の最大流量を規制しているが、これに限らず、第２弁部３８Ａを設けずに、最大流量を連通孔３６ｂによって決めても良く、また、隙間Ｓｃによって決め手も良い。
また、上記実施の形態においては、連通孔３６ｂの弁体挿通穴３６Ａ内への開口部が無負荷時に括れ部３８Ａ３に対向して開口したものを示したが、これに限らず、第１弁部３８Ａ１（大径部）の下端より上方に開口すればよい。
【００４４】
図６は本発明の変形例１を説明するための縦断面図である。尚、図６において、前述した図２と同一部分には、同一符号を付してその説明を省略する。
図６に示されるように、変形例のガススプリング装置６１は、弁機構６２以外の構成が上記ガススプリング装置１１と同様な構成となっている。
図７は変形例１の離席状態の弁機構６２を説明するための縦断面図である。
【００４５】
図７に示されるように、弁機構６２は、ピストンロッド３３の下端に取り付けられたガイドチューブ６４と、ガイドチューブ６４の弁体挿通穴６５に挿通され本願発明の第１の弁部を構成する弁体６６と、弁体６６の下端に取り付けられ本願発明の第２の弁部の隔壁部を構成するピストン６７とからなる。ガイドチューブ６４は、チューブ２７内を上側ガス室Ｄと下側ガス室Ｅとに画成している。また、ガイドチューブ６４の内部には、弁体６６が挿通される弁体ガイド部材６８と、ピストン６７が挿通されるピストンガイド部材６９とが挿入されている。尚、弁体ガイド部材６８及びピストンガイド部材６９は、ガイドチューブ６４の下端６４ａが内周側に折曲加工されることによりガイドチューブ６４内に保持される。
【００４６】
弁体ガイド部材６８には、半径方向に貫通された連通孔７０が形成され、さらにガイドチューブ６４にも半径方向に貫通された連通孔７１が形成されている。そして、連通孔７０と連通孔７１との間には、ガイドチューブ６４及び弁体ガイド部材６８により画成された環状空間７２が介在している。そのため、連通孔７０は弁体ガイド部材６８のガイド孔６８Ａに連通され、連通孔７１は上側ガス室Ｄに連通されている。尚、内側の連通孔７０は、外側の連通孔７１よりも小径であり、連通孔７０の流路面積が小さくなっている。
【００４７】
弁体６６は、弁体挿通穴６５に挿通される弁軸６６Ａと、弁軸６６Ａの下端に形成された小径部６６Ｂ（第１の小径部）と、弁体ガイド部材６８のガイド孔６８Ａに挿通される弁部６６Ｃと、弁部６６Ｃより下方に延在してピストン６７の中央孔６７Ａを貫通するピストン支持部６６Ｄとからなる。また、弁部６６Ｃは、小径部６６Ｂとの間に形成されたテーパ部６６Ｃ１と、ガイド孔６８Ａに嵌合する大径部６６Ｃ２と、大径部６６Ｃ２とピストン支持部６６Ｄとの間に形成されたテーパ部６６Ｃ３（第２の小径部）とからなる。
【００４８】
そして、上記弁体６６の弁軸６６Ａの外径Ｄ５は、ガイド孔６８Ａの内径Ｄ６よりも小径であり、小径部６６Ｂの外径Ｄ７よりも大径である。また、大径部６６Ｃ２の外径Ｄ８は、ガイド孔６８Ａの内径Ｄ６よりも僅かに小径であり、且つ弁軸６６Ａの外径Ｄ５よりも大径である（Ｄ７＜Ｄ５＜Ｄ８＜Ｄ６）。そのため、大径部６６Ｃ２とガイド孔６８Ａとの間に形成される隙間Ｓｅ（第１流路）は、弁軸６６Ａとガイド孔６８Ａとの間に形成される隙間Ｓｆ（第２流路）よりも小さいため、上記隙間Ｓｅの流路面積は隙間Ｓｆの流路面積よりも絞られている。
【００４９】
さらに、ガイドチューブ６４と弁体ガイド部材６８との間に保持されたＯリング７３は、弁軸６６Ａの外周との間をシールする。また、弁体ガイド部材６８の外周に装着されたＯリング７４は、ガイドチューブ６４との間をシールする。また、ガイドチューブ６４の外周に装着されたＯリング７５は、チューブ２７の内壁との間をシールする。
【００５０】
図８は弁体６６及びピストン６７を拡大して示す縦断面図である。
図８に示されるように、弁体ガイド部材６８とピストンガイド部材６９との間に保持されたＯリング７６は、弁体６６の大径部６６Ｃ２に嵌合してガス室Ｄ，Ｅ間のガスの流通を遮断するためのシール部材である。そのため、弁体６６のテーパ部６６Ｃ１又はテーパ部６６Ｃ３がＯリング７６の内側に位置するときは、ガス室Ｄ，Ｅ間が連通されている。
【００５１】
尚、弁体６６のテーパ部６６Ｃ１又はテーパ部６６Ｃ３とＯリング７６との間の流路面積は、弁軸６６Ａとガイド孔６８Ａとの間に形成される隙間Ｓｆよりも十分に大きいので、座部１４の高さ位置を調整する際のガスの流量は、隙間Ｓｆの流路面積又は連通孔７０の流路面積によって決まる。
ピストン６７は、ピストン支持部６６Ｄが挿通されて保持される中央孔６７Ａと、ガスを流通させるための通路６７Ｂとが軸方向に貫通され、外周にはピストンガイド部材６９のガイド孔６９Ａ（摺動部）との間をシールするＯリング７７が装着されている。また、ピストンガイド部材６９の開口部６９Ｂは、テーパ状に形成されて下方側の開口面積が大きくなるように形成されている。そのため、ピストン６７がガイド孔６９Ａ内にあるときは、ピストン６７の外周とガイド孔６９Ａとの間がＯリング７７によりシールされている。
【００５２】
そして、後述するように座部１４の高さ位置を調整する際には、ピストン６７がガイド孔６９Ａを通過して開口部６９Ｂに至ると、Ｏリング７７と開口部６９Ｂとの隙間を介してガスが流通してピストンロッド３３が摺動可能となる。また、ピストン６７の上面には、複数の通路６７Ｂ（第３流路）に連通する環状溝６７Ｃの周縁部分に弁座６７Ｄが設けられており、さらに弁座６７Ｄに当接する弁板７８（流量調整板）と、弁板７８を押圧するバネ板７９とが積重されている。
【００５３】
図９は弁板７８の形状を示す平面図である。
図９に示されるように、弁板７８は、外周に切欠７８Ａが所定間隔毎に設けられている。尚、本実施例では、６つの切欠７８Ａが周方向上６０°毎に形成されている。そして、各切欠７８Ａは、弁板７８の中心に向かって延在するように放射状に形成されており、弁座６７Ｄを横切って環状溝６７Ｃに連通する位置まで形成されている。
【００５４】
そのため、弁板７８は、弁座６７Ｄを完全に閉弁しているのではなく、各切欠７８Ａにより通路６７Ｂが開放されている。この切欠７８Ａにより形成される流路面積は、弁板７８の厚さ寸法及び切欠７８Ａの幅及び切欠７８Ａの数によって任意の大きさに設定されている。よって、ピストン６７がガイド孔６９Ａに嵌合されてＯリング７７によりガイド孔６９Ａとの間がシールされている離席状態のときでも、ガス室Ｄ，Ｅのガスは弁板７８の切欠７８Ａを介して流通することができる。
【００５５】
尚、全切欠７８Ａによる流路面積（オリフィス）は、上記大径部６６Ｃ２とガイド孔６８Ａとの間に形成される隙間Ｓｅよりも大きくなるように設定されている。また、上記全切欠７８Ａの流路面積は、連通孔７０の流路面積よりも小さい。そのため、着席時のガス流量は、上記全切欠７８Ａの流路面積によって決まる。
【００５６】
このように弁体６６及びピストン６７の位置によって、ガス流量が変化するため、座部１４の高さ調整時にはピストン６７がピストンガイド部材６９のガイド孔６９Ａを抜けて比較的大きい流路面積でガス室Ｄ，Ｅが連通するので、ガス流量が増大して短時間で調整操作が行える。また、離席時（無負荷状態）では、図７に示されるように、ピストン６７の弁板７８に設けられた各切欠７８Ａ、大径部６６Ｃ２とガイド孔６８Ａとの間に形成される隙間Ｓｅ、連通孔７０、７１を介して比較的小さい流路面積でガス室Ｄ，Ｅが連通する。そのため、上記微小な全切欠７８Ａによりガス流量が絞られているので、徐々にピストンロッド３３、ガイドチューブ６４が上動して所定時間経過した時点で座部１４の高さ位置を調整前の原点位置に復帰させることができる。そのため、離席状態になった後、再び着席した場合には、まだ座部１４が高さ方向に原点位置に戻っておらず、着席時に高さ調整操作が不要となる。
【００５７】
尚、全切欠７８Ａの流路面積は、弁板７８の厚さ及び切欠７８Ａによって決まるので、プレス等の加工で精度良く所定の面積を得られ精密加工が不要となる。従って、着座状態から離座状態に切り替わると、微小流量のガスがガス室Ｄからガス室Ｅへ流入するため、ピストンロッド３３が徐々に上動することになる。よって、座部１４が高さ方向の原点位置に復帰する速度が微速に抑えられ、離座状態となってから所定時間が経過したとき高さ方向の原点位置に達する。
【００５８】
その結果、ガス室Ｄとガス室Ｅとの受圧面積の差により昇降筒２４及びピストンロッド３３をゆっくりとした速度で徐々に上方に移動させることができる。そのため、一時的に離座して再び着座状態となったとき、すなわち離座してから所定時間が経過する前に着座した場合には、ピストン３２及びピストンロッド３３の上動距離が小さいので、着座したときの高さ調整操作を行う必要がない。
【００５９】
図１０は着席状態の弁体６６及びピストン６７を拡大して示す縦断面図である。
図１０に示されるように、着席状態（負荷状態）では、弁体６６の大径部６６Ｃ２が連通孔７０の下方に移動すると共に、Ｏリング７６の内周に嵌合してシールされる。そのため、弁体６６の大径部６６Ｃ２と弁体挿通穴６５との隙間Ｓｅが遮断されてガス室Ｄ，Ｅ間のガスの流通が閉止される。これにより、ピストンロッド３３、ガイドチューブ６４の移動が制限され、座部１４の高さ位置がロックされる。
【００６０】
図１１は座部昇降時の弁体６６及びピストン６７を拡大して示す縦断面図である。
図１１に示されるように、座部１４の高さ位置を調整するため、前述した操作レバー４１を反時計方向（Ａ方向）に回動操作したときには（上下昇降時）、操作ピン３８に下方へ押圧された弁体６６の大径部６６Ｃ２がＯリング７６を通過すると共に、ピストン６７がピストンガイド部材６９のガイド孔６９Ａを通過してテーパ状の開口部６９Ｂに至る。これにより、下側ガス室Ｅは、ピストン６７の外周と開口部６９Ｂとの間に形成された隙間Ｓｇと、テーパ部６６Ｃ１とＯリング７６との隙間Ｓｈと、弁体６６の弁軸６６Ａと弁体挿通穴６５との隙間Ｓｆと、連通孔７０、７１を介して上側ガス室Ｄと連通される。
【００６１】
この場合、着席時よりもガス流量が多いので、座部１４の高さ位置を短時間で且つ容易に調整できる。従って、着席時の第１の弁部と離席時の第２の弁部とを別にして夫々の流路面積比を大きくできるので、高さ調整操作時のガス流量を増大できる。そのため、座部の高さ位置を調整する際の座部の上昇動作がスムーズに行える。
【００６２】
図１２は本発明の変形例２を説明するための縦断面図である。尚、図１２において、前述した図２と同一部分には、同一符号を付してその説明を省略する。
図１２に示されるように、変形例のガススプリング装置８１は、弁機構８２以外の構成が上記ガススプリング装置１１と同様な構成となっている。
また、プランジャ２６は昇降筒２４の上部に取付けられたコイルバネ８０のバネ力により下方に押圧されている。そのため、操作レバー４１を反時計方向（Ａ方向）に回動操作して座部１４の高さ位置を調整する際は、プランジャ２６がコイルバネ８０のバネ力により操作方向に付勢されているので、比較的軽い操作力で操作ピン３８を下方へ移動させることができる。よって、例えば女性や老人等の力の弱い利用者でも比較的容易に座部１４の高さ位置を調整することができる。
【００６３】
尚、コイルバネ８０の反発力（Ｆｓ）は、弁機構８２の反発力（Ｆｂ）がコイルバネ８０の反発力と座部１４の重量（Ｗ）の和より小さいと、後述する操作ピン３８の弁体３８Ａの移動位置による自動復帰機能が作動しないことから次式に基づいて設定する必要がある。
Ｆｂ＞Ｆｓ＋Ｗ … （１）
従って、プランジャ２６への負荷がなければ、コイルバネ８０は常に密着長の状態にて弁機構８２の反発力（Ｆｂ）を受けて弁機構８２に作用するガス圧を緩衝する。
【００６４】
図１３は変形例２の離席状態の弁機構８２を説明するための縦断面図である。図１３及び図１２に示されるように、弁機構８２は、昇降筒２４と、ピストンロッド３３の下端に結合されチューブ２７内を摺動するピストン８３と、ピストン８３の下端開口に挿入されたガイド部材８４と、ピストン８３及びガイド部材８４の内部に挿通された操作ピン３８の弁体３８Ａと、ピストン８３の上部外周に嵌合された環状のＢピストン８５と、Ｂピストン８５の下端とピストン８３の外周に形成された段部８３ａとの間に挿入された流量調整部８６とから大略構成されている。
【００６５】
ピストン８３は、上部にピストンロッド３３が嵌合固定されており、ピストンロッド３３と一体的に昇降動作する。このピストン８３は、中空状に形成され、操作ピン３８の第２弁部３８Ａ２が挿通される挿通孔８３ｂと、ガイド部材８４が挿入されるガイド挿入孔８３ｃとを有する。また、挿通孔８３ｂとガイド挿入孔８３ｃとの間には、操作ピン３８の第２弁部３８Ａ２の外周を液密にシールするＯリング８７が装着されている。
【００６６】
ガイド部材８４は、操作ピン３８の弁体３８Ａが挿入されるガイド孔８４ａが軸方向に貫通しており、ガイド孔８４ａの下端溝８４ｂには弁体３８Ａの外周をシールするＯリング８８が装着されている。後述するように、操作ピン３８の弁体３８Ａは、操作レバー４１の回動操作に応じて軸方向に変位し、Ｏリング８８に対する相対位置が変更されることによりチューブ２７内に充填されたガスの流れを切り替えることができる。
【００６７】
尚、Ｏリング８８が装着される下端溝８４ｂは、ピストン８３の下端部分のかしめ部８３ｄに固定されたバックアップリング８９により形成されており、ガイド部材８４はバックアップリング８９に当接して下方への抜けが防止される。
また、ガイド部材８４には、半径方向に延在する連通孔９０が設けられている。この連通孔９０は、ガイド部材８４の外周に形成された段部８４ｃとピストン８３のガイド挿入孔８３ｃとの間に形成された環状流路９１に連通している。また、環状流路９１の外周側には、ピストン８３を半径方向に貫通する連通孔９２が連通している。
【００６８】
ガイド部材８４の外周には、ガイド挿入孔８３ｃとの間をシールするＯリング９３が装着されており、環状流路９１は上記Ｏリング８７とＯリング９３とにより軸方向の隙間が液密にシールされている。そのため、弁体３８Ａが挿入されるガイド孔８４ａは、連通孔９０、環状流路９１、連通孔９２を介してピストン８３の外周とチューブ２７との間に形成された環状流路９４と連通される。
【００６９】
また、環状流路９４（第３流路）は、下部がピストン８３の下端外周に装着されたＯリング９５により液密にシールされ、上部にＢピストン８５及び流量調整部８６が設けられている。
流量調整部８６は、ピストン８３の外周に形成された段部８３ａに嵌合されたリング状ガイド９６と、リング状ガイド９６の傾斜面９６ａとピストン８３の外周との間をシールするＯリング９７と、Ｏリング９６を押さえるリング状のディスクリテーナ９８と、ディスクリテーナ９８の上面に載置されたリング状の流量調整板９９とからなる。流量調整板９９は、図９に示す弁板７８と同様な形状とされており、外周に複数の切欠９９ａが所定間隔毎に設けられている。この切欠９９ａにより形成される流路面積は、流量調整板９９の厚さ寸法及び切欠９９ａの幅及び切欠９９ａの数によって任意の大きさに設定されている。
【００７０】
よって、流量調整部８６を流通するガス流量は、流量調整板９９の厚さ寸法及び切欠９９ａの幅及び切欠９９ａの数によって決まるため、例えば流量調整板９９の厚さ寸法、切欠９９ａの幅、切欠９９ａの数の何れかを変更することにより任意の流量に調整することができる。また、流量調整部８６は、流量調整板９９をプレス加工により形成できるので、切欠９９ａの幅及び数を高精度に管理することができ、ドリル等で孔加工する場合よりも流量調整の精度の安定化を図ることができる。このように、流量調整板９９の外周に切欠９９ａを設けることにより流路面積を高精度に形成することが可能となり、ピストンロッド３３への負荷を除いてから徐々にピストンロッド３３が最大突出位置（調整前の原点位置）へ復帰する際の復帰速度を一定にできる。
【００７１】
尚、全切欠９９ａによる流路面積（オリフィス）は、他の部分の流路面積よりも小さい。そのため、着席時のガス流量は、上記全切欠９９ａの流路面積によって決まる。
Ｂピストン８５は、ピストン８３の外周に嵌合した状態で流量調整板９９の上面に当接する当接部８５ａが環状に突出しており、上端はさらバネ１００、ワッシャ１０１、ピストン８３の外周に係止された止め輪１０２によって係止される。さらバネ１００は、環状の板バネよりなり、無荷重のときはテーパ状に傾斜した状態であり、Ｂピストン８５をバネ力により下方に押圧している。
【００７２】
そのため、Ｂピストン８５は、常に当接部８５ａを流量調整板９８に押圧した状態に保持されている。そして、伸び方向に高さ調整する際、さらバネ１００は後述するように荷重増大により水平状態に変形する。
また、Ｂピストン８５の外周には、チューブ２７との間を液密にシールするＯリング１０３が装着されている。そして、Ｂピストン８５の内周には、当接部８５ａと流量調整板９８との間に形成された隙間１０４に連通する流路１０５が軸方向に形成されており、且つＢピストン８５の上部には、流路１０４と上側ガス室Ｄとを連通する連通孔１０６が半径方向に形成されている。
【００７３】
尚、Ｂピストン８５は、さらバネ１００の伸縮可能な僅かな距離だけ軸方向に移動することができ、操作ピン３８の弁体３８Ａが軸方向に移動して下側ガス室Ｅのガスを上側ガス室Ｄへ移動させる際のショックを緩和することができる。
また、上記のようにＢピストン８５及び流量調整部８６が、ピストン８３の外周に設けられているので、その分ガイド部材８４の下端から下方に突出する部分がなくなって下側ガス室Ｅの容積を大きくしてガス容量を増大させることができると共に、下側ガス室Ｅの突出寸法を小さくできるので、基本全長が短くなり、取付スペースの小さい椅子にも装着することができる。
【００７４】
ここで、上記のように構成された弁機構８２の動作について説明する。
また、弁体３８Ａは、前述したようにピストン３２に挿入された下端側に第１弁部３８Ａ１（大径部）と、第２弁部３８Ａ２と、第１弁部３８Ａ１と第２弁部３８Ａ２との間に形成された括れ部３８Ａ３（小径部）とからなる。
そして、弁体３８Ａの先端側に設けられた第１弁部３８Ａ１の外径Ｄ１は、第２弁部３８Ａ２の外径Ｄ２よりも僅かに大径であり、且つガイド部材８４のガイド孔８４ａの内径Ｄ３よりも小径である（Ｄ２＜Ｄ１＜Ｄ３）。
【００７５】
そのため、加圧されたガスが第１弁部３８Ａ１とガイド孔８４ａとの間に形成された隙間Ｓａを通過する場合には、その流路面積が微小であるので、ガスの流量が絞られる。一方、加圧されたガスが第２弁部３８Ａ２とガイド孔８４ａとの間に形成された隙間Ｓｂを通過する場合には、その流路面積が隙間Ｓａよりも大きいので、ガスの流量が増大する。
【００７６】
さらに、弁体３８Ａが挿入されるガイド孔８４ａは、連通孔９０、環状流路９１、連通孔９２を介してピストン８３の外周とチューブ２７との間に形成された環状流路９４と連通されており、環状流路９４にはＢピストン８５及び流量調整部８６が設けられている。そのため、環状流路９４に流入したガスは、流量調整部８６を流通する際に任意の流量に調整される。すなわち、下側ガス室Ｅから上側ガス室Ｄへ移動するガス流量は、流量調整板９９の厚さ寸法及び切欠９９ａの幅及び切欠９９ａの数によって高精度に設定される。
【００７７】
このように離席時には流量調整部８６によりガス流量が絞られているので、徐々にピストン３２が上動して所定時間経過した時点で座部１４の高さ位置を調整前の原点位置に復帰させることができる。そのため、離席状態になった後、再び着席した場合には、まだ座部１４が高さ方向に原点位置に戻っておらず、着席時に高さ調整操作が不要となる。
【００７８】
また、括れ部３８Ａ３は、弁体挿通穴３６Ａの内径Ｄ３よりも十分に小径な小径部３８Ａ４と、第１弁部３８Ａ１と小径部３８Ａ４との間に形成された第１テーパ部３８Ａ５と、第２弁部３８Ａ２と小径部３８Ａ４との間に形成された第２テーパ部３８Ａ６とからなる。上記連通孔９０は、離席時において、括れ部３８Ａ３により形成された空間１０７に連通される。
【００７９】
これにより、弁体３８Ａは、ピストンロッド３３からピン本体３８Ｂが大きく突出した離席状態（無負荷状態）では、図１３に示されるように、括れ部３８Ａ３が連通孔９０に対向する位置に配置させ、上記隙間Ｓａ、連通孔９０、環状流路９１、連通孔９２、環状流路９４、流量調整部８６、流路１０４，１０５、連通孔１０６を介してガス室Ｄ，Ｅ間が連通される。
【００８０】
図１４は着席時の弁機構８２の動作を拡大して示す縦断面図である。
図１４に示されるように、着席状態（負荷状態）では、昇降筒２４に下向きの荷重が作用して弁体３８Ａが下方に移動すると共に、第１弁部３８Ａ１がガイド孔８４ａの下端開口部に装着されたＯリング８８に嵌合してシールされる。これにより、ガス室Ｄ，Ｅ間の連通が遮断され、ピストン８３及びピストンロッド３３の移動が制限される。
【００８１】
図１５は上下昇降時の弁機構８２の動作を拡大して示す縦断面図である。
図１５に示されるように、座部１４の高さ位置を調整するため、ピストンロッド３３の段部３３Ｂを連結部材２５に当接させた状態で操作レバー４１を反時計方向（Ａ方向）に回動操作すると、第１弁部３８Ａ１がガイド孔８４ａの下端開口部に装着されたＯリング８８より下方に移動する。これにより、下側ガス室Ｅは、括れ部３８Ａ３の第１テーパ部Ａ５とＯリング８８との間の隙間Ｓｃと、第２弁部３８Ａ２とガイド孔８４ａとの間に形成された隙間Ｓｂと、上記連通孔９０と、環状流路９１、連通孔９２、環状流路９４、流量調整部８６、流路１０４，１０５、連通孔１０６を介して上側ガス室Ｄと連通される。
【００８２】
従って、上記隙間Ｓｃ及び隙間Ｓｂによりガス流量が増大し、短時間で座部１４の高さ調整操作が行える。
ここで、弁機構８２を高さ調整用弁機構として用いる場合について説明する。この場合には、図１５に示されるように、弁体３８Ａの大径部３８Ａ２がＯリング８８を通過して括れ部３８Ａ３がＯリング８８に対向する。そのため、レバー４１の回動操作によりプランジャ２６を介して操作ピン３８をさらに下向きに押動すると、第２弁部３８Ａ２と弁体挿通穴３６Ａとの間に形成された隙間Ｓｂを介してガス室Ｄ，Ｅ間が連通するから、ガス室Ｄ，Ｅ間でガスを流通させることができる。
【００８３】
この状態で例えば座部１４に体重を掛けて昇降筒２４、ピストンロッド３３を下向きに押圧すると、下側ガス室Ｅのガスが上側ガス室Ｄへ流入することで座部１４の高さ位置を低くすることができる。その際、Ｂピストン８５は、さらバネ１００を圧縮して僅かな距離だけ軸方向に移動するため、当接部８５ａが流量調整板９８から僅かに離間して流量調整板９８の流路面積を拡大させてガス流量を増大させる。これにより、座部１４の高さ位置調整時間が短縮される。
【００８４】
さらに、弁機構８２を自動弁機構として用いる場合について述べる。
この場合には、座部１４から離座して昇降筒２４への外力を取除き、無負荷状態とすると、ガス室Ｄの圧力により弁体３８Ａがピストン３２に対して上方に移動する。これにより、ガス室Ｄ，Ｅ間は、上記のように連通孔９０、環状流路９１、連通孔９２、環状流路９４、流量調整部８６、流路１０４，１０５、連通孔１０６を介して連通される。この場合、ガスが流れる流路のなかで流量調整部８６の流量調整板９９の切欠９９ａにより形成される流路面積が最小であるので、このときのガス流量は、流量調整板９９の厚さ寸法及び切欠９９ａの幅及び切欠９９ａの数によって決まる。
【００８５】
従って、着席状態から離席状態に切り替わると、微小流量のガスがガス室Ｄからガス室Ｅへ流入するため、ピストン３２が徐々に上動することになる。よって、座部１４が高さ方向の原点位置に復帰する速度が微速に抑えられ、離席状態となってから所定時間が経過したとき高さ方向の原点位置に達する。
その結果、流量調整板９９の流路面積によりガスの流量を調整して昇降筒２４及びピストンロッド３３をゆっくりとした速度で徐々に上方に移動させることができる。そのため、一時的に離座して再び着席状態となったとき、すなわち離席してから所定時間が経過する前に着席した場合には、ピストン３２及びピストンロッド３３の上動距離が小さいので、着席したときの高さ調整操作を行う必要がない。
【００８６】
尚、上記実施の形態では、ガススプリング装置が椅子の高さ調整用に装着された場合を一例として説明したが、これに限らず、他のものにも適用できるのは勿論である。
また、上記実施の形態では、上記離席状態のときの全切欠７８Ａの流路面積を微小にしてガス流量を絞る構成を一例として説明したが、これに限らず、例えば弁板７８を無くし、ピストン６７の通路６７Ｂにより通路面積を絞ることにより上記のような高さ方向の自動復帰動作が行える。この場合、ドリルの径により流路面積を設定でき、容易な加工で高精度を得られる。
【００８７】
また、上記各実施の形態では、チューブ内にガスを封入し、各弁機構にガスが流通する例を示したが、これに限らず、チューブ２７の下端よりに摺動可能なフリーピストンを摺動可能に設け、このフリーピストンの下側に加圧ガスを封入し、上側には油を封入する様にして、弁機構に油が流通するようにしても良い。この場合、ガスが流入する場合に比べ、大きな抵抗を得ることができ、よりゆっくりと最大長に復帰させる場合に有利である。
【００８８】
【発明の効果】
上述の如く、上記請求項１記載の発明によれば、軸方向に外力が作用していない無負荷状態では２室間を第１流路を介して連通する弁機構を設け、第１流路が第２流路より小さな流路面積を有するため、中空ロッドへの負荷を除いてから徐々に中空ロッドが最大突出位置（調整前の原点位置）へ復帰することができる。そのため、中空ロッドへの負荷を除いた後、短時間の間に再度負荷が加えられた場合には、中空ロッドの突出位置があまり変化していないので、面倒な位置調整の操作を行う必要がない。そして、所定時間以上継続して負荷が中空ロッドに加えられなかったときには、中空ロッドが最大突出位置に自動的に復帰する。
【００８９】
従って、ガススプリング装置が椅子の高さ調整機構に用いられた場合には、椅子の座部から立ち上がってもすぐには座部が上昇せず、ガスの微小な流れによって徐々に座部を上昇させることができる。そのため、椅子の座部から立ち上がった後、再び着座しても面倒な高さ調整の操作を行う必要がなく、操作性を改善できる。また、所定時間以上着座しなかったときには、その間にガスが流通して座部を元の高さ位置に自動的に復帰させることができる。
【００９０】
また、請求項２記載の発明によれば、操作ピンの変位により弁部の小径部が流路面積を増大し、無負荷状態のとき小さな流路面積を有する第１流路を形成することができるので、比較的簡単な構成で上記請求項１と同様な効果が得られる。
また、請求項３記載の発明によれば、無負荷状態では隔壁部に設けられたオリフィス通路により第１流路を形成し、調整操作状態では、隔壁部が通路の摺動部から離間して隔壁部の外周に大きな流路面積を有する第２流路を形成するので、上記請求項１と同様な効果が得られると共に、隔壁部にオリフィス通路を設けるので正確な流路面積を確保することができ、最大突出位置への復帰の際の突出速度を正確に設定することが可能となる。
【００９１】
また、上記請求項４記載の発明によれば、弁機構によって開閉される流路に連通された第３流路の流路面積が前記第１流路の流路面積より小さくディスク状に形成された流量調整板の厚さ寸法及びディスク状の流量調整板の外周に形成された切欠の幅寸法により管理されるため、流路面積を高精度に形成することが可能となり、中空ロッドへの負荷を除いてから徐々に中空ロッドが最大突出位置（調整前の原点位置）へ復帰する際の復帰速度を一定にできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明になるガススプリング装置の一実施例が椅子に装着された状態を示す縦断面図である。
【図２】ガススプリング装置の内部構造を示す縦断面図である。
【図３】離席時の弁機構３５の構成を拡大して示す縦断面図である。
【図４】着席時の弁機構３５の動作を拡大して示す縦断面図である。
【図５】上下昇降時の弁機構３５の動作を拡大して示す縦断面図である。
【図６】本発明の変形例１を説明するための縦断面図である。
【図７】変形例１の離席状態の弁機構６２を説明するための縦断面図である。
【図８】弁体６６及びピストン６７を拡大して示す縦断面図である。
【図９】弁板７８の形状を示す平面図である。
【図１０】着席状態の弁体６６及びピストン６７を拡大して示す縦断面図である。
【図１１】座部昇降時の弁体６６及びピストン６７を拡大して示す縦断面図である。
【図１２】本発明の変形例２を説明するための縦断面図である。
【図１３】変形例２の離席状態の弁機構８２を説明するための縦断面図である。
【図１４】着席時の弁機構８２の動作を拡大して示す縦断面図である。
【図１５】上下昇降時の弁機構８２の動作を拡大して示す縦断面図である。
【符号の説明】
１１，６１，８１ ガススプリング装置
１２ 椅子
１４ 座部
２２ 支持筒体
２４ 昇降筒
２６ プランジャ
２７ チューブ
３０ ロッドガイド
３２ ピストン
３３ ピストンロッド
３５，６２，８２ 弁機構
３６，６５ 弁体挿通穴
３６ 通路
３６Ａ 弁体挿通穴
３６Ｂ 連通孔
３８ 操作ピン
３８Ａ 弁体
３８Ｂ ピン本体
４１ 操作レバー
５１ リターン機構
５２ 案内部材
５３ 昇降部材
５４ 回転部材
５６ ばね部材
６４ ガイドチューブ
６５ 弁体挿通穴
６６ 弁体
６７ ピストン
６８ 弁体ガイド部材
６９ ピストンガイド部材
７０，７１ 連通孔
７８ 弁板
７９ バネ板
８３ ピストン
８４ ガイド部材
８５ Ｂピストン
８６ 流量調整部
９０，９２ 連通孔
９１ 環状流路
９９ 流量調整板
１００ さらバネ

Claims (4)

1. 内部に加圧ガスが封入されたチューブと、一端が該チューブから突出し他端が前記チューブ内に摺動可能に挿通され前記チューブの内部を２つの室に画成する隔壁部を有する中空ロッドと、該中空ロッドの中空部に挿通され前記中空ロッドの突出長さを調整する際に押圧操作されて前記チューブ内の２室を連通させる操作ピンとを有するガススプリング装置において、
   前記チューブ及び前記中空ロッドに軸方向に外力が作用していない無負荷状態では前記２室間を第１流路で連通し、軸方向に外力が作用した負荷状態では前記ロッドと操作ピンの相対変位により前記２室間を遮断し、さらに前記中空ロッドの軸方向の位置を外部より調整する調整操作状態では前記操作ピンの変位により前記第１流路より大きい流路面積を有する第２流路を介して前記２室間を連通する弁機構を設けたことを特徴とするガススプリング装置。
2. 上記請求項１記載のガススプリング装置であって、
   前記弁機構は、
   前記中空ロッドに形成され、前記チューブ内のロッド側の室と他側の室とを連通する通路と、
   該通路内に挿入され、小径部と該小径部の他側の室側に設けられた大径部とを有し、前記操作ピンと共動する弁部と、
   前記通路の他側の室側に設けられ前記大径部と対向した時に前記通路を遮断するシール手段と、からなり、
   前記無負荷状態では前記大径部が前記シール手段のロッド側の室に位置して前記通路との間に前記第１流路を形成し、負荷状態では前記大径部が前記シール手段と対向して前記通路を遮断し、調整操作状態では前記小径部が前記シール手段と対向して前記第２流路を形成するよう構成されたことを特徴とするガススプリング装置。
3. 上記請求項１記載のガススプリング装置であって、
   前記弁機構は、前記中空ロッドに形成され、前記チューブ内のロッド側の室と他側の室とを連通する通路と、該通路内に挿入され、第１の小径部と、該第１の小径部の他側の室側に設けられた大径部と、該大径部の他側の室側に設けられた第２の小径部とを有し、前記操作ピンと共動する第１の弁部と、前記第２の小径部の他側の室側に設けられオリフィス通路を有し前記通路内の摺動部を摺動する隔壁部とを有する第２の弁部と、前記通路の他側の室側に設けられ前記大径部と対向した時に前記通路を遮断するシール手段と、からなり、
   前記無負荷状態では前記第２の小径部が前記シール手段と対向し、前記隔壁部に設けられたオリフィス通路により前記第１流路を形成し、負荷状態では前記大径部が前記シール手段と対向して前記通路を遮断し、調整操作状態では、前記第１の小径部が前記シール手段と対向すると共に、前記隔壁部が前記通路の摺動部から離間して前記隔壁部の外周に前記第２流路を形成するよう構成されたことを特徴とするガススプリング装置。
4. 上記請求項１記載のガススプリング装置であって、
   前記弁機構によって開閉される流路に連通された第３流路にディスク状に形成された流量調整板を設け、前記第３流路の流路面積は前記第１流路の流路面積より小さく前記流量調整板の厚さ寸法及び流量調整板の外周に形成された切欠の幅寸法により管理されることを特徴とするガススプリング装置。

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